ACABADCS

Acabado de la madera Duracin al exterior y

meteorizacin por agentes 10s fricos
Pon JOAQU~N WRTIN DiBou~z
3 ABC LASURES

Son bien conocidos los importantes daos que produce la meteorizacin o los agentes atmosfricos en los materiales plsticos. A la hora de estudiar los daos que producen los podemos dividir o clasificar en: macroclima o parmetros ambientales que rodean al recubrimiento, y microclima o climapropio del recubrimiento y de los componentes del entorno directo del recubrimiento (fig. 1). En el macroclimaestn presentes los elementos atmosfricos generales que afectan al recubrimiento de una manera global: radiaciones solares (U.V., I.R., luminosos), humedad atmosfrica, temperatura y oxgeno del aire, y los gases cidos originados por los iones de la polucin. En el microclima se encuentran los parmetros que afectan ms directamente al recubrimiento en el entorno inmediato: el roco prolongado, las radiaciones luminosas cuya energa produce procesos qumicos, los iones de la polucin y el oxgeno del aire. Radiaciones solares En ambos climas, las radiaciones del sol son una de las principales causas de degradacin de los recubrimientos. La absorcin de la luz es generalmente selectiva en los materiales plsticos. La absorcin de energa luminosa por las estructuras qumicas de los polmeros produce su destruccin qumica, que se manifiesta en la fragilidad, decoloracin y grietas del producto. Esta degradacin se produce cuando la energa absorbida es

superior a la de disociacin de un determinado enlace y este se rompe. Cuando un plstico absorbe la energa electromagntica asocada a unadeterminada longitud de onda, se disipa en dos efectos distintos: uno afecta al y el otro produce la fotodegradacin.

Efecto fotodegradacin En la fotodegradacin de los polmeros, las radiaciones U.V. (de longitud de onda corta) causan las roturas de los enlaces y tienen ms importanciaque las luminosas (de onda ms larga), aunque stas induzcan a procesos irreversibles y degradantes de oxidacin. Estas ltimas son potenciados por la presencia de xidos de nitrgeno, la accin hidrolizante de la lluvia cida y la actividad microbiana. En la fotodegradacin se pueden apreciar dos procesos distintos. E l primero, conocido por es un proceso complejo con dos etapas: la primera consiste en la absorcin de las radiaciones U.V. y la formacin de radicales libres por rotura de los enlaces F i p 1. Agentes atmosfricos degmdmtes de los recubrirnientos o & t i c o s moleculares de las denominadas absorbentes. YJa segunda de hierro en los que existen es unaautoxidacin, en lacual dobles enlaces 1.4 que absorlos radicales libres formados ben con facilidad energade la durante la fotolisis se combiluz visible. Cuando se quiera nan con el oxgeno para forobtener recubrimientos incolomar radicales perxidos. ros en los que hay que conserPara evitar el efecto daino del var su transparencia, hay que sol y de sus radiaciones, se inacudir a los estabilizadores de corporan a los recubrimientos la luz, que son de dos clases productos protectores y filtros distintas: unos son absorbensolares. Ciertos recubrimientos tes de los rayos U.V., y los coloreados incluyen pigmentos otros son aminas con impediabsorbentes, constituidos por mento estrico (Hindered colores transparentes dexidos Amine LightStabilizers- HALS)

La meteorizacin provoca la degradacin del recubrimiento. Las medidas protectoras consisten en el empleo de pigmentos inorgnicos de colores. Para evitar las humedades se pueden emplear medidas constructivas y qumicas.

w',

ACABADOS

ALWlOlPUR en b u 8 uilvsnte

ACRILICAS m bias agua

Figwu 2. Estabilizacin a la luz de lasures pigmentados en tono roble sobre paneles de pino. Exposicin QUV (A-340 mm bulb. en ciclos de 5h/Ih)

que evitan la degradacin del polmero dedistinta formaque la absorcin (fig. 2 ) . Los estabilizadores de la luz absorbentes de las radiaciones U.V.As, son compuestos a base de Benzotriazol o de derivados de las Benzofenonas. Estas sustancias absorben radiaciones U.V.As y se degradan lentamente, por que convierten la energa U.V. en niveles ms pobres de energa calorfica, la cual es disipada atravs del recubrimiento. Este proceso se llama tautomerismo2 Las radiaciones V.V.AS que inciden sobre un recubrimiento siguen la ley de Beer que permite comprobar la absorcin de un recubrimiento segn las distintas variables. A= ebc A= Absorbencia; e= coeiciente de extincin; bdongitud del camino; c= concentracin. s una alta concentracin de absorbentes y un buen espesor del film, aumenta la proteccin; ya que a menor grosordel film se precisams concentracin para conseguir una buena proteccin. Los estabilizadores de la luz

nacin compuesta por absorbentes de rayos U.V. y aminas inhibidoras, estabilizadoras de la luz, para conseguir una ptima proteccin de los recubrimientos contra las radiaciones solares (fig. 3).

Efecto color Independientemente de estos procesos de degradacin, los recubrimientos expuestos al calor se oxidan, produciendo "cromoforos" que los "amarillean".
Para evitar e l defecto del amarilleamientoen los recubrimiento causados por el calor como el producido por el secado en estufas a temperaturas altas - se emplean antioxidantes inhibidores fenlicos. Estos productos retardan la degradacin del poImero al actuar sobre los radicales libres generados en la exposicin trmica4. Estos antioxidantes son eficaces para controlar el amarilleamiento de los recubrimientos, pero no para las radiaciones U.V.

Figum 3. Estabilizador en la refraccin del brillo; recubrimiento acrlico incoloro

nen una gran importancia al minimizar el nmero de radicales formados en el estado 1 y 2 de la absorcin, al controlar y evitar el proceso de degradacin del polimero del recubrimiento que producen los radicales libres abiertos por los rayos U.V.' El proceso de fotodegradacin tiene mltiples etapas y es necesario incorporar una combi-

Agua de rocolaire hmedo Otro de los parmetros del microclima que tiene una gran imponanciaen ladegradacin de los recubrimientos es el agua del roco y del aire hmedo que los rodea, que afectan directamente al contenido de humedad del recubrimiento y que forman, con la energa solar, compuestos cidos con iones NO,, S , y CL de la O polucin y con el oxigeno del aire, de influencias muy dafii-

Figura 4. Prdida deadhesi6n ndifwntes nivelesde humedadfsegnf Walker)

62

Boletn de Informacin Tcniza

ACABADOS
nas al recubrimiento. E l tiempo que permanece el film hmedo sobre la superficie o tiempo hmedo del recubrimiento, depende de la humedad ambiental que lo rodea, de la temperaturade la atmsfera, y de lasuperficie. Este tiempo hmedo es ms largo de lo que parece. En climas moderados como el europeo, dura alrededor del 35% del da, menos de 8 horas diarias. En regiones ms hmedas como Florida, el tiempo hmedo alcanza al 65.70% del da. Estas duraciones de tiempo hmedo se acortan con climas secos, regmenes de vientos persistentes y con la temperatura de la pelcula. Otro gran causante de degradacin de los recubrimientos, es la prdida de adhesin al sustrato tior incori~oracin de agua al film. En algunos casos, como en la renovacin de pinturas y barnices, tiene graves consecuencias. La introduccin de agua en el film se produce cuando las macromolculas contienen grupos polares que forman "volumen libre" entre ellas. Esto se produce con un valor bajo de la Tg., debido a la retencin de disolventes coalescentes, plastificantes, etc. en el film. La incorporacin de molculas de agua en el film entorpece su adhesin qumica al sustrato porque sus grupos polares y los del sustrato estn saturados de agua. La prdida de adhesin por la influenciadel agua hasido probada por cientficos como W. Funke y P. Walker. En la fig. 4

El proceso de degradacin por

falta de adhesin de film al sustrato se puede resumir en los siguientes estados: l 9 Absorcin de molculas de agua en el film. 2" Condensacin de agua en el espacio del "volumen libre" en las interfases film/sutrato. 3* Formacin de electrolitos y reaccin de los sustratos. 4gFormacin de ampollas por smosis. 5Q Formacin de productos de erosin y suelte o despegue del film del sustrato. Temperatura Finalmente, puede influir en algunos casos extremos la temperatura del objeto pintado. La temperatura depende del color y de la madera, siendo las especies porosas peores conductoras del calor que las compactas. Hay que considerar que dentro del mismo sustrato solamente es el color y no la superficie brillante, el responsable del aumento de temperatura (fig. 5). Medidas protectoras Las medidas protectoras contra las humedades pueden ser constructivas, que evitan zonas puntuales de agua y fuentes de humedad permanente, o qumicas, mediante el empleo de sustancias hidrfugas para darles el efecto perlante a los polmeros . Los productos hidrfobo5 normalmente utilizados como aditivos en los recubrimientosson las ceras naturales (abejas y carmauba), naturales modificadas (aminas y castor) y os, (propileno y polietileno), siendo estas ltimas las ms empleadas. Recientemente, ha salido al mercado una nueva generacin de productos Ridrfobos, a base de estearatos, alcalonamina y zirconio, que proporcionan una hidrofugacin duradera por su reaccin con los radicales libres de la madera. Son productos no filmgenos con efecto perlante, que penetran en la madera y son respetuosos con el medio ambiente y no contienen ningn disolvente orgnico. Es una composicin optimizada que confiere a la

F i p a 6, Esquema delpmceso de degmdacin de recubrirnientos orgnicos por agentes atmo~fricos

tracinUpigme'ntos Volumen) son sometidos a climas diferentes. La adhesin medida con el mtodo "full-of" y expresada en Nlmm', indica que la adhesin hmeda queda al 50%-90% de laadhesin seca. Por otra parte, tambin es conocido que en el secado en restauraciones, la adhesin no es superior en un 60%-80% a la adhesin del secado original, normalmente por la prdida de emulgentes, coalescentes. etc.

madera una estabilidad dimensional mxima. Contrariamente a otros hidrofugantes permite la ulterior aplicacin de lasures, barnices o pinturas en base agua o disolvente. La novedad de estos productos es que ofrecen una proteccin hidrofugante con efecto perlante sin formar las tradicionales capas filmgenas protectoras, son impregnantes y reaccionan directamente con los radicales libres de la madera y se presentan en base acuosa. Degradacin La degradacin de los recubrimientos orgnicos por agentes atmosfricos se inicia con la prdida de brillo de la superficie, y sigue con el chalking (enyesado) tambin superficial, perdiendo una de las dos funciones ms importantes de los recubrimientos, que es la decoracin. La continuacin del proceso degradatorio, ya en el interior,

afecta a la otra funcin bsica del recubrimiento que es la proteccin, con dos fases distintas: la degradacin de la estructura del recubrimiento, y la prdida de adhesin del recubrimiento al sustrato (fig. 61. La degradacin de un recubrimiento por meteorizacin, se puede resumir en las siguientes fases: * Prdida del brillo superficial y de la claridad. * Desintegracin (chalking)superficial. * Fragilidad por laaparicin de grietas y roturas (chalking) con elevacin de la Tg. interno. La prdida de la adhesin, por incorporacin de agua al film, se manifiesta por los siguientes estados: * Formacin de ampollas y absorcin de agua. * Enlustramiento. * Formacin de productos de erosin.

63

A I T M 187

ACABADOS

Ambos mecanismos elevan los valores de transicin vtrea Y provocan el "stress interno", delatado por la formacin de escamas, agrietamientos y roturas en el film (chalking y flacking), y significa la destruccin final del recubrimiento. Actualmente, para estabilizar la superficie de la madera y prolongar la duracin del acabado, se estudian nuevas opciones con tratamientos qumicos y trmicos que estabilicen la superficie de la madera y conservar as lasbuenas propiedades del acabado. Consisten en buscar una capa intermedia entre el sustrato y el acabado, formada por una mezcla ntima de madera y polmero, gracias al empleo de procesos fotoqumicos. Otro sistema en esta lnea, para mejorar la adherencia de los recubrimientos consiste en el empleo de un plasma o gas que al romper sus molculas. forman unas superficies muy reactivas, por reagrupamientos qumicos, que facilitan la adherencia del acabado, prolongando su duracin.

Notas
' L a & & k se divide en dos etapas, sean los siguientesesquemas, enlos . que Rreprescnta el componente absorbente U.V del polimero del recubrimiento.

En esta etapa el recubrimiento absorbe la radiacin U.V. La encrgia deestasradiaciones,excita las "especies"absorbentes (ciertas molculas dcl polimera e impurezas) y aumenta en ellas un alto nivel d e energia (R*). Este estado de excitacin moleculares muy reactivo y puede aumentar una amplia gama de procesos. Las procesos comunes vuelven a la ctapa primitiva a se pierden enonlaccs hamlogos.

Si las molculas no pueden volver a su estado primitivo, ocurrir la hendidura de losenlaces Iiamlogos la formacin de radicales libres (R). La&itoxidacin, tienelas tres etapas siguientes:

Rol

-t

ROO

En esta ctapa las radicales libres formados durante lafotolisis, reaccionan ruidamcntecon el

- La

Resumen meteorizacin por agentes atmosfricos, accin de las radiaciones del sol, del agua, del oxigeno del aire, y de los iones de la polucin procluce la degradacin del recubrimiento. - Las medidas protectoras contra las radiaciones solares consisten principalmente en emplear pigmentos inorgnicos de colores de xido de hierro, y de pigmenios absorbentes incoloros de U.V. junto a estabilizadoresde la luz a base de aminas inhibidoras de esteres (HALS). -Para evitar las humedades, se pueden utilizar medidas constructivas y qumicas consistentes en emplear revestimientos con polmeros resistentes a la humedad, reforzados si es posible con productos hidrofugantes.

En esta ctapa 4" los radicales peroxidos atacan a la columna vertebral del ~olimero (R'H) via

comportamientocomo recubrimiento.

'En el Benzohiazol tiene el siguiente desarrollo:

libres. ROOH
4
m
,"-O

RO1+'OH

*/

0:-5-+J
\+

sugiriendo que los HALS oxidan a los radicales nitraxilos (NO), los cuales a su vez reaccionan con los radicales libres (R) de los polimeroslimpurezas para formar aniinaeteres inhibidoiw como especie sin radicales. Estos aminoeteresinhibidorcs pueden t e n n i w r c o las radicalesperoxidos ~ formados en la etapa 3 y en cl regenerador de los nitroxilos, con especiesen un procesa ciclico que se puede repetir indefinidamente. Este proceso cclico puede representarse en el siguiente
-> -: , e.

Finalmente en esta etapa, los hidraperxidos, son muy inestables a las radiaciones U.V. al calor, Y fragmentndose y formandoradicales libres adicionales.Todo estcpraceso continua Y se rcuite una y otra vez

La molcula A absorbe cnergia U.V, resultandounrea~pamiento cleetrnico que fonnan lainolcula B, la cual a travs de la disipacin de la energiaealorifica revierte a la Coma oririnal d e la molcula A. Este

'

'

h .

recubrimiento. La rupturade enlaces covalcntes debida a la absorcin do una radiacin (radilisis), origina radicales libres que dan lugar a l a apertura de la cadena macromolecular o tambin proporcionan reticulacionesenhe distintas macramolculas contiguas. En ambos casos la estructura del matcrial sealtera, cambindose suscaracteristicas mecnicas y vana su

incidentes U.V, lo cual reduce sinificativainente estas radiaciones " tiles, excitandoen el estado2, a los polimeras del recubrimiento y10 las impurezas, a que puedan actuar a modo deuna cspecie de absorbente. >Lafuncin de los estabilizadores de la luz HALS, no es la de absorber U,V, sino la d e barrer losradicales libres que producen estas radiaciones, para evitar la posterior

e' proceso "guiente:

iocin Tcnica