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Figure 12.23 A schematic drawing of the 1 atm glow discharge plasma reactor system.
Si la frecuencia de RF es tan baja que tanto los iones como los electrones pueden
alcanzar los lmites y recombinarse, el plasma no iniciar ni formar unas cuantas
descargas filamentosas gruesas entre las placas. Si la frecuencia aplicada est en una
banda estrecha en la que los iones oscilan entre la pantalla mediana y una placa de
electrodo, no tienen tiempo para alcanzar ninguno de los dos lmites durante un medio
perodo de oscilacin. Si los electrones ms mviles siguen siendo capaces de abandonar
el volumen de plasma e inciden sobre las superficies lmite, entonces se produce el
plasma uniforme deseable. Si la frecuencia de RF aplicada es an ms alta de modo que
tanto los electrones como los iones queden atrapados en la descarga, entonces la
descarga forma un plasma filamentoso.
Se dispone de una teora aproximada que produce una relacin entre la separacin del
electrodo, el voltaje del electrodo rms y la frecuencia aplicada, lo que resulta en atrapar
iones pero no en electrones entre las dos placas, y produce el plasma de descarga
deseado uniforme de 1 atm. En la figura 12.24 se muestra un esquema de la cmara
superior del reactor de plasma de descarga de 1 atm. El lmite inferior de este espacio
es la pantalla del plano intermedio, cuyo potencial flotante debe permanecer cerca del
suelo si la salida de la fuente de alimentacin de RF est conectada como un circuito
push-pull a los dos electrodos con una toma central conectada a tierra. En la
configuracin de la figura 12.24, se aplica un sistema de coordenadas cartesiano como
se muestra, con el campo elctrico aplicado en la direccin x. La amplitud mxima del
campo elctrico entre la pantalla mediana conectada a tierra y el electrodo superior es
Eo, y la separacin de la pantalla de los electrodos es la distancia d. Se supone que la
pantalla mediana, con una muestra expuesta en ella, no permite que los iones atraviesen
el plano mediano desde la cmara superior hasta la parte inferior, o viceversa.
Figura 12.24 Esquema del reactor de plasma de descarga de 1 atm, con transformador
de RF secundario, red de adaptacin y los electrodos del reactor.
El campo elctrico entre los electrodos mostrado en la figura 12.24 est dado por
Se supone que la descarga lumnica de 1 atm opera en un plasma sin campo magntico.
La ecuacin del movimiento para los iones o electrones en el modelo de Lorentzian est
dada por
Figura 15.7. Fotografa de un OAUGDP de placa paralela que opera en helio a 1 atm;
Altura vertical del plasma es de 2,5 cm.
Para algunas aplicaciones de procesamiento por plasma, una capa superficial de plasma
relativamente delgada (unos pocos mm) puede ser ms til que los volmenes
relativamente grandes de plasma proporcionados por un reactor de placa paralela. El
reactor de plasma de placas paralelas puede transformarse geomtricamente en un
reactor plano de la manera ilustrada en la figura 15.8 (Roth 1997, Roth et al., 1998). En
esta configuracin, los electrodos de banda paralela de una polaridad de RF conectada
por un bus estn situados en la superficie superior de un panel dielctrico y el electrodo
de polaridad opuesta es una lmina conductora por debajo del dielctrico. Los iones
quedan atrapados en las lneas de campo elctrico arqueadas entre los electrodos
superior e inferior, y se genera una capa de plasma de superficie en la regin donde
ocurre el atrapamiento de iones.
Figura 15.8. La fuente de plasma de capa superficial OAUGDP, que consiste en una
disposicin paralela de tiras de electrodos para la generacin de una capa superficial
plana OAUGDP. Los iones quedan atrapados a lo largo de las lneas de campo elctrico
entre los electrodos de tira adyacentes, que se mantienen con polaridades de RF
opuestas.
15.4.2 Parmetros de funcionamiento independientes
La fuente OAUGDP se ha operado a presiones nominales dentro del 5% de una
atmsfera estndar en la configuracin de placa paralela de la figura 15.6 en el rango de
parmetros indicado en la tabla 15.1. La potencia mostrada en la tabla 15.1 es la
potencia neta suministrada al plasma, y no incluye la potencia reactiva (potencia
reflejada desde la carga de plasma hasta la fuente de alimentacin). Las densidades de
potencia volumtrica mostradas en la tabla 15.1 son muy inferiores a las de los arcos
elctricos o antorchas de plasma, pero mucho ms altas que las asociadas con las
descargas de corona fuera de su regin activa.
Dichos parmetros plasmticos como la energa de los electrones y la densidad de los
nmeros en la OAUGDP son poco conocidos. Se espera que la energa de los iones y de
las especies activas aparte de electrones y fotones sea cercana a la de los gases a
temperatura ambiente con los que chocan frecuentemente a presin atmosfrica. Los
electrones permanecen numerosos y lo suficientemente enrgicos como para excitar los
tomos neutros del fondo, haciendo de esto una descarga lumnica. La existencia de
estados excitados que emiten fotones visibles implica que la poblacin de electrones
tiene una temperatura cintica de al menos unos pocos electrones durante una parte
del ciclo RF. Esta expectativa es consistente con el modelo computacional de Ben Gadri
(1997, 1999).
Otros factores que pueden afectar la produccin de especies activas para el
procesamiento de plasma incluyen si el gas de trabajo se recicla ms all de la pieza de
trabajo expuesta (algunas especies activas importantes son de larga vida y su
concentracin se incrementa tras la recirculacin); La temperatura del gas; La
temperatura de las superficies del electrodo; La humedad del gas; Y el caudal del gas
ms all de la pieza de trabajo. Como se discutir en la seccin 18.6, la transferencia de
momento de Lorentzian de los iones al gas neutral puede dar lugar a importantes
efectos de aceleracin de flujo.
El campo elctrico de RF aplicado entre los electrodos debe ser lo suficientemente
fuerte como para romper elctricamente el gas utilizado, aproximadamente 8,5 kV / cm
para el aire. Este campo elctrico es ms de un factor de tres ms bajo que el campo
elctrico de chispas para el aire seco, pero es tambin un factor tres ms alto que el
campo elctrico requerido para iniciar una OAUGDP en helio y argn. La frecuencia de
RF debe estar en el rango ptimo para la captura de iones, como se discute en la seccin
12.5.2 del Volumen 1. Esta frecuencia est caractersticamente en el rango de kilohertz.
Para fines de investigacin exploratoria, las dos placas de electrodo paralelas ilustradas
en la figura 15.6 pueden ser accionadas por una fuente de alimentacin capaz de
funcionar en el intervalo de parmetros indicado en la tabla 15.1.
Tabla 15.1. Caractersticas de la fuente de plasma para la OAUGDP. Gases de trabajo
caractersticos: He, Ar, N2O, CO2, aire.
Las entradas totales de potencia a las OAUGDP pueden ser tan poco como unos pocos
vatios, o hasta kilovatios para los reactores prototpicos industriales. Las densidades de
potencia de plasma en el volumen de descarga entre placas paralelas pueden variar
desde unos pocos mW / cm3 a 1 W / cm3, con 0,5 W / cm3 de valor nominal. Mientras
se mantenga el campo elctrico mnimo para la descomposicin del gas de trabajo
(aproximadamente 8,5 kV / cm para el aire), la separacin entre los electrodos OAUGDP
est determinada por restricciones geomtricas y la tensin mxima que se puede
manejar convenientemente en una aplicacin particular.
15.4.3 Fenomenologa de la OAUGDP
La gama de parmetros de funcionamiento sobre los que se ha operado una OAUGDP
se indica aproximadamente en la tabla 15.1. Los valores nominales indicados no son
necesariamente valores simultneos. A continuacin, se resumen algunas
observaciones relacionadas con la fenomenologa operativa de la OAUGDP.
15.4.3.1 Mecanismo de atrapamiento de cargas
Los campos elctricos empleados para crear la OAUGDP son normalmente inferiores a
10 kV / cm, incluso en el aire, valores demasiado bajos para conseguir una interrupcin
elctrica de la DC (chispas) del gas de funcionamiento. El OAUGDP se forma y asume sus
caractersticas normales de brillo, cuando los iones, pero no los electrones, quedan
atrapados en las lneas del campo elctrico entre los electrodos. La distancia entre
electrodos, el campo elctrico y la frecuencia se ajustan de acuerdo con la ecuacin
(15.6), de manera que la deriva de la movilidad de los iones en el campo elctrico RF
oscilante los atrapa entre los electrodos durante un ciclo RF. Este mecanismo de
atrapamiento de iones permite que gases como el helio, el argn y el aire se
descompongan bajo campos elctricos tan bajos como 2 o 3 kV / cm para argn y helio
y 8,5 kV / cm para el aire. Durante el atrapamiento de iones, los electrones son libres de
viajar a los electrodos donde se recogen, recombinan o acumulan una carga superficial.
Si la frecuencia de RF es tan baja que ambos iones y electrones alcanzan los electrodos
y se recombinan, el plasma no se iniciar ni formar muy pocas descargas filamentosas
gruesas entre las placas. Si la frecuencia RF aplicada es demasiado alta, de manera que
tanto los electrones como los iones quedan atrapados en la descarga, entonces la
descarga se polariza y sufre una inestabilidad filamentaria que forma filamentos
relativamente gruesos de gran dimetro (100 m) comparados con los de un DBD.
15.4.3.2 Frecuencias de trampeo
En la seccin 12.5.2, se demostr que el desplazamiento rms de un electrn o de un ion
durante un semiciclo en la geometra de la placa paralela de la figura 15.6 est dado por
Si las partculas cargadas de inters estn confinadas entre las placas de electrodo de
descarga durante un ciclo completo, entonces
La ecuacin (15.4) indica que el desplazamiento rms de una especie de carga particular
debe ser menor que la mitad de la separacin clara con el fin de tener una acumulacin
de esa especie de carga entre las placas. En la geometra mostrada en la figura 15.6, la
distancia d es la distancia clara entre las placas de electrodo. Sustituyendo las
ecuaciones (15.2) - (15.4) en la ecuacin (15.1) se obtiene la relacin
As, para el helio, la mayor parte del poder se entrega a la poblacin de electrones,
donde es ms eficaz en la produccin de ionizacin y especies activas.
Los procesos fsicos responsables del flujo de gas paraelctrico se pueden visualizar con
la ayuda de la figura 18.24, un plasma de plancha bidimensional confinado entre placas
paralelas. Este plasma de bloque polarizar de la manera indicada, dando como
resultado un campo elctrico de polarizacin en el volumen del plasma, cuyas lneas
de campo elctrico terminan en las cargas en el lmite del plasma. Estas lneas de
campo elctrico actan como bandas de goma en tensin y dibujan los dos lados del
plasma juntos, pero el plasma permanecer en equilibrios mientras el campo elctrico
externo permanezca en su lugar. La presin electrosttica se manifestar por una
fuerza por unidad de rea que tiende a arrastrar los dos electrodos juntos, como
resultado de la fuerza entre las cargas en el lmite del plasma y las cargas sobre los
electrodos. No hay gradientes de campo elctrico en la mayor parte del plasma, por lo
que permanecer en un equilibrio estable. Los campos elctricos de franjas en los lados
actan para tirar del bloque polarizada de vuelta a su posicin de equilibrio, sin
tendencia a moverse hacia la derecha o hacia la izquierda.
Figura 18.25. Reactor de plasma de placa inclinada con cua de plasma polarizado en
equilibrio inestable debido a fuerzas del cuerpo paraelctricas.
Si la geometra de la figura 18.24 cambia inclinando los dos electrodos como se muestra
en la figura 18.25, un gradiente de campo elctrico existir horizontalmente. El plasma
se acelerar hacia la izquierda, en la direccin del aumento del gradiente del campo
elctrico, por la tendencia de las lneas de campo elctrico del campo elctrico de
polarizacin al contraerse. Esto se puede entender como un desequilibrio en la presin
electrosttica que proporciona una fuerza paraelctrica neta del cuerpo. Las colisiones
Lorentzianas de iones y electrones con el gas neutro arrastrarn este ltimo a la
izquierda en la figura 18.25, junto con las especies cargadas. Esta fuerza del cuerpo
electrosttico hacia la izquierda es independiente de la direccin del campo elctrico
y, por lo tanto, es tan fuerte en campos elctricos de RF como en campos de DC de la
misma magnitud. Adems, esta fuerza es independiente del signo de la especie de
carga que se acelera, y ambas especies se mueven en la misma direccin.
Las fuerzas EHD en los plasmas de descarga lumnica se estudian mejor con una partcula
individual que con un formalismo fluido continuo, y el formalismo Lorentziano es con
frecuencia un enfoque terico productivo. En el formalismo lorentziano, se asume que
cada colisin de los iones o electrones devuelve al gas de trabajo neutro todo el
momento y la energa que cada carga gan, en promedio, desde su ltima colisin.
Como se ver ms adelante, en los plasmas de descarga lumnica la gran proporcin de
neutros a iones no diluye el momento perdido por los iones, porque el gran nmero de
colisiones por segundo compensa la fraccin de ionizacin pequea. En el aire
atmosfrico, la frecuencia de colisin de iones es de aproximadamente 7 GHz; La de
los electrones de unos 5 THz. Estas altas frecuencias de colisin son la razn por la cual
los campos elctricos estn bien acoplados al gas neutro a travs de las poblaciones
de iones / electrones y por eso las velocidades del gas neutro inducido son
comparables a la velocidad de desplazamiento de la movilidad inica.
Obsrvese que la ecuacin (18.24) es la diferencia entre las densidades de carga inica
y electrn. Es un trmino usualmente ignorado en las formulaciones tericas
quasineutrales. Esta densidad de carga neta est relacionada con el campo elctrico en
el plasma a travs de la ecuacin de Poisson,
La fuerza del cuerpo dada por la ecuacin (18.28) se debe a que la presin electrosttica
se transmite a los iones y electrones por aceleracin en el campo elctrico, y el tomo
adquirido por los iones / electrones se transmite a su vez al gas neutro por colisiones
lorentzianas.
La presin gasdinmica ordinaria del gas neutro est dada por
Si las fuerzas de viscosidad, las fuerzas centrfugas, etc. se descuidan, las fuerzas del
cuerpo debidas a los gradientes gasdinmicos y electrostticos estarn
aproximadamente en equilibrio, como se describe por
La ecuacin (18.32) predice que en las regiones de alto campo elctrico ( grande), la
presin del gas neutro es menor que la del entorno. Esta baja presin provoca una
entrada de gas circundante de mayor presin. Esta accin de bombeo es un efecto
paraelctrico mediante el cual los iones y electrones de plasma, y el gas neutro al que
estn acoplados por colisiones, se aceleran hacia regiones de alto gradiente de campo
elctrico. El funcionamiento global de la ecuacin de continuidad de gas neutro atraer
gas neutro hacia el plasma, en regiones fuera del volumen en el que se produce la
transferencia de momento de Lorentz. Una ventaja potencial del mecanismo de
aceleracin de flujo EHD paraelctrico descrito por la ecuacin (18.32) es que los campos
elctricos requeridos pueden ser configurados con un sistema de electrodos fijos muy
simple, robusto y ligero.
La velocidad del gas neutro debido a los efectos de la aceleracin del flujo de gas
paraelctrico se puede estimar en la siguiente va, si los trayectos libres de los neutros
son mucho ms pequeos que las dimensiones del flujo. La presin electrosttica viene
dada por la ecuacin (18.27) anterior, y esto acelera el gas neutro a una velocidad v0. La
energa cintica de este flujo crea una presin de estancamiento, , igual a la presin
electrosttica que impulsa el flujo de gas,
Combinando las ecuaciones (18,40) y (18,41), se obtiene el momento total recibido por
unidad de volumen y por segundo por el gas neutro de las colisiones lorentzianas con
los electrones,
La ecuacin (18.44) indica que la velocidad de deriva del gas neutro inducida por
electrones es igual a la velocidad de deriva de movilidad de electrones, modificada por
la relacin de la masa de electrones a la masa de tomos neutros media. La velocidad
de desplazamiento de la movilidad de electrones puede escribirse en trminos del
campo elctrico, la movilidad de los electrones y la frecuencia de colisin entre el
electrn y el neutro como
Con vdi la velocidad de deriva de movilidad de iones inducida por el campo elctrico. Si
se ignora el calentamiento, los efectos viscosos y los efectos centrfugos, este impulso
se transfiere de los iones a la poblacin neutra para producir una velocidad de
conveccin del gas neutro inducida por iones voi. El impulso adquirido por el gas neutro
de las colisiones de Lorentz con los iones est dado por
La velocidad de deriva de la movilidad inica es dada por
Figura 19.1. Colisiones de iones en una vaina entre el plasma y una pieza de trabajo.
(A) El rgimen de "baja presin", para el cual el recorrido libre medio neutro de iones
es mayor que el espesor de vaina S; Y (b) el rgimen de "alta presin", para el cual el
recorrido libre medio neutro en iones es ms corto que el espesor de la vaina, dando
lugar a que iones dispersados alcancen la capa grabada con velocidades paralelas a la
mscara.
DE LA TESIS 2004-Thesis-Roth-Boundary
Layer Flow Acceleration by Paraelectric
and Peristaltic SE OBTIEN LA SIGUIENTE
INFORMACIN.