Anoda yang dipakai untuk pelapisan nikel (Ni) adalah logam nikel (Ni) murni 99%

Selain nikel logam-logam yang dapat dijadikan sebagai anoda adalah karbon (C), platinum (Pt),
dan titanium. Anoda yang dipakai tidak boleh terkontaminasi oleh larutan klorida (Cl) karena
akan berpengaruh terhadap hasil lapisan yang kurang baik. Pada pelapisan NiCr dilakukan
bertahap, dimana pelapisan nikel (Ni) dilakukan terlebih dahulu dengan komposisi larutan NiSO 4
(250 gr/L), NiCl2 (60 gr/L), dan H3BO3 (45 gr/L), sedangkan untuk pelapisan krom (Cr)
dilakukan setelah pelapisan nikel dengan anoda timbal (Pb) dan katoda logam yang sudah dilapis
nikel (AISI 1005) dengan komposisi larutan HCrO3 (275 gr/L), dan H2SO4 (0,1-1 mL/L) yang
setiap larutan memiliki fungsi tertentu.
Larutan NiSO4 (Nikel Sulfat)
Larutan NiSO4 bertujuan sebagai larutan garam yang mengendapkan ion Ni2+ dikatoda
juga untuk mempercepat pengkorosian pada anoda dan meningkatkan konduktivitas larutan
sehingga struktur kristal pada lapisan lebih halus dan hasil kekerasan meningkat.
Larutan NiCl2 (Nikel Klorida)
Larutan NiCl2 bertujuan untuk meminimalisasi tebentuknya lapisan pasiv pada
permukaan anoda terutama ketika laju pelapisan yang cepat.
Larutan H3BO3 (Asam Borik)
Larutan H3BO3 bertujuan untuk menjaga kestabilan pH pada lapisan katoda sehingga
lapisan yang terbentuk memiliki kualitas yang baik.
Larutan HCrO3 (Asam kromat)
Larutan HCrO3 bertujuan sebagai pelapis pada katoda dengan memanfaatkan ion-ion
krom pada larutan tersebut yang akan menempel pada katoda dengan memanfaatkan larotan
elktrolit pada sel elektrolisis.
Larutan H2SO4 (Asam Sulfat)
Larutan H2SO4 yang ditmbahkan pada larutan HCrO 3 tidak berperan sebagai pelapis,
tetap larutan ini berperan sebagai katalis yang berfungsi untuk mempercepat reaksi.
I.2

Reaksi Pada Larutan

Pelapisan Nikel (Ni)

: NiSO4 Ni2+ + SO42K (-)

: 2Ni2+ + 4e- 2Ni

A (+) : 2H2O 4H+ + O2 + 4ePelapisan Krom (Cr)

: 2CrO3 + 2H2O H2Cr2O72- + H2O + 2Cr+

K (-)

: Cr2O72- + 12e- + 14H+ 2Cr + 7H2O

A (+) : 2Cr+ + 6H2O 2CrO32- + 12H+ +10e-

I.3

TEMPAT PENELITIAN
Nama Perusahaan

: CV. Sinar Cemerlang Jaya

Alamat

: Factory
Jalan Papanggungan Raya No. 7 PURSAD
Office
Jalan Perkebunan II No. 22 Bandung

I.4

Perumusan Masalah
Permasalahan yang akan diselesaikan dalam penelitian ini adalah mencegah retakan

akibat proses mekanik (piercing) dengan cara memvariasikan parameter proses electroplating
yaitu temperatur (T) dan waktu (t). Percobaan dikerjakan pada material AISI 1005, dari hasil
pelapisan tersebut dilakukan pengujian untuk mengetahui perbedaan sifat mekanik yang
dihasilkan pada lapisan tersebut, yaitu pengujian ketebalan lapisan (thickness test), pengujian
kekerasan lapisan (hardness test), dan pengujian korosi secara kabut garam (salt spray test)
untuk mengetahui laju korosi pada benda kerja. Sehingga dengan penguian-pengujian ini
diperoleh parameter pelapisan (coating) yang optimal untuk proses mekanik selanjutnya
(piercing).

I.5

Maksud Dan Tujuan Penelitian

Maksud dari penelitian ini adalah sebagai berikut :

a. Menghindari reject saat produksi massal.
b. Menghindari pengeluaran cost yang besar.
Tujuan dari penelitian ini adalah sebagai berikut :
a.
b.
c.
d.
e.
I.6

Untuk menghindari crack pada saat proses pelubangan (piercing) dan perakitan.
Mengetahui proses pembentukan piercing dan perakitan.
Mengetahui sifat kekerasan lapisan NiCr.
Mengetahui parameter proses electroplating NiCr yang optimal.
Mengetahui ketehanan korosi lapisan NiCr

Batasan Masalah
Adapun batasan masalah yang ada pada laporan tugas akhir ini, yaitu:
-

Proses pelapisan yang diaplikasikan adalah secara elektrolisa.

Benda kerja yang digunakan adalah material AISI 1005 yang ditepatkan pada

katoda.
Anoda yang digunakan untuk pelapisan nikel adalah Ni (nikel).
Campuran larutan elektrolit untuk pelapisan nikel terdiri dari NiSO4 (250 gr/L),

NiCl2 (60 gr/L), dan H3BO3 (45 gr/L).

Dilakukan proses pelapisan krom dekoratif dengan anoda Pb (timbal) yang
terdiri dari campuran larutan HCrO3 (275 gr/L), dan H2SO4 (0,1-1 mL/L) setelah

pelapisan Ni.
Rapat arus di atur secara konstan, untuk pelapisan nikel (Ni) sebesar

A/dm2, sedangkan untuk pelapisan krom dekoratif rapat arus sebesar 25 A/dm2.
Pengujan yang dilakukan terdiri dari ketebalan lapisan (thickness test),
kekerasan lapisan (hardness test), dan kabut garam (salt spray test).

2,5