Pelculas Ultra delgadas

Son estructuras solidas de dos dimensiones tan delgadas que se puede

despreciar muchos efectos fsicos en su grosor. La mayora de las pelculas
delgadas interactuaran con ondas, por lo cual su grosor debe ser del orden de la
longitud de onda de la perturbacin con la que interacciona.
Las pelculas delgadas son importantes porque permiten ahorrar energa, son muy
compactas, ligeras y debido a que se desprecia una dimensin son ms fciles de
caracterizar fsicamente.
Ejemplos de pelculas delgadas son los microcircuitos en las computadoras, las
pelculas anti-reflejantes en anteojos y parabrisas, las burbujas de jabn.
Las pelculas delgadas se utilizaron inicialmente con fines decorativos en el siglo
XVII.
Hoy en da las pelculas delgadas se utilizan no solo con fines decorativos, ni de
proteccin, ellas son ampliamente usadas en circuitos electrnicos, en dispositivos
opto-electrnicos, fotovoltaicos, recubrimientos pticos de variadas reas, en
micro y nano electrnica donde como se observa el espesor va desde 0.1 micra300 micras y de 1-100 nm en escala nanomtrica.
Las pelculas delgadas pueden fabricarse por diferentes mtodos de depsito
dependiendo del material a depositar, existen algunos muy especficos como
capas magnticas, xidos dielctricos y ferromagnticos, para circuitos
semiconductores, polmeros, metales, xidos metlicos, materiales orgnicos,
nanotubos de carbono, complejos organometlicos, entre otros.
1. Mtodos de Depsito
Los mtodos de depsito por lo general se dividen en fsicos y qumicos
mencionremos los ms comnmente utilizados, y algunos otros especficos.
1.1. Mtodos fsicos:
a) Evaporacin Trmica/ Rayo Molecular Epitaxial. El rayo molecular epitaxial
(MBE) se ha desarrollado a partir de tcnicas simples de evaporacin trmica por
aplicacin de tcnicas de ultra-alto vaco (UHV). Este mtodo permite un
crecimiento controlado capa por capa y debido a las condiciones de ultra alto
vaco se obtienen pelculas muy limpias, es ideal para procesos de crecimiento.
Sin embargo, el crecimiento capa por capa es lento y las tcnicas de UHV son
costosas.
b) Depsito por lser pulsado (PLD).
Es un mtodo de preparacin de pelcula con crecimiento de pelculas delgadas a
partir de superconductores como el YBaCuO (xido de itrio, bario y cubre) se ha

demostrado que este mtodo es satisfactorio sobre todo para depsitos de xidos
y otros materiales multicomponentes. Uno de los inconvenientes del mtodo es
que pequeas gotitas pueden depositarse en los extremos de las pelculas,
adems de la restriccin a sustratos pequeos.
c) Depsito por roco o chisporroteo (Sputter)
El proceso ms simple consiste en una cmara de vaco, donde el material que
ser depositado se encuentra en el ctodo (potencial negativo) y el sustrato para
la pelcula en el nodo. Una diferencia de potencial de cientos de volts entre las
dos placas conduce a la ignicin de una descarga de plasma para presiones de
10-1 10-3 mbar, y las partculas aceleradas se dirigen hacia su objetivo
depositndose. Las ventajas son el alto rendimiento, sustratos grandes, buena
adhesin al sustrato, control de composicin autoajustable y requerimientos de
vaco menos riguroso que para evaporacin trmica. Los sistemas son muy
flexibles y se pueden ajustar a varios requerimientos especficos.
Mtodos Qumicos
1.

Depsito qumico de vapor (CVD). En este tipo de depsito el crecimiento

de la pelcula ocurre a travs de una reaccin qumica de los componentes
qumicos, es decir, los precursores, que sern transportados a la vecindad del
sustrato va fase vapor. Las reacciones qumicas que forman la pelcula
generalmente utilizan energa trmica a partir del sustrato calentado, pero
tambin pueden inducirse por microondas o luz. El reactor debe tener un flujo
de gas controlado y los precursores a reaccionar deben estar a baja presin
(10-1 a 10 mbar) para evitar colisiones entre molculas de gas. Este mtodo
permite un crecimiento capa por capa a escala atmica permitiendo obtener
pelculas ultra delgadas.

2.

Depsito qumico a partir de una disolucin (CSD). Este mtodo comprende

un rango de tcnicas de depsito, as como de rutas qumicas. En general, el
proceso comienza con la preparacin de la disolucin con la que se realizar el
recubrimiento a partir de los precursores que compondrn la pelcula, y
adems de mezclar la disolucin, la preparacin debe incluir la adicin de
estabilizantes, un proceso de hidrlisis parcial, reflujo, etc. La disolucin para
recubrir se deposita sobre un sustrato por:

spin-coating (recubrimiento giratorio), donde se utiliza una foto resistencia

giratoria; es conveniente para placas semiconductoras.

dip-coating (recubrimiento por inmersin), el sustrato es inmerso en el

material a depositar, se extrae, se drena y se seca. Este mtodo es muy usado
en la industria ptica para grandes sustratos no planos.

spray-coating (recubrimiento por roco), el cual se basa en la formacin de

una nube a partir de la disolucin y el depsito por gravitacin o por fuerza
electrosttica.

La pelcula hmeda debe secarse y pasar por un proceso de hidrlisis y

reacciones de condensacin dependiendo de la ruta qumica. La pelcula
depositada posiblemente representa una red qumica o fsica y bajo tratamiento
trmico, por ejemplo, se obtiene una pelcula que cristaliza homognea o
heterogneamente. El espesor deseado se obtiene por mltiples recubrimientos.
Dependiendo del tipo y reactividad de los precursores, la qumica muestra un
amplio espectro de tipos de reacciones. Por un lado, hay reacciones sol-gel que
involucran hidrlisis y condensacin. Un ejemplo es la formacin de SiO2 a partir
de alcxido de Si.
Las ventajas de estos mtodos CSD son el excelente control de composicin de la
pelcula a travs de la estequiometria de las disoluciones para los recubrimientos,
y fcil fabricacin sobre reas grandes, hasta mltiples metros cuadrados de
recubrimiento con tcnicas de esparcimiento por roco. Las ventajas son
dificultades para formar pelculas epitaxiales, el no poder depositar
superestructuras de capas atmicas y una falta de arquitectura especfica de las
pelculas.
La tcnica de Langmuir-Blodgett (LB)
Es un mtodo clsico de la qumica de superficies para el depsito de mono capas
moleculares y multicapas, con una arquitectura controlada y grosos de
nanmetros. Las molculas orgnicas que se usan en este tipo de depsitos
contienen dos tipos de grupos funcionales. Una terminacin de la molcula es
soluble en agua (hidroflica), por ejemplo, un grupo cido o alcohol, y la otra
terminacin contiene grupos hidrocarbonados insolubles (hidrofbicos). Como
resultado las molculas forman una pelcula en la superficie del agua (llamada
pelcula Langmuir) con la terminacin hidroflica en la parte del agua. El rango de
aplicaciones va desde pelculas para litografa, pantallas planas, fotoceldas,
dispositivos opto/electrnicos.

Aplicaciones
Silpuran
Pelcula ultradelgada de silicona para aplicaciones mdicas, Silpuran

Wacker, grupo qumico con sede en Mnich, ha desarrollado un producto ultradelgado de precisin a base de silicona de alta pureza. La pelcula comercializada
bajo el nombre Silpuran se puede utilizar en variadas aplicaciones mdicas como
recubrimiento flexible de heridas, membrana permeable al oxgeno o elastmero
flexible en sensores y msculos artificiales.
Silpuran es una pelcula de silicona de alta pureza con un espesor inferior a 20
micrones. Este producto es fabricado en ambiente estril para evitar los riesgos de
contaminacin. Por otra parte, Silpuran no contiene plastificantes o estabilizantes
orgnicos. El polmero base cumple con los requisitos de biocompatibilidad de
acuerdo con la norma ISO 10993 y la regulacin norteamericana US
Pharmacopeia Class VI.
El mtodo de fabricacin, en proceso de patente, permite la obtencin de una
pelcula con un espesor de alta uniformidad, con variaciones de mximo 5% con
respecto a la especificacin. Gracias a la regularidad del espesor y las
propiedades particulares de la silicona base, una nueva gama de aplicaciones
mdicas son ahora posibles a escala industrial.
Silpuran es qumicamente inerte, flexible a bajas temperaturas y resistente al
rasgado. Por otra parte, la pelcula es impermeable al agua, pero permeable al
vapor de agua y otros gases como el oxgeno. Estas caractersticas pueden ser
utilizadas en la produccin de recubrimientos adhesivos permeables para el
sanado de heridas abiertas. Silpuran podra utilizarse tambin como membrana
permeable en mquinas corazn-pulmn.
Silpuran exhibe una constante resistencia elctrica en un amplio rango de
temperaturas. Esta caracterstica dielctrica puede ser aprovechada en
componentes mdicos de alta tecnologa a base de polmeros electro-activos
como sensores y actuadores. La pelcula de silicona que hace parte de los
actuadores permitira el desarrollo de nuevas prtesis, cuyos msculos artificiales
seran capaces de replicar formas naturales de movimiento.