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Libro de abstracts
PREFACIO
Esta jornada, la tercera organizada por el Instituto de Nanociencia de Aragn (INA)
desde su creacin, tiene como objetivo reunir a un pequeo pero selecto grupo de
cientficos espaoles expertos en el campo de la fabricacin de pelculas con talla
nanomtrica en la direccin de crecimiento y su litografiado a escalas laterales
nanomtricas. Las jornadas se basan en seminarios de reconocidos investigadores espaoles
que introducirn diferentes tcnicas de crecimiento de pelculas delgadas y nanolitografa y
mostrarn resultados recientes de sus investigaciones. As por ejemplo, en el primer caso se
introducirn las tcnicas de pulverizacin catdica, ablacin lser pulsada, epitaxia de haces
moleculares, etc. En el segundo caso se discutirn las tcnicas de litografa ptica y de rayos
x, litografa por haces de electrones e iones, nanoimprinting, nanolitografa con
microscopios de sonda local, etc. Se pretende fomentar la discusin entre todos los
participantes sobre las diversas tcnicas presentadas.
Esta jornada es muy importante para el instituto puesto que los temas a tratar
corresponden a lneas de investigacin prioritarias en el INA. En la actualidad el INA
dispone de la infraestructura adecuada para el crecimiento de este tipo de sistemas y la
realizacin de tallado por tcnicas litogrficas a escala micromtrica y se est pendiente de
la adquisicin de un equipo de nanolitografa. Esta jornada es una buena oportunidad para
discutir con los expertos nacionales sobre estos complejos equipos y de comprobar de
primera mano la investigacin puntera actual en Espaa con esta tcnicas. La jornada tendr
una sesin de maana que llevar por ttulo Sesion sobre tcnicas litogrficas para
nanofabricacin y una sesin de tarde que llevar por ttulo Sesion sobre crecimiento de
pelculas delgadas, acabndose la jornada con una visita a los laboratorios del INA al
finalizar las charlas de los ponentes invitados. Esperamos que esta jornada sea muy
fructfera para todos los miembros de nuestra comunidad universitaria interesados en este
importante y prometedor campo de trabajo dentro de la Nanociencia as como para los
participantes de otras universidades y centros de investigacin fuera de nuestra comunidad
autnoma.
ORGANIZACION
-Instituto de Nanociencia de Aragn de la Universidad de Zaragoza
-Secretariado: Pedro J. Escriche y Maria Jess Garca
-Comit de programa: Jos Mara De Teresa y Javier Ses
*Imgenes de portada:
-Corral cuntico formado por tomos de hierro posicionados mediante un
microscopio de efecto tnel y realizado en IBM por Eigler et al. (ms informacin en
http://www.almaden.ibm.com/vis/stm/corral.html)
-Imagen de un microcircuito realizado por la empresa DongbuAnam en tecnologa de
130 nm (ms informacin en http://www.dsemi.com)
-Imagen de microscopa electrnica de transmisin de una unin tnel formada por
electrodos de manganita separados por una capa aislante de 2 nm de titanato de estroncio.
Imagen tomada por J.L. Maurice (ms informacin en J.M. De Teresa, Uniones tnel
Magnticas, Investigacin y Ciencia, abril 2001)
FIN DE LA JORNADA
Abstracts
Desde la ltima dcada del siglo XX se han venido desarrollando diversas tcnicas
litogrficas que permiten la fabricacin de nanoelementos ordenados con dimensiones
laterales inferiores a la micra. En esta presentacin se comenzar por exponer y comparar
las caractersticas fundamentales de algunos de estos mtodos de litografa para obtencin
de nanoestructuras ordenadas; en concreto, litografa por rayos-x (basada en la exposicin a
este tipo de radiacin), litografa por interferencia lser (fundamentada en aprovechar el
conjunto de mximos y mnimos de intensidad en el diagrama de interferencia de dos haces
lser), y litografa por haz de electrones (basada en la exposicin al haz de electrones de un
microscopio electrnico). Esta ltima es la tcnica que ha sido empleada en combinacin
con un proceso de ataque por bombardeo inico para fabricar las muestras magnticas
nanoestructuradas cuyas propiedades se mostrarn en la presentacin.
En particular, se mostrarn los resultados obtenidos en lminas magnticas cuya
superficie ha sido nanoestructurada con conjuntos de agujeros en el rgimen diluido, esto es,
en los que la separacin entre los agujeros es mayor que su tamao. Se expondr la
influencia de la geometra de los agujeros y de la configuracin de los mismos en los
procesos de inversin de la imanacin y, en concreto, en los mecanismos de anclaje del
movimiento de paredes.
5 m
6.0m
Imagen
AFM de un transistor de
nanotubo de capa nica. Los contactos
metlicos con el nanotubo se han definido
mediante litografa por haces de
electrones
NANOMPRINT
nanomtrica.
TECHNOLOGY:
litografa
paralelo
escala
(c)
100 nm
(b)
100 nm
1 m
Figure. Examples of local oxidation nanopatterns. (a) Periodic array of 10 nm silicon oxide
dots. The lattice spacing is 40 nm. (b) Alternating insulating (bright) and semiconducting
rings. (c) First paragraph of Don Quixote.
References: D. Wouters and U.S. Schubert, Angew. Chem. Int. Ed. 2004, 43, 2480; J. Dagata et al.
Appl. Phys. Lett. 1990, 56, 2001; S. Xu and G.Y. Liu, Langmuir 1997, 13, 127; Y. Li, B.W. Maynor,
J. Liu, J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 2105; W. Lee, E. R. Kim and H. Lee, Langmuir, 2002, 18,
8375; M. Cavallini et al. Science 2003, 299, 531; R. Garca, M. Calleja and H. Rohrer, J. Appl.
Phys. 1999, 86, 1898 ; M. Tello et al. Adv. Mater. 2005, 17, 1480; R. Garcia et al., Nano Letters
2004, 4, 1115; R.V. Martnez and R. Garca, Nano Lett. 2005, 5, 1161
* jacsan@fis.ucm.es
In this presentation I will start briefly introducing the fundamentals of the
sputtering technique and describe the various operating configurations. The influence of
factors like atom mobility on the substrate, ion (resputtering) or electron bombardment,
on the growth properties will be discussed and their control using accessible variables
(gas pressure, growth temperature, deposition rate, etc.). High pressure pure oxygen
sputtering at high temperatures will be presented as a low cost alternative for high quality
epitaxial growth of complex oxides. Examples will be given of the growth of cuprates
and manganites and on the possibility of tailoring film properties by a controlled growth
mode. I will discuss the importance of epitaxial mismatch strain to produce self
organized patterns of disorder, allowing for example, to control the superconducting
properties of ultrathin layers of cuprates, or to modulate the nanoscale phase separation in
maganites.
ndice de participantes
Claudio
Aroca
caroca@fis.upm.es
Borris
xavier.borrise@cnm.es
Cirera
llabad@icmab.es
Ciria
ciria@unizar.es
de Teresa
deteresa@unizar.es
Garca
rgarcia@imm.cnm.csic.es
Ibarra
ibarra@unizar.es
Martn
jmartin@uniovi.es
Martnez
emartinez@pcb.ub.es
Prez-Murano
Francesc.Perez@cnm.es
Prieto
cprieto@icmm.csic.es
Snchez
fsanchez@icmab.es
Jacobo
Santamara
jacsan@fis.ucm.es
Santiso
santiso@icmab.es
Ses
jsese@unizar.es