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CAPITOLO III
GIUNZIONI METALLO-SEMICONDUTTORE (M-S)
Limpiego pratico delle giunzioni p-n, nonch la tecnologia dei circuiti integrati
utilizzano comunemente i contatti metallo-semiconduttore nelle interconnessioni tra i vari
componenti di un circuito integrato e nei punti di accesso dallesterno. Dato che le giunzioni
tra materiali conduttori e materiali semiconduttori possono avere carattere rettificante, oltre
che ohmico, trovando vaste applicazioni come diodi (diodi Schottky), bene affrontarne lo
studio in modo analogo a quanto fatto per le giunzioni p-n.
N(E)
N(E)
N(E)
stati energetici
riempiti
N(E)
N(E)F(E)
EF
N(E)F(E)
EV EF EC
E0
livello di riferimento
E0
q
q M
q S
EC
EF
EV
EF
Fig. 1
(Dicembre 2004)
III . 2
M,
()
elettronica q lenergia E0 - EC , che risulta ovviamente indipendente dal drogaggio .
Dato che il livello di Fermi EF esprime l'energia media totale posseduta dagli elettroni
sia nei metalli sia nei semiconduttori, considerando i due materiali separatamente luno
dall'altro e cio isolati, si pu affermare che, se M < S , gli elettroni nel metallo saranno
pi "energetici" che nel semiconduttore e viceversa se M > S. Ci fa intuitivamente
prevedere che, nel momento in cui si stabilisce un contatto tra i due materiali (giunzione
metallo - semiconduttore), la differenza di energia posseduta causer un trasferimento di
elettroni dal metallo al semiconduttore nel primo caso o viceversa nel secondo. Questo
processo si fermer non appena i due livelli di Fermi si saranno allineati.
In equilibrio, il trasferimento di elettroni determina, entro il semiconduttore, una densit
totale di carica diversa da zero e quindi la nascita di un campo elettrico che agisce in modo
da bilanciare la tendenza degli elettroni ad occupare stati energetici a energia pi bassa. E'
possibile tracciare qualitativamente, in condizioni di equilibrio, i diagrammi a bande per la
giunzione M-S considerata, ricordando che debbono essere rispettate le seguenti propriet:
a) il livello di Fermi EF costante attraverso la giunzione;
b) il livello di riferimento EO non pu che essere una funzione continua del punto;
c) l'affinit elettronica dei materiali semiconduttori costante con la coordinata x.
Ci posto, tracciamo il diagramma a bande nel caso M > S (fig. 2.a):
A
E0
E0
E0
E0
q M
q S
q M
q
q i
EC
EF
EF
EV
q MS
EF
a)
q S
EC
EF
EV
b)
Fig. 2
()
Poich interessano le differenze di energia, i valori numerici delle suddette quantit sono
riferite al livello EO, che pari all'energia minima necessaria all'elettrone per abbandonare
il materiale cui apparteneva.
III . 3
Esercizio:
a) S > M > ;
b) M <
Dal diagramma di fig. 2.b) si nota che alla transizione (sezione AA' ) c' una brusca
discontinuit degli stati energetici permessi agli elettroni, che vale:
(1)
qMS = q (M - )
q i = q (M - S ) = q (M - ) - | EC EF | n
dove l'ultima quantit va valutata nel semiconduttore a grande distanza dalla giunzione.
III . 4
Semiconduttore
q (eV)
Metallo
q M (eV)
Ge
4,13
Cu
4,50
Si
4,05
Al
4,25
GaAs
4,07
Pt
5,60
GaP
3,80
4,50
InP
4,38
Au
5,10
CdS
4,80
Ag
4,30
Tabella 1
gli
elettroni
che
dal
a)
-- + + + +
--- + + + +
-- + + + +
S (n)
n = q ND
b)
-q NDW
(3)
(4)
Ex
i = Ex
E
c)
q NDW
Ex
W q ND W
=
2
2s
da cui:
d)
(5)
W =
2 s
q
1
i
ND
x
Fig. 3
III . 5
QS = A q ND W
avendo indicato con A l'area della giunzione; sostituendo la (5) nella (6) si ha:
QS = A
(7)
Esercizio:
2 sq ND i
metallo
semiconduttore
di tipo n
a)
b)
Fig. 4
III . 6
Esercizio:
(8)
2 s q N D ( i + V
C =
(9)
d QS
dV
q s ND
=A
2 ( i + V
(10)
s
W
(11)
W =
2s
q
( i
+V
ND
(12)
i +V = A 2
q s ND
2 C 2
III . 7
(x)
1/C
metallo
semiconduttore
q ND(x)
xj
- i 0
Vinv.
q
0
x
N D ( x ) dx
j
Fig. 5
Fig. 6
QS = A q
Un incremento
N D ( x ) dx
j
(13)
V 0, si ha:
C (x )
Aq
d x
dV
d x d C
d C
dV
AS d C
C 2
dV
QS
pari a
III . 8
ND (x )=
(14)
Aq
AS d C
C 2
=
q S A2
dV
d
dV
2
C
2
Linverso della pendenza del grafico di 1/ C in funzione di V fornisce, a scala
(15)
ns = NC e
q MS
kT
= NDe
qi
kT
I S M = I M S = h N D e
qi
kT
III . 9
ns = ND e
q ( i V
kT
e quindi
I S M = h N D e
q ( i V
kT
I S M I M S = h N D e
qi
kT
qV
kT
che potr porsi come l'equazione del diodo (si veda la formula (25) del Cap. II delle
dispense):
I=
IS
qV
kT
III . 10
I=
IS
qV
mkT
A
E0
q i
della
larghezza
della
E0
zona
q M
EF
EC
EF
EV
Fig. 7
III . 11
19
-3
E0
E0
q M
q i
q S
EC
EF
EV
EF
Fig. 8
III . 12
potenziale la stessa superficie (cio ponendo = 0, per x = 0), la densit degli elettroni in
eccesso varr:
q
n' = n s e
(16)
(x)
kT
dove (x) una funzione da determinare (si osservi che il potenziale (x)
intrinsecamente negativo). In questa ipotesi l'equazione di Poisson da risolvere diventa:
(17)
d 2
dx
q n'
(18)
kT
E( x )=
q ns
d ( x )
d x
, in:
q ( x )
q ns
kT
(19)
E( x )=
2 kT n s
q ( x )
2 kT
(20)
( x)=
2 kT
q
ln 1 +
L D
x
2
dove la lunghezza:
(21)
LD =
s kT
ns q 2
viene definita come "lunghezza di Debye. Sostituendo la (20) nella (19) e nella (14), si
ottengono rispettivamente:
III . 13
E( x )=
(22)
kT
q LD
1
x
1+
2 LD
1
n' = n s
(23)
1 +
L D
x
2
Da quest'ultima equazione, si vede che LD fornisce una misura della estensione, nel
semiconduttore, dello strato formato dagli elettroni liberi in eccesso al contatto ohmico M-S.
Ricordando che i (vedi fig. 8) vale:
i =
EC EF
( M
lo spessore W della zona, nel semiconduttore, con 0 dalla (18), risulta essere
W =
Esercizio:
LD
q i
2 kT
giunzioni
rettificanti
metallo-semiconduttore,
Schottky, trovano un impiego industriale molto vasto per alcune peculiari propriet che le
rendono in certe applicazioni superiori alle giunzioni p-n.
Come si evidenziato discutendo la caratteristica I-V delle giunzioni M-S, la corrente
diretta trasportata dagli elettroni (portatori maggioritari) che dal semiconduttore passano
nel metallo. In questi diodi non vi sono quindi effetti di accumulo di portatori minoritari
III . 14
BIBLIOGRAFIA
[1] A.Y.C. YU, The metal-semiconductor contact: an old device with a new future. IEEE
Spectrum, p. 83 - marzo 1970.
[2] J. CARROLL, Physical Models for Semiconductor Devices. Arnold (1975).
[3] R.S. MULLER, T.I. KAMINS, Device Electronics for Integrated Circuits. J. Wiley (1977).