PMI-2201 DIFRAO DE RAIOS X

Por Prof. Dr. Henrique Kahn

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DIFRAO DE RAIOS X
1 INTRODUO

A difratometria de raios X corresponde a uma das principais tcnicas de caracterizao
microestrutural de materiais cristalinos, encontrando aplicaes em diversos campos do
conhecimento, mais particularmente na engenharia e cincias de materiais, engenharias
metalrgica, qumica e de minas, alm de geocincias, dentre outros.
Os raios X ao atingirem um material podem ser espalhados elasticamente, sem perda de
energia pelos eltrons de um tomo (disperso ou espalhamento coerente). O fton de raios X
aps a coliso com o eltron muda sua trajetria, mantendo, porm, a mesma fase e energia do
fton incidente. Sob o ponto de vista da fsica ondulatria, pode-se dizer que a onda
eletromagntica instantaneamente absorvida pelo eltron e reemitida; cada eltron atua,
portanto, como centro de emisso de raios X.
Se os tomos que geram este espalhamento estiverem arranjados de maneira sistemtica,
como em uma estrutura cristalina (Figura 1), apresentando entre eles distncias prximas ao do
comprimento de onda da radiao incidente, pode-se verificar que as relaes de fase entre os
espalhamentos tornam-se peridicas e que efeitos de difrao dos raios X podem ser observados
em vrios ngulos.


Figura 1 Estrutura cristalina do NaCl mostrando arranjo regular dos ons Na
+1
e Cl
-1
.
direita cristais de NaCl, cuja morfologia externa est relacionada ao arranjo da estrutura
cristalina

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Considerando-se dois ou mais planos de uma estrutura cristalina, as condies para que
ocorra a difrao de raios X (interferncia construtiva ou numa mesma fase) vo depender da
diferena de caminho percorrida pelos raios X e o comprimento de onda da radiao incidente.
Esta condio expressa pela lei de Bragg, ou seja n ! =2 d sen" (Figura 2), onde !
corresponde ao comprimento de onda da radiao incidente, n a um nmero inteiro (ordem de
difrao), d distncia interplanar para o conjunto de planos hkl (ndice de Miller) da estrutura
cristalina e " ao ngulo de incidncia dos raios X (medido entre o feixe incidente e os planos
cristalinos).



Equao da Lei de Bragg
n ! = 2 d sen" (1)
Figura 2 Difrao de raios X e a equao de Bragg

A intensidade difratada, dentre outros fatores, dependente do nmero de eltrons no
tomo; adicionalmente, os tomos so distribudos no espao, de tal forma que os vrios planos
de uma estrutura cristalina possuem diferentes densidades de tomos ou eltrons, fazendo com
que as intensidades difratadas sejam, por conseqncia, distintas para os diversos planos
cristalinos.

2 EQUIPAMENTOS DE DIFRAO DE RAIOS X

Como a equao de Bragg refere-se radiaes monocromticas, inicialmente sero
abordadas as fontes de raios X empregadas e os dispositivos adotados para tornar esta radiao
monocromtica.
Na seqncia, sero enfocados os mtodos e aplicaes da difrao de raios voltados aos
estudos de materiais policristalinos, tambm chamados de mtodos de difrao de p (powder
diffraction). Dispositivos dedicados a estudos de estrutura cristalinas a partir de monocristais no
sero mencionados neste texto.

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2.1 Fontes de raios X e filtros

O esquema geral de um tudo de raios X apresentado na Figura 3. Vrios materiais distintos
podem ser empregados como nodo, sendo Cu, Cr, Fe e Mo os mais usuais (Tabela1); da mesma
forma, distintas geometrias construtivas podem ser empregadas acarretando em feixes de raios X
com diferentes formas e intensidades por unidade de rea (Tabela 2).



Figura 3 Tubo de raios X

Tabela 1 Caractersticas dos nodos mais comuns
nodo Nmero K# Energia crtica de Voltagem tima
atmico (angstrm) excitao (keV) (kV)
Cr 24 2,291 5,99 40
Fe 26 1,937 7,11 40
Cu 29 1,542 8,98 45
Mo 42 0,710 20,00 80

Tabela 2 Caractersticas dos diferentes tubos de raios X
Tipo de tubo Dimenses rea focal Dimenses virtuais (take off 6)
do foco (mm) (mm
2
) Foco ponto (mm) Foco linha (mm)
Foco fino longo 0,4 x 12 4,8 0,4 x 12 0,04 x 12
Foco fino 0,4 x 8 3,2 0,4 x 8 0,04 x 8
Foco normal 1,0 x 10 10,0 1,0 x 10 0,10 x 10
Foco largo 2,0 x12 24,0 2,0 x12 0,20 x12

A seleo do tipo de nodo est relacionada principalmente com a natureza do material a ser
analisado, buscando-se sempre a conjugao nodo / amostra que apresente o menor coeficiente
de absoro de massa, alm da relao resoluo X intensidade dos picos do difratograma. J a
seleo do tipo de tubo e do foco a ser empregado (linha ou ponto) est relacionado aplicao a
ser efetuada.
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O espectro de radiao gerado a partir do tubo de raios X no monocromtico,
apresentando tanto a radiao caracterstica do material empregado como nodo (K#, K$, etc),
como tambm do espectro contnuo (ver Figura 4).







Figura 4 Espectros de raios X
contnuo e caracterstico para o
molibdnio a 35kV. No quadro
direita detalhado o espectro
referente linha K#, mostrando
as linhas K#
1
e K#
2



Visto a necessidade de se empregar uma radiao monocromtica, h que se remover a
radiao referente a linha K$ e tambm parte do espectro contnuo emitido pelo tubo. Duas
alternativas podem ser consideradas para tanto; a primeira considera a utilizao de filtros, cujas
bandas de absoro de radiao permitam a passagem da radiao referente a linha K# e a
remoo (absoro) da linha K$, como o exemplo de filtro de Ni sobre a emisso de nodo de
Cu, ilustrado na Figura 5.
Uma segunda alternativa, a mais freqentemente usada, consiste na utilizao de um filtro
monocromador, situado na passagem dos raios X entre a amostra e o dedector ou entre o tubo e
amostra, o qual, atravs do principio da difrao de Bragg, permite exclusivamente a passagem
da radiao com o comprimento de onda de interesse (K#). A utilizao de filtro monocromador
aps a amostra apresenta ainda a vantagem adicional de remover radiaes oriundas de
espalhamentos no coerentes, resultantes da interao dos raios X com a amostra (raios X
contnuo e caracterstico dos elementos presentes na amostra, correspondentes a radiao de
fundo, background, sem interesse analtico).
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Figura 5 esquerda, espectro
de emisso de raios X do Cu
mostrando as linhas K# e K$ e a
banda de absoro do Ni (azul).
A direita tem-se o espectro obtido
com o emprego do filtro de Ni !
remoo da linha K$.

2.2 Mtodo do p
2.2.1 Cmara Debye-Scherrer

A cmara de Debye-Scherrer, Figura 6, compreende um dispositivo cilndrico no qual
amostra em p acondicionada em um capilar posicionado bem no centro da cmara sobre o
qual focalizado um fino feixe de raios X. Cones de difrao de raios X so ento gerados a
partir da amostra, sendo que parcela destes sensibiliza um filme fotogrfico posicionado na
parede interna da cmara, possibilitando a coleta de raios X desde praticamente 0 at 180 em
termos de 2".
Figura 6 Cmara de p ou de Debye Scherrer
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Esta tcnica, introduzida na segunda metade da dcada de 1910, foi bastante empregada at
os anos 80. Sua utilizao hoje bastante restrita, estando limitada a situaes em que critica a
disponibilidade de amostra (<100mg) e estudos de amostras monocristalinas.

2.2.2 Difratmetro de Raios X

Os difratmetros de raios X disponveis no mercado so dominados pela geometria
parafocal Bragg-Brentano; seu arranjo geomtrico bsico pode constituir-se de um gonimetro
horizontal ("-2") ou vertical ("-2" ou "-"). Outras configuraes, mais sofisticadas e especficas
para estudos na rea de cincias de materiais e de monocristais, podem ser tambm encontradas.
Para a geometria "-2" (Figura 7), o gonimetro, acoplado aos acessrios de recepo do
feixe difratado, move-se (H) com velocidade angular (2"/passo) sobre o eixo P e rotaciona a
amostra (P) com metade desta velocidade angular ("/passo). O raio do crculo do gonimetro
fixo, apresentando iguais distncias do tubo gerador de raios X amostra e da amostra fenda de
recepo D (LP = PD). O plano do crculo focal contm os raios incidente e difratado, isto , a
fonte, a amostra e a fenda de recepo.
L fonte de raios X
G - fendas soller
B fenda divergente
C - amostra
D fenda receptora
E fendas soller
F fenda de espalhamento
T detector de RX
Figura 7 Geometria Bragg-Brentano de um difratmetro de raios X, mostrando as
diferentes fendas utilizadas
A partir da fonte, os raios X atravessam a fenda Soller ou colimadores paralelos (G), a fenda
de divergncia (B) e irradiam a superfcie da amostra (C). Os raios difratados em determinado
ngulo 2" convergem para a fenda de recepo (D). Antes ou depois da fenda de recepo pode
ser colocado um segundo conjunto de colimadores (E) e uma fenda de espalhamento (F). Um
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monocromador do feixe difratado pode ser colocado aps a fenda de recepo, na posio da
fenda de espalhamento.
Fotografia e o esquema do difratmetro Philips, modelo PW1880, so apresentados na
Figura 8, a seguir, e um difratograma de amostra de talco na Figura 9.
Figura 8 Difratmetro de p, Philips, modelo PW1880 (instalado no LCT-EPUSP)






Figura 9 - Difratograma de
uma amostra de talco (em
vermelho); picos difratados
so assinalados em cor azul

3 APLICAES DA DIFRAO DE RAIOS X

3.1 Identificao de fases cristalinas

A principal aplicao da difrao de raios X refere-se identificao de compostos
cristalinos, sejam eles inorgnicos ou orgnicos.
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Os planos de difrao e suas respectivas distncias interplanares, bem como as densidades de
tomos (eltrons) ao longo de cada plano cristalino, so caractersticas especficas e nicas de
cada substncia cristalina, da mesma forma que o padro difratomtrico por ela gerado
(equivalente a uma impresso digital).
Um banco de dados contendo informaes cristalogrficas bsicas e algumas propriedades
fsicas de compostos cristalinos mantido e continuamente atualizada pelo ICDD, International
Center for Diffraction Data, com sede nos EUA. Atualmente so disponveis informaes
referentes a mais de 70.000 compostos cristalinos, sendo que as mais importantes, para fins de
identificao de um composto cristalino, so as distncias interplanares e as intensidades
difratadas normalizadas (relativas a 100%) para os vrios planos (hkl) que difratam
construtivamente os raios X.
Um exemplo de uma ficha do banco de dados do ICDD referente ao talco apresentada na
Figura 10.
Figura 10 Ficha com
dados de estrutura
cristalina e picos
difratados do talco, banco
de dados do ICDD,
International Center for
Diffraction Data, PDF-2,
file 13-0558

Vrias estratgias de identificao podem ser empregadas, sendo que a dificuldade de
identificao aumenta progressivamente com a elevao do nmero de fases cristalinas presentes
na amostra. Os procedimentos ou estratgias de identificao manual mais comuns referem-se a
busca por compostos presumivelmente presentes em uma amostra e o mtodo de Hanawalt, este
ltimo aplicado para situaes nas quais se desconhecem os compostos cristalinos presentes;
para ambos os procedimentos devem ser consultados os livros Powder Diffraction File,
Alphabetical Indexes ou Hanawalt Search Manual, ou ainda o banco de dados PDF-2 em CD-
ROM (todos disponveis para consulta na Biblioteca do PMI). Estas duas estratgias so
apresentadas esquematicamente na Figura 11.

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INCIO
VERIFICA
PADRO DO
COMPOSTO
CONFERE?
SUBTRAI O
PADRO
PICOS
RESTANTES?
RESULTADO
FINAL
No
Sim
No
Sim


Figura 11 - Estratgias de identificao de
fases por natureza de composto e pelo
mtodo de Hanawalt
INCIO
SELECIONE O
PRXIMO PICO
MAIS INTENSO
NO UTILIZADO
DEMAIS PICOS
CONFEREM?
SUBTRAI O
PADRO
PICOS
RESTANTES?
RESULTADO
FINAL
No
No
Sim
ORDENAR OS
PICOS POR
INTENSIDADE;
SELECIONAR O
PRIMEIRO
EXISTEM PICOS
NO UTILIZADOS?
SELECIONE OUTRA
LINHA DENTRE AS
MAIS INTENSAS
No
Sim


A partir da dcada de 90, com auxlio de microcomputadores, sistemas automticos de busca
por mtodos booleanos e lgica Fuzzy passaram a ser largamente empregados no auxlio
identificao de fases cristalinas por difrao de raios X. Nestes procedimentos, os trs a dez
picos mais intensos de cada fase presente no banco de dados so comparados com o difratograma
da amostra, atribuindo-se crditos e penalidades para cada pico difratado no que se refere a sua
presena/ausncia, intensidade difratada e deslocamento da distncia interplanar. Ao final do
processo de busca e comparao, os valores dos resultados so expressos em ordem decrescente
de pontuao, seguindo-se a avaliao final por parte do usurio.

3.2 Quantificao de fases

Como citado anteriormente, a intensidade da difrao dependente da densidade de eltrons
em um dado plano cristalino. Alm deste fator, outras variveis devem tambm ser consideradas,
conforme expresso na equao 2, a seguir.

MTODO
HANAWALT
POR
COMPOSTO
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I
(hkl)J
= K
e
p
(hkl)
(1/V
J
2
) &F
(hkl)J
&
2
LP
(hkl)


f
J
/ ' (2)
onde,
I
(hkl)J
intensidade integrada;
K
e
constante para um equipamento particular;
P
(hkl)
fator de multiplicidade;
V
J
volume da cela unitria;
F
(hkl)J
fator estrutura;
LP
(hkl)
fator Lorentz-polarizao;
f
J
frao volumtrica da fase J na amostra;
' coeficiente de absoro linear da amostra.
O fator estrutura (F) considera a eficincia do espalhamento pelos eltrons de um tomo e os
efeitos da temperatura sobre a posio dos tomos na estrutura cristalina. O fator de
multiplicidade, P, refere-se proporo relativa de planos que contribuem para um pico
difratado. O fator Lorentz-Polarizao, LP, refere-se a um fator geomtrico que diminui as
intensidades integradas dos picos difratados em ngulos intermedirios (na faixa de 2" entre 40 e
60(), quando comparados com os valores de ngulos menores e maiores, uma vez que a
quantidade de polarizao depende do ngulo atravs do qual a radiao espalhada.
J o fenmeno de absoro linear est relacionado espessura da amostra, ao coeficiente de
absoro de massa, aos elementos qumicos presentes e ao comprimento de onda da radiao
utilizada. A absoro, no entanto, limita a profundidade de penetrao do feixe na amostra,
variando de acordo com a natureza do material, o que afeta distintamente as intensidades
difratadas de fases diferentes ver Figura 12 (misturas binrias de quartzo com polimorfo de
SiO
2
e dois outros compostos com distintos coeficientes de absoro de massa).



Figura 12 Efeitos de distintos
coeficientes de absoro de massa
sobre intensidades difratadas de
quartzo em misturas binrias (quartzo
e cristobalita tm a mesma
composio, polimorfos de SiO
2
)
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Os mtodos de anlise quantitativa por difrao de raios X desenvolveram-se
propriamente com a utilizao do difratmetro com contador Geiger e da sistematizao
proposta por Alexander e Klug, em 1948. A relao dos principais mtodos que consideram os
efeitos da absoro sobre as intensidades e utilizam, em geral, as intensidades integradas de um
pico difratado apresentada a seguir.
) mtodo do padro interno (Alexander e Klug, 1948, apud Klug e Alexander, 1974);
) mtodo da adio (Lennox, 1957, apud Snyder e Bish, 1989);
) mtodo do padro externo, com sobreposio de picos (Copeland e Bragg, 1958, apud
Klug e Alexander, 1974);
) mtodo de matrix-flushing (padro interno - RIR) (Chung, 1974a, 1974b, 1975);
) mtodo da adio-difrao (Klug e Alexander, 1974; Smith et al., 1979b, apud Snyder
e Bish, 1989);
) outros, como o mtodo da diluio (Clark e Preston, 1974), mtodo de clculo direto
(Hooton e Giorgetta, 1977), mtodo de anlise quantitativa sem padro (Zevin, 1977,
apud Pawloski, 1985), mtodo da razo de intensidade e mtodo do padro externo
(Goehner, 1982, apud Pawloski, 1985).
A quase totalidade destes mtodos utiliza comparaes com amostras de referncia. Por
razes diversas, estes padres no so disponveis comercialmente, devendo ser preparados caso
a caso. Adicionalmente, outros fatores, como orientao preferencial, microabsoro e
granulao da amostra, dentre outros, propiciam substanciais dificuldades adicionais para se
obter resultados quantitativos dentro de intervalos de preciso e exatido aceitveis, fazendo com
que as tcnicas de anlises quantitativas por difrao de raios X no sejam amplamente
utilizadas.
Exemplos referentes a quantificao de quartzo a partir do mtodo de adio (amostra de
talco) e do mtodo do padro interno (amostra de quartzo e fluorita) so apresentados nas
Figuras 13 e 14, respectivamente.
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Figura 13 - Adies de quartzo para
avaliao do contedo na amostra inicial
pelo mtodo de adio
Figura 14 - Curva de calibrao para
anlise de quartzo usando fluorita como
padro interno (Klug e Alexander, 1974)
Mais recentemente, com a utilizao de computadores mais potentes e a anlise de todo o
padro do difratograma, utilizando as intensidades individuais de cada passo (step), foi
desenvolvida uma metodologia que permite o refinamento de estruturas cristalinas complexas, o
mtodo de Rietveld (1967, 1969). Com base nesta metodologia, foi desenvolvido um
procedimento de anlise quantitativa, com reconhecida preciso, que considera todo o
difratograma, gerando um difratograma calculado a partir das informaes das estruturas
cristalinas das fases presentes e as suas propores relativas (ajuste entre os difratogramas real e
o calculado com a minimizao do resduo atravs de mnimos quadrados), Figura 15.

" difratograma coletado
" difratograma calculado por Rietveld
" resduo do processamento
corindon = 1,1 * 0,9
cristobalita = 30,1 * 9,5
fluorita = 28,1 * 2,6
mulita = 40,8 * 6,8
rutilo = 0,1 * 0,1

Figura 15 Anlise quantitativa pelo
mtodo de Rietveld. Difratogramas
gerado pela amostra e o calculado; o
resduo apresentado na poro inferior
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3.3 Determinao de parmetros de cela unitria

Considerando-se que o padro do difratograma de um material cristalino funo da sua
estrutura cristalina, possvel se determinar os parmetros do seu retculo (a, b, c e #, $ e + da
cela unitria) desde que se disponha de informaes referentes aos sistema cristalino, grupo
espacial, ndices de Miller (hkl) e respectivas distncias interplanares dos picos difratados.
Este procedimento pode ser efetuado tanto por mtodos manuais para cristais de elevada
simetria (sistemas cbico, hexagonal e tetragonal), como mais facilmente a partir de diversos
programas de computador, que permitem um rpido processamento para cristais de qualquer
sistema cristalino, independentemente de sua complexidade.

3.4 Dispositivos com controle de temperatura

Inmeros processos de manufatura empregam temperaturas elevadas, nas quais os
constituintes primrios da amostra sofrem mudanas de fase em razo do aquecimento. Dentre
estes destacam-se os processos metalrgicos, cermicos e alguns de natureza qumica.
Um acessrio de alta temperatura para difratometria de raios X permite o aquecimento
controlado da amostra e, eventualmente, o controle simultneo da atmosfera a que ela esta
submetida, paralelamente coleta do difratograma. Vrios difratogramas podem ser coletados a
diferentes temperaturas e/ou condies de presso parciais de gases, visando estudar o equilbrio
do sistema e as mudanas de fases envolvidas. A Figura 16 mostra um dispositivo de alta
temperatura (de 20 a 1400C) acoplado a difratmetro Philips, XPert MPD.
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Figura 16 - Acessrio para a difrao de
raios X em alta temperatura (ambiente a
1400C)
semelhana do dispositivo de alta temperatura, acessrios especficos para temperaturas
negativas podem tambm ser empregados.


3.5 Orientao de cristalitos - Textura

A orientao preferencial de cristalitos em materiais slidos policristalinos de vital
importncia para vrios materiais industriais. Materiais extrudados e ps prensados, dentre
outros, so materiais que tipicamente apresentam orientao preferencial; alguns materiais
cermicos e semicondutores tem suas propriedades relacionadas a uma dada direo
cristalogrfica, sendo de extrema importncia o controle da orientao preferencial nos
processos de fabricao e controle de qualidade.
Uma das formas mais comuns para se avaliar a orientao preferencial consiste na
determinao da figura de polo referente a uma dada direo cristalogrfica, ou seja, as medidas
de intensidade de uma linha particular de difrao plotadas em funo da orientao
tridimensional da amostra. Para esta determinao utiliza-se um acessrio especfico, Figura 17,
que permite a rotao da amostra em todas as direes ( Phi - rotao e Psi - inclinao),
paralelamente s medidas de intensidade difratada para uma condio fixa de " e 2"; os
resultados so apresentados atravs de uma projeo estereogrfica (2D), denominada figura de
polo (Figura 17).

tubo RX
detetor
bomba de
vcuo
alta
temperatura
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Figura 17 - Acessrio para determinao de orientao
preferencial textura e figura de polo obtida para plano
311 (hkl) do cobre

3.6 Tamanho de cristalitos

Partculas de dimenses inferiores a 1m podem apresentar intensidades difratadas em
valores de 2" pouco superiores e inferiores ao valor do ngulo de Bragg devido ao efeito de
alargamento de picos face ao tamanho de partculas. Tal fato deve-se ao menor nmero de planos
que difratam os raios X, em funo das pequenas dimenses dos cristalitos, permitindo a
difrao para valores de comprimento de onda um pouco superiores e inferiores ao valor de !.
O tamanho mdio de cristalito, ,, dado pela equao 3, a seguir, onde K, o fator de
forma, uma constante, usualmente com valor de 0,9, ! o comprimento de onda, B a
largura observada da linha difratada a meia altura do pico (FWHM) e b a largura do pico a
meia altura para uma amostra padro (sem alargamento de picos face s dimenses das
partculas, dimenses acima de 1m), sendo que B e b devem ser expressos em radianos.


(3)

3.7 Tenso Residual

amostra
, =
K !
( B - b ) cos"
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Tenso em um material pode causar dois efeitos distintos sobre o difratograma. Se a tenso
corresponder a um esforo uniforme, compressivo ou distensivo, tambm chamado de
macrotenso (macrostress), as distncias da cela unitria dos cristais vo, respectivamente,
diminuir ou aumentar, ocasionando um deslocamento na posio dos picos difratados, conforme
exposto na Figura 18.
O desacoplamento da geometria "-2" passando para "-", seguido da varredura para duas ou
mais linhas de difrao possibilita a determinao da macrotenso presente em uma amostra
slida.
Esforos no uniformes esto relacionados a foras de distenso e compresso simultneas,
as quais resultam em alargamento dos picos difratados em sua posio original (sem
deslocamento, ver Figura 18). Este fenmeno, chamado de microtenso em cristalitos
(microstress), pode estar relacionado a diferentes causas: deslocamentos (o mais freqente),
vacncias, defeitos, planos de cisalhamento, expanses e contraes trmicas, etc. O alargamento
de picos relacionado a microtenso pode ser observado tanto para amostras slidas como em ps
pulverizados, sendo que nestes ltimos este fenmeno idntico ao do alargamento de picos face
diminuio do tamanho de partculas (dimenses inferiores a 1m), sendo praticamente
impossvel a distino entre estes.













Figura 18 - Efeitos de esforos uniformes (compressivo e distensivo) e no uniformes sobre
a estrutura cristalina
d d
d
d < d >
esforo
compressivo
uniforme
esforo
distensivo
uniforme
sem
esforo
esforo
no
uniforme
MACROTENSO MICROTENSO
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REFERNCIAS BIBLIOGRFICAS
Bish, D. L.; Reynolds, R. C. Sample preparation for X-ray diffraction. In: Modern Powder
Diffaction. Mineralogical Society of America, Washington, D.C., 1989, Cap.4, p.73-97.
(Reviews in Mineralogy, V.20).
Cullity, B. D. Elements of X-ray diffraction. 2.ed. Addison-Wesley Publishing Company,
INC., 1978. 555p.
Jenkins, R. JCPDS - International Centre for Diffraction Data - Sample Preparation Methods in
X-Ray Powder Diffraction. Powder Diffraction, 1986, Vol.1, N
o
2, p.51-63.
Klug, H. P. & Alexander, L.E. X-ray diffraction procedures for polycrystalline and
amorphous materials. 2.ed. John Wiley & Sons, 1974, 996p.

EXERCCIOS
1. Assinalar verdadeiro ou falso
a) a difrao de raios X est relacionada ao espalhamento elstico dos raios X incidentes
sobre uma amostra, fenmeno pelo qual tem-se a mudana na direo dos raios X sem
perda de energia ou mudana de fase

b) para que ocorra a difrao dos raios X o comprimento de onda da radiao incidente
deve ser pelo menos 1000 vezes menor que o da distncia entre os planos da estrutura
cristalina considerada

c) a lei de Bragg representada pela equao ou seja n ! =2 d sen", onde ! corresponde
ao comprimento de onda da radiao incidente, n a um nmero inteiro, d distncia
interplanar e " ao ngulo de incidncia dos raios X

d) a intensidade de difrao de raios X totalmente independente do nmero de eltrons
dos tomos em um dado plano cristalino

e) raios X policromticos so mais indicados que os monocromticos para estudos de
materiais cristalinos por difrao de raios X

f) a seleo do nodo do tubo de raios X que condiciona o comprimento de onda da
radiao X a ser utilizada

g) a cmara Debye-Scherrer permite a coleta dos raios X difratados a partir de diminutas
quantidades de amostras (<0,5g).

h) os resultados de difrao de raios X obtidos atravs da cmara Debye-Scherrer so
diretamente expressos em papel, sendo apresentados atravs de um sistema XY

i) a orientao de cristalitos em materiais policristalinos pode ser realizada atravs da
rotao da amostras em todos as direes (Phi e Psi), mantendo-se fixos os valores de "
e 2"

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j) difratmetros de raios X so dominados pela geometria parafocal Bragg-Brentano com
gonimetro horizontal ("-2") ou vertical ("-2" ou "-")

k) planos de difrao e suas respectivas distncias interplanares e densidades de tomos
(eltrons) so caractersticas especficas e nicas de cada substncia cristalina,
equivalentes a uma impresso digital

l) a dificuldade na interpretao de um difratograma (identificao das fases) independe
do nmero de fases presentes na amostra

m) o mtodo de Rietveld considera a intensidade de um nico pico difratado para a anlise
quantitativa por difrao de raios X

n) o coeficiente de absoro de massa, tambm chamado de efeito matriz, negligencivel
para fins de quantificao de fases por difrao de raios X

o) o tamanho de cristalitos pode ser medido para cristais com dimenses entre 2 e 20m
p) a determinao de tamanho de cristalitos refere-se a uma medida direta, ou seja, sem a
necessidade de comparao com padro ou calibrao instrumental

q) o mtodo de Rietveld ser empregado tanto para o refinamento de estruturas cristalinas
como para se efetuar anlises quantitativas por difrao de raios X

r) a medida de tamanho de cristalitos s possvel devido a existncia de um alargamento
de pico difratado quando se tem uma pequena quantidade de planos cristalinos
difratando os raios X

s) esforos uniformes sobe a estrutura cristalina ocasionam deslocamento das distncias
interplanares o qual evidenciado pelo alargamento dos picos no difratograma

t) microtenso ou esforos no uniformes esto relacionados a deslocamentos, vacncias,
defeitos cristalinos, planos de cisalhamento e contraes e expanses trmicas.

u) para a determinao de tenso residual faz-se necessrio o desacoplamento da geometria
"-2"


2. Correlacionar:
(1) identificao de fases (4) tamanho de cristalitos
(2) anlises quantitativas (5) macrotenso
(3) resoluo ou refinamento de estrutura (6) microtenso
cristalina (7) alta temperatura

( ) mtodo de Rietveld ( ) banco de dados ICDD
( ) auxlio no estudo de diagramas de fases ( ) deslocamento de picos difratados
( ) mtodo de Hanawalt ( ) figura de polo
( ) alargamento de picos difratados ( ) projeo estereogrfica
( ) ajuste entre difratograma coletado e difratograma calculado
( ) deslocamentos, vacncias, defeitos na estrutura cristalina