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Contacto Nuclear
Por Joel 0. Pacheco Sotelo
El inters en la tecnologa a base de
plasma comenz en 1960. En las si-
guientes dcadas se realizaron las
primeras aplicaciones industriales:
corte, soldadura, spray, sntesis de
partculas ultrafinas, esferodizacin,
iluminacin, por citar algunas. A
partir de los noventa se aprecia un
aumento considerable de las aplica-
ciones del plasma en otros campos
como la ptica, la ciencia de mate-
riales, la electricidad, la electrnica,
la mecnica estadstica, la
magnetohidrodinmica y los altos
vacos, entre otros. Esta intensa actividad ha
motivado que se publique gran cantidad de
artculos cientficos sobre este tema (segun-
do lugar despus de Gentica). El impacto
econmico en la industria equivale a unos 250
mil millones de euros al ao. Tal es el pano-
rama que ofrece este interesante campo del
cual an falta mucho por conocer.
Definicin de plasma
Con el desarrollo, en 1808, de la descarga en
estado estable de arco elctrico con corriente
directa realizado por Humphry Davy y del
tubo de descarga elctrica de alto voltaje con
corriente directa, en 1830, por Michael
Faraday, dio inicio el estudio cient-
fico de la sustancia que se generaba
en estas descargas. Esta sustancia
identificada en 1879 por William
Crookes como el cuarto estado de
la materia, se conoce actualmente
como PLASMA.
El trmino plasma fue introducido
por Irving Langmuir en 1928, en re-
ferencia a una mezcla de tomos
neutros, iones y electrones que casi
presentaba neutralidad elctrica.
Esta mezcla tena la propiedad de
ser sensible a la presencia de cam-
pos elctricos y magnticos. Hoy en
El ININ hoy
El PLASMA,
ese universo de todos... tan desconocido
Esta lmina muestra algunos ejemplos de los diversos plasmas naturales y de investigacin

Densidad electronica (
e
m
-3
)
10
8
10
12
10
16
10
20
10
24

10
0

10
2

10
4

10
-2

espacio
interplanetario
ionosfera
corona solar
flamas
experimentos termonucleares
reactores termonucleares
descarga corona
reactores de pasma
generadores MHD
descargas de radio
frecuencia y arcos
E
n
e
r
g

a

e
l
e
c
t
r

n
i
c
a

p
r
o
m
e
d
i
o

[
e
V
]

ondas de
choque
temperatura
ambiente
densidad
atmosfrica
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Contacto Nuclear
da, el plasma sigue siendo consi-
derado como el cuarto estado de la
materia y representa aproximada-
mente el 98% de la materia del uni-
verso.
El plasma puede existir en un am-
plio intervalo de temperaturas desde
prcticamente la temperatura am-
biente, como, por ejemplo, el plas-
ma contenido en los tubos de luz
fluorescente, hasta temperaturas de
millones de grados centgrados como
sucede en el interior del sol u otras
estrellas.
Para ilustrar un proceso que condu-
ce a la generacin del estado de plas-
ma bajo ciertas condiciones, se pue-
de establecer este sencillo ejemplo.
Cuando se aplica energa trmica a
un bloque de hielo, poco a poco el
medio slido se transforma hasta
convertirse en agua lquida. Cuando
la temperatura es superior a los O
C, a este cambio de fase se le cono-
ce como fundicin o fusin. Si la
temperatura del medio supera los l
00' C y si la presin atmosfrica es
de 760 mm de mercurio, el agua se
evapora pasando a la fase gaseosa,
fenmeno denominado ebullicin. Si
se contina aumentando la tem-
peratura del medio, se llegara a un
momento en el cual la energa trmica es tal
que las molculas de agua se disocian en sus
dos tomos de hidrgeno y el de oxgeno. Al
incrementar an ms la energa trmica del
medio, las frecuentes colisiones entre tomos
neutros motivan que electrones orbitales de
las capas externas abandonen sus tomos ge-
nerando as un gas en el que coexisten to-
mos neutros, electrones libres y tomos
ionizados, es decir, un plasma. En estas con-
diciones, se mantiene siempre una neutrali-
dad elctrica en la escala macroscpica. Sin
embargo, en regiones e intervalos de tiempo
suficientemente pequeos, puede encontrar-
se que la neutralidad elctrica no se mantiene
debido a la agitacin trmica de las partcu-
las del plasma, lo que puede conducir a una
situacin en la que el nmero de partculas
de un signo supere al de partculas del signo
contrario. El grado de ionizacin del plasma
depende de la cantidad de energa tnnica que
se le suministre.
Caractersticas del estado de plasma
Debido a la gran movilidad de los electrones,
los plasmas son buenos conductores elctri-
cos y buenos conductores trmicos. Otra ca-
racterstica de los plasmas es su capacidad
de permitir la propagacin y transmisin de
ondas electrostticas y electromagnticas en
una gran diversidad de modos. Los plasmas
son tambin un buenos emisores de radia-
ciones en un espectro muy amplio. La capa-
cidad para emitir radiacin consti-
tuye una propiedad importante que
permite sondearlo para conocer sus
propiedades y establecer un diag-
nstico de los parmetros que lo ca-
racterizan, tales como: densidades y
temperaturas de los gases de iones,
electrones y neutrones que los com-
ponen, frecuencias de oscilacin ca-
ractersticas, espesor ptico, propie-
dades de transporte, entre otras.
Uno de los aspectos fundamentales
que distingue el comportamiento de
los plasmas del de otros fluidos o
slidos ordinarios, es que cada par-
tcula cargada interacta simult-
neamente con un nmero conside-
rable de partculas cargadas vecinas.
En esta forma se configura un com-
portamiento colectivo, gracias a que
el campo coulombiano de cada car-
ga no alcanza a ser bloqueado por
el campo coulombiano de cargas de
signo opuesto.
Ejemplos de plasmas naturales son:
la ionosfera, que es una capa de plas-
ma que sirve como escudo de pro-
teccin a los seres vivos contra los
rayos ultravioleta del sol. Esta capa
se encuentra entre los 70 y los 300
km por encima de la superficie te-
rrestre. Otro plasma natural que se
presenta de manera espectacular en
la Tierra es la aurora boreal.
El intervalo de temperaturas de los
plasmas creados por el hombre va
desde la temperatura ambiente has-
ta aqullas comparables con las en-
contradas en el interior de las estre-
llas, mientras que el intervalo de den-
sidades es tan amplio como 20 r-
denes de magnitud; es decir, desde
plasmas muy tenues hasta los ms
densos como los de los interiores es-
telares.
Entre los plasmas creados por el
hombre se encuentra el plasma tr-
Revisin de las instalaciones, equipos, sistemas de tierra, as
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Contacto Nuclear
mico, el cual tiene muchas aplica-
ciones industriales, la ms conocida
es la del arco elctrico para sol-
dadura. Este tipo de plasmas est ca-
racterizado por el hecho de que la
temperatura del gas de electrones T
e
es casi igual a la temperatura del
gas de partculas pesadas T
h
(iones,
tomos, etc.), de manera que el es-
tado del plasma se aproxima a uno
de equilibrio trmico y de ah su
nombre. El plasma trmico tiene una
alta densidad electrnica (10
22
a 10
11
partculas/m
3
) y baja energa de los
electrones. Este plasma se puede
producir mediante arcos elctricos,
antorchas de plasma y descargas de
radio frecuencia. Su repetida apli-
cacin en la industria se debe a su
alta densidad de energa, su capaci-
dad para calentar, fundir y, en algu-
nos casos, para lograr la sntesis de
nuevos materiales.
Generacin de plasmas por des-
carga elctrica
En general, un plasma es producido
bajo la influencia de un campo elc-
trico que produce la aceleracin en
los electrones libres hasta que sus
energas se elevan lo suficiente para
que, a travs de colisiones con to-
mos neutros despojen a stos, a su
vez, de electrones, produciendo
ionizacin. Debido a sus propieda-
des fsicas (masa y carga elctrica),
las partculas forman un plasma con
comportamientos diferentes en pre-
sencia de un campo electromagn-
tico. Por su pequea masa, los elec-
trones son ms fciles de acelerar
que los iones y que el resto de las
partculas pesadas; por lo tanto, la
energa cintica de los electrones es
ms importante que la de las otras
partculas, permitiendo as la
ionizacin de otros tomos median-
te colisiones; de manera que la trans-
ferencia de energa del campo elc-
trico est dirigida fundamentalmen-
te por los electrones.
Dentro de la descarga, la columna de arco es
un gas o vapor a muy alta temperatura, fuer-
temente ionizada, de tal forma que puede con-
ducir una corriente elctrica elevada. La co-
lumna est compuesta de electrones, iones y
partculas neutras. En la vecindad de los elec-
trodos, los vapores metlicos producidos por
evaporacin y pulverizacin se mezclan con
el gas modificando profundamente las pro-
piedades locales de la descarga y generando
ciertas zonas obscuras.
La descarga elctrica puede producirse con
corriente continua o alterna (a relativamente
baja frecuencia <400 kHz), o bien, por des-
cargas de radiofrecuencia o de micro-ondas.
Existen diversas configuraciones para gene-
rar estas descargas; dentro del primer caso,
el dispositivo utilizado son los denominados
caones de plasma o antorchas, utilizadas en
diversos procesos industriales y de investiga-
cin.
Los valores de las corrientes tpicas estn
comprendidos en el intervalo de varios cien-
tos de amperes y el voltaje depende del gas
utilizado, teniendo un intervalo de 30 a 1
OOV. La velocidad del chorro (jet) de plas-
ma que emerge de una boquilla, puede alcan-
zar los 1000m/s. El reducido orificio de sali-
da (5-8 mm) de la boquilla genera fuertes
gradientes de temperatura (10
3
K/mm). Cuan-
do este tipo de antorcha es utilizada para re-
vestimiento de superficies, se pueden inyec-
tar polvos con granulometrias entre 5 y 100
mm con tiempos de residencia de fracciones
de milisegundos. La columna del arco alcan-
za temperaturas de entre 12,000 y 26,000 K.
La longitud del chorro depende de la veloci-
dad del flujo de plasma y de la tasa de ocu-
rrencia de los procesos de neutralizacin.
Descarga de radio frecuencia
El plasma tambin puede obtenerse mediante
un acoplamiento inductivo de una bobina ali-
mentada con una corriente senoidal de radio
frecuencia <100 MHz). La bobina rodea un
tubo de material aislante, que puede ser de
cuarzo, con capacidad para soportar tempe-
raturas superiores a los 1000 C, por donde
circula el gas a ionizar. Este ltimo
es el receptor de intensas corrientes
de campo electromagntico que pro-
vocan procesos de lonizacin y como
consecuencia se genera un plasma
trmico en el que se pueden alcan-
zar potencias desde unos cuantos
kilo Watts hasta 400 kW, con di-
metros de 18 mm a 100 mm respec-
tivamente. La principal ventaja del
plasma inductivo es la de no conte-
ner electrodos ni boquillas que res-
trinjan la salida del plasma, lo que
permite mejores condiciones de ope-
racin.
Descarga de microondas
La energa necesaria para la excita-
cin e ionizacin del gas es origina-
da por el campo elctrico obtenido
a partir de una fuente de microondas.
Las frecuencias de operacin van de
1 MHz a 10 GHz (normalmente
2450 MHz) en una cavidad resonan-
te, la cual forma parte del circuito
J et de plasma
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Contacto Nuclear
generador de las microondas. Las
presiones de trabajo van de 10
-3
Pa
a varias centenas de kPa. Los elec-
trones reciben la mayor cantidad de
la energa proveniente del campo
elctrico que oscila a la frecuencia
del generador (magnetrn). Este tipo
de descargas est alejadas del equi-
librio trmico y son ampliamente
utilizadas para el depsito de pel-
culas delgadas.
Tcnicas de diagnstico
Para la caracterizacin de los dife-
rentes tipos de plasma, existen mu-
chas tcnicas de diagnstico que se
adaptan a cada tipo de plasma. Uno
de los mtodos ms utilizados es el
de espectroscopa ptica por emi-
sin/absorcin, ya que es una tcni-
ca no intrusiva y permite obtener
informacin sobre temperaturas y densidades
de partculas a partir de los parmetros de
las lneas espectrales de la radiacin emitida
por el plasma. Otras tcnicas comnmente
usadas son las de lser para determinar den-
sidad de electrones, as como las intrusivas
(sonda entlpica y de Langmuir) cuya ven-
taja es la simplicidad para la obtencin de
datos, pero su gran desventaja consiste en la
perturbacin que producen en el plasma a son-
dean
Aplicaciones industriales de los plasmas
Los plasmas ofrecen principalmente dos ca-
ractersticas de inters industrial: pueden al-
canzar temperaturas y densidades energti-
cas mayores que las obtenidas mediante cual-
quier mtodo convencional y pueden produ-
cir especies activas energticas que inicien
reacciones qumicas o cambios fsicos que di-
fcilmente se producen en reacciones qumi-
cas ordinarias. Las especies activas
pueden incluir fotones de radiacin
ultravioleta y visible, partculas car-
gadas, incluyendo electrones, iones,
radicales libres y especies neutras
altamente reactivas tales como to-
mos excitados de oxgeno, flor, etc.,
as como otros estados atmicos
excitados y fragmentos reactivos
moleculares, como monmeros.
Los campos elctricos contenidos en
los plasmas de baja temperatura pro-
porcionan energa significativa a los
electrones, mientras que el plasma
permanece lo suficientemente fro,
pudiendo establecer reacciones qu-
micas que son importantes dentro de
diversos procesos de inters indus-
trial y cientfico.
Mediante la tecnologa de plasma,
se fabrican semiconductores y dis-
positivos avanzados de microondas.
Otras reas de aplicacin de los di-
versos tipos de plasmas son: el tra-
tamiento trmico, corte y fundicin
de metales, deposicin de materia-
les para recubrimiento de superfi-
cies. sntesis de materiales como es
el caso de la produccin de cermi-
cas ultrafinas, pigmentos, silicio sin-
ttico de alta pureza, etc., estudios
espaciales, particularmente para la
simulacin de reingreso de vehcu-
los a la atmsfera, como tambin
estudios de sistemas de propulsin
espacial, de descargas en gases para
propsitos de iluminacin, genera-
cin y/o transmisin de ondas elec-
tromagnticas, tratamiento de resi-
duos peligrosos como compuestos
organoclorados, bifenilos
policlorados, residuos biolgico in-
fecciosos, residuos reactivos y/o
corrosivos, reduccin, vitrificacin
y confinamiento de residuos
radiactivos slidos, etc. Algunas de
estas aplicaciones sern tratadas en
una entrega posterior.
El ININ hoy

Can de plasma trmico diseado

y construido en el I NI N