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DEPEO
MOSFET
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INTENSIFICAO
MOS Metal Oxid Semiconductor
Semicondutor de Metal xido
Dreno (D)
Canal N
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Porta (G)
Gate
Regio de Depleo
Fonte (S)
Source
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Reduo do Canal
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Resistncia do Canal
VP
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IDSS S (Saturation)
VP (Pinch-off)
Pinch-off ou Constrio
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Regio
hmica
rd =
rO
V
1 GS
VP
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SIMBOLOGIA
FET canal N
FET canal P
I C = f ( I B ) = I B
Varivel de Controle
Constante
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No FET :
I D = I DSS 1
VGS
VP
Varivel de Controle
Constante
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I D = I DSS
V
1 GS
VP
I D = I DSS
V
1 GS
VP
VGS
4
2
2 VGS VGS
0,5625 = 1 +
+
4
16
2
VGS
VGS
+
+ 0,4375 = 0
16
2
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4,5 = 8 1
VGS + 8VGS + 7 = 0
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0,5625 =
VGS
4
1+
I D = I DSS
V
1 GS
VP
VGS
4
VGS
4
= (0,75 1) 4
0,75 = 1 +
VGS
10
2
4
ID = 8 1
1
2
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ID = 8
1
2
I D = I DSS
V
1 GS
VP
= 8
1
= 2mA
4
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VGS
ID
IDss
0,3 VP
IDss/2
0,5 VP
IDss/4
VP
0 mA
I D = I DSS
V
1 GS
VP
ID
IDSS
IDSS/2
VP
0,3VP
0,5VP
IDSS/4
VGS
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VGS positivo?
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Substrato desligado
da Fonte (S)
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MOSFET Canal n
Substrato ligado
Fonte (S)
ID = 0A
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ID = 0A
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Limite de esvaziamento da
regio de portadores tipo p
Atrao dos eltrons para a
porta devido ao potencial
positivo.
O resultado uma regio de
depleo prxima camada
isolante de SiO2 livre de
lacunas
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Regio de Depleo
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Th Threshold = limiar
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Tem o MOSFET
que tem o canal e
o que no tem o canal
Ambos so de intensificao, porm o nome de
intensificao foi dado ao ltimo pois o nico modo de
operao.
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VDG D
G
S
VDS
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VDG D
VDS
G
S
VDS
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VDG
VGS = VT = 2 V
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VGS = VT = 2 V
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VT
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k=
ID (Ligado)
(VGS (Ligado) VT
)2
ID = k (VGS VT)2
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