12.5.

2 Descarga de resplandor de RF a 1 atm

Un desarrollo relativamente reciente en las fuentes de plasma industriales es la
produccin de descargas de luz atmosfrica de RF (Kanda y col., 1991, Rothbet, 1992).
Mediante el uso de la excitacin RF de alta tensin a frecuencias de kilohertz, se puede
obtener un bit de una descarga uniforme uniforme a 1 atmbof de presin en aire y
otros gases, eliminando as el requisito de un sistema de vaco para exponer materiales
a plasmas.

En la figura 12.23 se muestra un esquema del sistema de reactor de plasma de

descarga de 1 atm desarrollado en el Laboratorio de Ciencia de Plasma UTK
(Universidad de Tennessee, Knoxville). El volumen del reactor est limitado por dos
placas planas paralelas a travs de las cuales se impone un campo elctrico de RF. Este
campo elctrico tiene una amplitud de kilovoltios por centmetro, y frecuencias en el
rango de kilohercios. Los campos elctricos deben ser lo suficientemente fuertes como
para romper elctricamente el gas utilizado, y son mucho ms bajos para el helio y el
argn que para el aire atmosfrico. La frecuencia RF debe estar en el rango correcto, ya
que si es demasiado baja, la descarga no se iniciar, y si es demasiado alta, el plasma
forma descargas filamentosas entre las placas. Slo en una banda de frecuencias
relativamente limitada el reactor de plasma de descarga luminosa atmosfrica formar
un plasma uniforme sin descargas filamentosas.

Las placas de electrodo paralelas que constituyen el reactor estn encerradas en un

recipiente de plexigls, indicado en la figura 12.23. La funcin principal de este
recipiente es controlar la composicin del gas de funcionamiento utilizado durante el
funcionamiento a 1 atm. El reactor tiene una pantalla mediana de metal desnudo, que
puede estar conectada a tierra con un choke de corriente, que se encuentra a medio
camino entre las dos placas de electrodo paralelas. Esta pantalla proporciona una
superficie rgida que soporta el material a tratar y los orificios en la pantalla permiten
un flujo de gas desde la mitad superior de la caja de plexigls a la mitad inferior. Las dos
placas de electrodo paralelas mostradas en la figura 12.23 son accionadas por un
amplificador de potencia capaz de funcionar de 0 a 10 kV rms, sobre frecuencias de
menos de 1 kHz a 100 kHz. El gas es muestreado desde la lnea de escape y filtrado en
un sistema de vaco con un espectrmetro de masas. Las dos placas de electrodo de
cobre son 21,6 cm cuadradas y las superficies en contacto con el plasma estn
cubiertas con una placa aislante de Pyrex de 3,2 mm de espesor.
Los campos elctricos empleados en el reactor de plasma de descarga de 1 atm son
slo unos pocos kilovoltios por centmetro, valores normalmente demasiado bajos para
romper elctricamente el gas de fondo si se aplica DC. Los gases como el helio y el
argn se descomponen bajo tales campos elctricos RF bajos, sin embargo, si la
poblacin de iones positivos est atrapada entre las dos placas paralelas, mientras que
al mismo tiempo los electrones son libres de viajar a las placas de electrodo aisladas
donde se recombinan o construyen una carga superficial. Por lo tanto, el plasma de
descarga luminosa uniforme de 1 atm ms deseable se crea cuando la frecuencia
aplicada del campo elctrico de RF es lo suficientemente alta como para atrapar los
iones entre la pantalla mediana y una placa de electrodos, pero no tan alta que los
electrones tambin queden atrapados.

Figure 12.23 A schematic drawing of the 1 atm glow discharge plasma reactor system.

Si la frecuencia de RF es tan baja que tanto los iones como los electrones pueden
alcanzar los lmites y recombinarse, el plasma no iniciar ni formar unas cuantas
descargas filamentosas gruesas entre las placas. Si la frecuencia aplicada est en una
banda estrecha en la que los iones oscilan entre la pantalla mediana y una placa de
electrodo, no tienen tiempo para alcanzar ninguno de los dos lmites durante un medio
perodo de oscilacin. Si los electrones ms mviles siguen siendo capaces de
abandonar el volumen de plasma e inciden sobre las superficies lmite, entonces se
produce el plasma uniforme deseable. Si la frecuencia de RF aplicada es an ms alta
de modo que tanto los electrones como los iones queden atrapados en la descarga,
entonces la descarga forma un plasma filamentoso.
Se dispone de una teora aproximada que produce una relacin entre la separacin del
electrodo, el voltaje del electrodo rms y la frecuencia aplicada, lo que resulta en
atrapar iones pero no en electrones entre las dos placas, y produce el plasma de
descarga deseado uniforme de 1 atm. En la figura 12.24 se muestra un esquema de la
cmara superior del reactor de plasma de descarga de 1 atm. El lmite inferior de este
espacio es la pantalla del plano intermedio, cuyo potencial flotante debe permanecer
cerca del suelo si la salida de la fuente de alimentacin de RF est conectada como un
circuito push-pull a los dos electrodos con una toma central conectada a tierra. En la
configuracin de la figura 12.24, se aplica un sistema de coordenadas cartesiano como
se muestra, con el campo elctrico aplicado en la direccin x. La amplitud mxima del
campo elctrico entre la pantalla mediana conectada a tierra y el electrodo superior es
Eo, y la separacin de la pantalla de los electrodos es la distancia d. Se supone que la
pantalla mediana, con una muestra expuesta en ella, no permite que los iones
atraviesen el plano mediano desde la cmara superior hasta la parte inferior, o
viceversa.

Figura 12.24 Esquema del reactor de plasma de descarga de 1 atm, con transformador
de RF secundario, red de adaptacin y los electrodos del reactor.
El campo elctrico entre los electrodos mostrado en la figura 12.24 est dado por

Se supone que la descarga lumnica de 1 atm opera en un plasma sin campo

magntico. La ecuacin del movimiento para los iones o electrones en el modelo de
Lorentzian est dada por

Donde el primer trmino en el lado derecho es el trmino de colisin de Lorentz, segn

el cual el momento mv se pierde con cada colisin que ocurre con una frecuencia de
colisin Vc. El componente x de (12.87) est dado por
15.3 DESCARGAS DE LA BARRERA DIELCTRICA ATMOSFRICA (DBDS)
Las descargas de barrera dielctrica (DBD) que funcionan a 1 atm tienen una larga
historia, con la literatura de patentes que se remonta a la dcada de 1860. El DBD se
genera en el espacio entre dos electrodos, cada uno de los cuales est cubierto con un
revestimiento aislante, dielctrico. Se aplica a los electrodos un voltaje de alta tensin
DC, CA o pulsado, que estimula la emisin de electrones desde el ctodo instantneo.
Estos electrones se avalan para formar un filamento a travs de la abertura. Cuando
este enjambre de electrones alcanza el recubrimiento dielctrico opuesto, se extienden
sobre la superficie, bajando el campo elctrico local y apagando la avalancha (vase
Eliasson y Kogelschatz 1988, Kanazawa et al 1988).
15.3.1 Aplicaciones de descargas de barrera dielctrica
La primera aplicacin generalizada de DBDs fue la produccin de ozono para la
desinfeccin de los suministros pblicos de agua. Estas primeras patentes se publicaron
en Alemania en la dcada de 1860, y este sigue siendo un gran uso de esta tecnologa.
Ms recientemente, como la industria grfica ha tenido que pasar de los hidrocarburos
a base de agua a base de tintas por razones ambientales, DBDs se han utilizado para
aumentar la energa de superficie (y, por lo tanto, la capacidad de impresin) de
papeles, pelculas y polimricos web. Como se seala en la seccin 15.1.5, estos
reactores DBD han sido a veces comercializados como reactores 'corona'.
15.3.2 Caractersticas de las descargas de barrera dielctrica
Los DBD funcionan normalmente en una de las configuraciones de placas paralelas o
cilndricas ilustradas en la figura 15.4. La configuracin de placas paralelas se utiliza
para tratar superficialmente bandas y pelculas de movimiento rpido, y el volumen
anular de la configuracin cilndrica se usa para tratar flujos de aire para la produccin
de ozono. Al menos un electrodo de estas geometras est cubierto con una barrera
dielctrica aislante para evitar que las corrientes reales fluyan desde el volumen de
descarga a los electrodos y la fuente de alimentacin.
DBDs utilizados industrialmente usualmente operan a 1 atm, con el aire como el gas de
trabajo. Una excepcin se produce cuando el aire se enriquece con oxgeno para
aumentar la eficiencia de la produccin de ozono. Dado que las avalanchas en el DBD
son muy breves, del orden de decenas de nanosegundos, la tasa de produccin ms
alta de ozono u otras especies activas tiende a ocurrir cuando el voltaje aplicado se
pulsa rpida y repetidamente. El ciclo de trabajo ptimo depende de la composicin
del gas de trabajo y de los detalles de la cadena de reacciones qumicas que conducen
al producto de reaccin deseado. Algunos ozonizadores comerciales y reactores DBD
para el tratamiento de superficies funcionan a una frecuencia de lnea (50 o 60 Hz),
pero la produccin ptima de ozono parece ocurrir en frecuencias de RF del orden de
10 kHz. Los DBD funcionan caractersticamente a tensiones aplicadas de varias decenas
de kilovoltios rms, y en campos elctricos comparables al campo elctrico de
descomposicin del gas de trabajo, 30 kV / cm para el aire.
 Figura 15.4. Diagrama esquemtico de las configuraciones de la fuente de plasma de
descarga de barrera dielctrica (DBD) de la placa paralela (a) - (c) y cilndrica (d) - (f).
15.3.3 Fenomenologa de descarga de barrera dielctrica
El desarrollo de un filamento individual en un DBD se ilustra esquemticamente en la
figura 15.5. Se inicia una descarga filamentaria individual cuando se aplica una alta
tensin entre los electrodos de tal manera que el campo elctrico en la separacin
abierta sea igual o superior a la resistencia a la rotura del gas ambiente. La emisin de
electrones desde la superficie del recubrimiento dielctrico sobre el ctodo
instantneo es estimulada por la fotoemisin UV o la emisin secundaria de electrones
inducida por iones.
Estos electrones se aceleran en el campo elctrico a energas que igualan o sobrepasan
la energa de ionizacin del gas y crean una avalancha en la que el nmero de
electrones se duplica con cada generacin de colisiones ionizantes. La alta movilidad de
los electrones en comparacin con los iones permite que el enjambre de electrones se
mueva a travs de la brecha en las duraciones medidas en nanosegundos. Los
electrones dejan atrs los iones ms lentos y varias especies excitadas y activas que
pueden sufrir reacciones qumicas adicionales.
Cuando el enjambre de electrones alcanza el electrodo opuesto, los electrones se
extienden sobre la superficie aislante, contrarrestando la carga positiva en el nodo
instantneo. Este factor, combinado con la nube de iones ms lentos dejada atrs,
reduce el campo elctrico en las proximidades del filamento y termina cualquier
ionizacin adicional a lo largo de la pista original en escalas de tiempo de decenas de
nanosegundos. Si el aire a 1 atm es el gas de trabajo y la duracin de la descarga no se
prolonga por otros medios (tales como el funcionamiento de la descarga como un
plasma uniforme de una atmsfera de descarga lumnica, ver seccin 15.4), estas
especies activas estn en un equilibrio qumico congelado, y el DBD produce
preferentemente el ozono como especie activa dominante.

Figura 15.5. Etapas en el desarrollo de una avalancha de electrones en un DBD: (a)

iniciacin de avalancha; (B) la nube de electrones alcanza la barrera dielctrica en el
electrodo opuesto; Y (c) electrones esparcidos sobre la superficie dielctrica, dejando
atrs la nube de iones positivos.
Los filamentos producidos por cada avalancha son caractersticamente de unas pocas
decenas a unos pocos cientos de nanmetros de dimetro, y sus "races", donde entran
en contacto con la superficie dielctrica, pueden provocar picaduras o picaduras de
una pieza de trabajo. Las asperezas de polvo o micromtricas en la superficie del
aislante pueden promover la formacin de filamentos. El efecto global sobre una pieza
de trabajo expuesta puede ser bastante no uniforme. En algunas aplicaciones, el
objetivo es satisfecho por especies activas producidas en la avalancha inicial o por
reacciones qumicas encadenadas subsiguientes cuyos productos estn
suficientemente mezclados con el gas de trabajo para proporcionar un efecto
uniforme. La densidad de potencia de los DBD utilizados industrialmente no es inferior
a unos 50 mW / cm3 para lograr un efecto adecuado para el tratamiento superficial y
no ms de 1 W / cm3, un lmite determinado por el flujo de calor en las superficies
dielctricas y de la pieza de trabajo.
15.3.4 Asuntos de seguridad y reglamentacin de las descargas de barrera dielctrica
El avalanchante responsable del DBD requiere un campo elctrico prximo o por
encima del campo elctrico de descomposicin para el gas utilizado. Esto, a su vez,
requiere potenciales aplicados que pueden ser varias decenas de kilovoltios. Si tales
potenciales se aplican a varios kilohertzios, pueden producirse serpentinas y chispas en
las superficies circundantes a tierra, a distancias mucho mayores de lo que cabra
esperar de los potenciales de corriente continua en aire seco.
Otro peligro de seguridad asociado con los DBD operados en aire o gases que
contienen oxgeno es la produccin de ozono. Los ozonizadores pueden generar
concentraciones de ozono muy por encima de los lmites para una exposicin segura de
40 horas de trabajadores y es probable que las concentraciones de ozono de inters
regulatorio sean generadas por cualquier DBD operado con gas oxgeno presente. El
ozono no es slo un peligro para la salud de los seres humanos; Tambin puede daar
piezas de trabajo y la estructura del reactor debido a su poder oxidante.
Los problemas regulatorios menores que pueden surgir con DBD incluyen interferencia
de radiofrecuencia (RFI) por debajo de unos pocos megahertz, RFI a la frecuencia de
operacin del alto voltaje energizante y ruido audible. El ruido audible rara vez es lo
suficientemente alto como para ser de inters regulatorio, pero tiene una calidad que
pocos espectadores humanos estn dispuestos a tolerar durante largos perodos de
tiempo. Tanto la RFI como el ruido audible son relativamente fciles de manejar, ya que
el aislamiento, la proteccin y el recinto necesarios para hacer frente a los riesgos de
alta tensin y ozono pueden reducir estos efectos a valores aceptables.
15.3.5 Aspectos operativos de las descargas de barrera dielctrica
DBDs sera ms ampliamente utilizado para el procesamiento de plasma si eran
capaces de producir mayores flujos de especies activas. Son adecuados para elevar la
energa superficial de las bandas y pelculas a niveles superiores a 50 dinas / cm, pero
tienen dificultad para alcanzar las energas superficiales ms altas requeridas para las
tintas a base de agua, por ejemplo. Esta limitacin del flujo de especies activas refleja
la que se impone al flujo de potencia de descarga (aproximadamente 1 W / cm2) por la
presencia de un dielctrico aislante trmico en los electrodos.
El ozono, los xidos de nitrgeno y otras especies oxidantes producidas durante la
avalancha pueden daar todo lo que entra en contacto, incluida la pieza de trabajo, el
recubrimiento de barrera dielctrica sobre los electrodos y la estructura del reactor. En
algunas aplicaciones, este problema puede evitarse mediante una eleccin adecuada
de gases, pero en otros, el efecto qumico o de procesamiento del plasma depende de
estas especies oxidantes.
El pequeo dimetro de los filamentos de descarga, del orden de decenas a unos pocos
cientos de nanmetros, da lugar a una deposicin de energa local muy alta donde los
filamentos entran en contacto con la pieza de trabajo o el revestimiento de barrera
dielctrica. Esto, en combinacin con la presencia de las especies oxidantes discutidas
anteriormente, puede conducir a pinholing de una pieza de trabajo o dao erosivo del
recubrimiento de electrodo.
Los DBD comerciales utilizados para la produccin de ozono pueden operarse a niveles
de potencia de megavatios, y las fuentes de placas paralelas utilizadas para la mejora
de la energa superficial de las bandas y pelculas usualmente funcionan a nivel de
varios kW. Estos niveles de potencia relativamente altos pueden ir acompaados de los
problemas de seguridad y regulacin discutidos anteriormente, pero si un reactor DBD
est aislado, protegido y encerrado para hacer frente a una de estas preocupaciones,
los otros pueden ser tratados tambin.
15.3.6 Cuestiones de investigacin de las descargas de barrera dielctrica
Al igual que en las descargas de corona, la investigacin bsica de los parmetros
plasmticos y de los procesos fsicos de los DBDs ha sido reprimida por la necesidad de
resolucin temporal y espacial de mediciones de diagnstico de plasma a muy corta
duracin (nanosegundos) y dimensiones muy pequeas (nanmetros). Estas
dificultades experimentales han obligado a los investigadores a utilizar un enfoque de
"caja negra" basado en las relaciones fenomenolgicas entre la entrada y la salida y el
modelado computacional, en lugar de depender de mediciones fsicas directas de la
descarga DBD.
Otros aspectos que no son el tiempo y la resolucin espacial del DBD que son mal
entendidos o bajo investigacin activa incluyen el modelado de la qumica del plasma.
Cuando se usan DBDs como ozonizadores o para procesamiento qumico de plasma, las
reacciones qumicas inducidas por electrones energticos durante y despus de la
avalancha se modelan a la manera de un reactor qumico. La cifra de mrito a
optimizar es por lo general los kilogramos de producto (como el ozono, por ejemplo)
por kilovatio-hora de energa suministrada al plasma.
Otras cuestiones de investigacin incluyen la comprensin de los procesos fsicos en el
punto de contacto del filamento con la barrera dielctrica. Esto puede conducir a la
penetracin en la naturaleza autolimitada de la avalancha, ya minimizar el dao debido
a los altos flujos de la partcula o de la energa en la superficie. Por ltimo, la
observacin experimental de DBD en funcionamiento durante largos perodos a veces
revela un notable pero poco comprendido grado de autoorganizacin espacial de los
filamentos, en el que ocupan lugares con patrones, aproximadamente iguales, como si
fueran la solucin a un problema matemtico bidimensional Problema del valor propio.
15.4 UN PLASMA DE DESCARGA UNIFORME UNIFORME ATMOSFERA (OAUGDP)
Recientemente ha sido posible generar grandes volmenes (multiliter) de plasma de
descarga luminiscente uniforme a 1 atm con el plasma uniforme de descarga luminosa
de una atmsfera (OAUGDP). La teora de este reactor se trat en la seccin 12.5.2 del
Volumen 1, donde se analiza la fsica del mecanismo de captura de iones (Roth 1995).
El desarrollo de la OAUGDP es mucho ms reciente que la descarga corona o el DBD
discutido anteriormente.
Von Engle et al. (1933) reportaron descargas de resplandor de presin atmosfrica con
electrodos desnudos en aire e hidrgeno usando voltajes de conduccin DC y
radiofrecuencia RF. Esta descarga, sin embargo, era inestable a la transicin de
incandescencia a arco, requera ctodos especialmente enfriados y slo poda ser
operada a 1 atm iniciando la descarga en condiciones de vaco y elevando lentamente
la presin a 1 atm. Trabajos posteriores en la OAUGDP incluyeron a Kanazawa et al
(1988), Yokoyama et al (1990), Ben Gadri (1997, 1999), Massines y otros (1998), Roth
(1995, 1997, 1999) y Roth et al (1995a, b, 1998). Las descargas en los primeros cinco de
estos papeles estaban restringidas a gases de trabajo con aplicaciones industriales
limitadas, tales como argn, helio o helio con una mezcla de acetona. Sin embargo, el
progreso entre 1988 y 1999 mostr claramente que las descargas de RF en placa
paralela pueden generar, en las condiciones de funcionamiento apropiadas, un plasma
difuso de descarga luminosa libre de filamentos en todo el volumen de descarga, en
aire ya 1 atm de presin.
15.4.1 Caractersticas de la Fuente del Plasma de la OAUGD
En la figura 15.6 se muestra un diagrama esquemtico de un sistema de reactores
OAUGDP de placas paralelas. En la figura 15.7 se muestra una fotografa de una fuente
OAUGDP que funciona en helio. El volumen del reactor est limitado por dos placas
planas paralelas, al menos una de las cuales debe estar cubierta por un revestimiento
aislante. Este recubrimiento previene arcos de RF y permite la acumulacin de carga
superficial que lleva la descarga de la mitad del ciclo de RF a la siguiente, como lo
muestran Ben Gadri (1997) y Massines et al (1998). La fuente OAUGDP es altamente
capacitiva como un elemento de circuito, y la adaptacin de impedancia de la fuente
de alimentacin a la fuente es deseable con el fin de evitar el uso de una fuente de
alimentacin caro y sobrevalorado.
 Figura 15.6. Diagrama esquemtico de un reactor OAUGDP de placa paralela, con
captura de iones en el campo elctrico RF.

Figura 15.7. Fotografa de un OAUGDP de placa paralela que opera en helio a 1 atm;
Altura vertical del plasma es de 2,5 cm.
Para algunas aplicaciones de procesamiento por plasma, una capa superficial de
plasma relativamente delgada (unos pocos mm) puede ser ms til que los volmenes
relativamente grandes de plasma proporcionados por un reactor de placa paralela. El
reactor de plasma de placas paralelas puede transformarse geomtricamente en un
reactor plano de la manera ilustrada en la figura 15.8 (Roth 1997, Roth et al., 1998). En
esta configuracin, los electrodos de banda paralela de una polaridad de RF conectada
por un bus estn situados en la superficie superior de un panel dielctrico y el
electrodo de polaridad opuesta es una lmina conductora por debajo del dielctrico.
Los iones quedan atrapados en las lneas de campo elctrico arqueadas entre los
electrodos superior e inferior, y se genera una capa de plasma de superficie en la
regin donde ocurre el atrapamiento de iones.

Figura 15.8. La fuente de plasma de capa superficial OAUGDP, que consiste en una
disposicin paralela de tiras de electrodos para la generacin de una capa superficial
plana OAUGDP. Los iones quedan atrapados a lo largo de las lneas de campo elctrico
entre los electrodos de tira adyacentes, que se mantienen con polaridades de RF
opuestas.
15.4.2 Parmetros de funcionamiento independientes
La fuente OAUGDP se ha operado a presiones nominales dentro del 5% de una
atmsfera estndar en la configuracin de placa paralela de la figura 15.6 en el rango
de parmetros indicado en la tabla 15.1. La potencia mostrada en la tabla 15.1 es la
potencia neta suministrada al plasma, y no incluye la potencia reactiva (potencia
reflejada desde la carga de plasma hasta la fuente de alimentacin). Las densidades de
potencia volumtrica mostradas en la tabla 15.1 son muy inferiores a las de los arcos
elctricos o antorchas de plasma, pero mucho ms altas que las asociadas con las
descargas de corona fuera de su regin activa.
Dichos parmetros plasmticos como la energa de los electrones y la densidad de los
nmeros en la OAUGDP son poco conocidos. Se espera que la energa de los iones y de
las especies activas aparte de electrones y fotones sea cercana a la de los gases a
temperatura ambiente con los que chocan frecuentemente a presin atmosfrica. Los
electrones permanecen numerosos y lo suficientemente enrgicos como para excitar
los tomos neutros del fondo, haciendo de esto una descarga lumnica. La existencia de
estados excitados que emiten fotones visibles implica que la poblacin de electrones
tiene una temperatura cintica de al menos unos pocos electrones durante una parte
del ciclo RF. Esta expectativa es consistente con el modelo computacional de Ben Gadri
(1997, 1999).
Otros factores que pueden afectar la produccin de especies activas para el
procesamiento de plasma incluyen si el gas de trabajo se recicla ms all de la pieza de
trabajo expuesta (algunas especies activas importantes son de larga vida y su
concentracin se incrementa tras la recirculacin); La temperatura del gas; La
temperatura de las superficies del electrodo; La humedad del gas; Y el caudal del gas
ms all de la pieza de trabajo. Como se discutir en la seccin 18.6, la transferencia de
momento de Lorentzian de los iones al gas neutral puede dar lugar a importantes
efectos de aceleracin de flujo.
El campo elctrico de RF aplicado entre los electrodos debe ser lo suficientemente
fuerte como para romper elctricamente el gas utilizado, aproximadamente 8,5 kV /
cm para el aire. Este campo elctrico es ms de un factor de tres ms bajo que el
campo elctrico de chispas para el aire seco, pero es tambin un factor tres ms alto
que el campo elctrico requerido para iniciar una OAUGDP en helio y argn. La
frecuencia de RF debe estar en el rango ptimo para la captura de iones, como se
discute en la seccin 12.5.2 del Volumen 1. Esta frecuencia est caractersticamente en
el rango de kilohertz. Para fines de investigacin exploratoria, las dos placas de
electrodo paralelas ilustradas en la figura 15.6 pueden ser accionadas por una fuente
de alimentacin capaz de funcionar en el intervalo de parmetros indicado en la tabla
15.1.
Tabla 15.1. Caractersticas de la fuente de plasma para la OAUGDP. Gases de trabajo
caractersticos: He, Ar, N2O, CO2, aire.

Las entradas totales de potencia a las OAUGDP pueden ser tan poco como unos pocos
vatios, o hasta kilovatios para los reactores prototpicos industriales. Las densidades de
potencia de plasma en el volumen de descarga entre placas paralelas pueden variar
desde unos pocos mW / cm3 a 1 W / cm3, con 0,5 W / cm3 de valor nominal. Mientras
se mantenga el campo elctrico mnimo para la descomposicin del gas de trabajo
(aproximadamente 8,5 kV / cm para el aire), la separacin entre los electrodos
OAUGDP est determinada por restricciones geomtricas y la tensin mxima que se
puede manejar convenientemente en una aplicacin particular.
15.4.3 Fenomenologa de la OAUGDP
La gama de parmetros de funcionamiento sobre los que se ha operado una OAUGDP
se indica aproximadamente en la tabla 15.1. Los valores nominales indicados no son
necesariamente valores simultneos. A continuacin, se resumen algunas
observaciones relacionadas con la fenomenologa operativa de la OAUGDP.
15.4.3.1 Mecanismo de atrapamiento de cargas
Los campos elctricos empleados para crear la OAUGDP son normalmente inferiores a
10 kV / cm, incluso en el aire, valores demasiado bajos para conseguir una interrupcin
elctrica de la DC (chispas) del gas de funcionamiento. El OAUGDP se forma y asume
sus caractersticas normales de brillo, cuando los iones, pero no los electrones, quedan
atrapados en las lneas del campo elctrico entre los electrodos. La distancia entre
electrodos, el campo elctrico y la frecuencia se ajustan de acuerdo con la ecuacin
(15.6), de manera que la deriva de la movilidad de los iones en el campo elctrico RF
oscilante los atrapa entre los electrodos durante un ciclo RF. Este mecanismo de
atrapamiento de iones permite que gases como el helio, el argn y el aire se
descompongan bajo campos elctricos tan bajos como 2 o 3 kV / cm para argn y helio
y 8,5 kV / cm para el aire. Durante el atrapamiento de iones, los electrones son libres
de viajar a los electrodos donde se recogen, recombinan o acumulan una carga
superficial.
Si la frecuencia de RF es tan baja que ambos iones y electrones alcanzan los electrodos
y se recombinan, el plasma no se iniciar ni formar muy pocas descargas filamentosas
gruesas entre las placas. Si la frecuencia RF aplicada es demasiado alta, de manera que
tanto los electrones como los iones quedan atrapados en la descarga, entonces la
descarga se polariza y sufre una inestabilidad filamentaria que forma filamentos
relativamente gruesos de gran dimetro (100 m) comparados con los de un DBD.
15.4.3.2 Frecuencias de trampeo
En la seccin 12.5.2, se demostr que el desplazamiento rms de un electrn o de un
ion durante un semiciclo en la geometra de la placa paralela de la figura 15.6 est
dado por

Donde E0 es el campo elctrico mximo durante el ciclo de RF, es la frecuencia

angular RF, m la masa de la especie y c la frecuencia de colisin de la especie de
inters. Si 0 es la frecuencia de activacin en hertz, y Vrms es el voltaje rms aplicado a
las placas, entonces la frecuencia de radianes RF es dada por

Y el campo elctrico mximo entre las placas puede expresarse en trminos de la

tensin de RF de pico V0 que aparece entre ellas,

Si las partculas cargadas de inters estn confinadas entre las placas de electrodo de
descarga durante un ciclo completo, entonces

La ecuacin (15.4) indica que el desplazamiento rms de una especie de carga particular
debe ser menor que la mitad de la separacin clara con el fin de tener una
acumulacin de esa especie de carga entre las placas. En la geometra mostrada en la
figura 15.6, la distancia d es la distancia clara entre las placas de electrodo.
Sustituyendo las ecuaciones (15.2) - (15.4) en la ecuacin (15.1) se obtiene la relacin

Mediante la manipulacin de la aproximacin (15.5), la frecuencia crtica 0 por encima

de la cual la descarga lumnica uniforme debe acumularse en el volumen de plasma
viene dada por

La tensin eficaz en la ecuacin (15.6) es la que limita el rgimen de descarga

uniforme. Cabe sealar que el producto (m0) en el denominador es menor para
electrones que para iones. Por lo tanto, la frecuencia crtica para el inicio de la descarga
uniforme (trampa de iones) es inferior a la frecuencia crtica para el inicio de la
descarga filamentaria (trampa de electrones). Por lo tanto, para la operacin en el
rgimen uniforme de descarga lumnica, la frecuencia de conduccin debe estar entre
los lmites

15.4.3.3 Entrada de energa para las especies cargadas

Las aplicaciones comerciales de la OAUGDP al tratamiento superficial de materiales
requieren densidades de potencia lo suficientemente elevadas para producir flujos
tiles de especies activas de plasma, pero no lo suficientemente altas para daar
materiales sensibles tales como telas y pelculas de polmero. Para entender los
factores que determinan la densidad de potencia plasmtica, considere el trabajo
realizado sobre un solo ion o electrn entre placas paralelas por el campo elctrico RF,
dado por

La potencia suministrada a este ion o electrn es

Tomando la derivada del desplazamiento x (t) dada por la ecuacin (12.89) en el

Volumen 1, se obtiene

Sustituyendo la ecuacin (12.86) del volumen 1 por E (t) y la ecuacin (15.10) en la

ecuacin (15.9), se obtiene

La potencia media por unidad de volumen se obtiene multiplicando la ecuacin (15.11)

por la densidad de electrones / iones, e integrando sobre un ciclo de oscilacin, t =
2. El primer trmino de la ecuacin (15.11) promedia a cero, y el trmino restante es

Sustituyendo la ecuacin (12.92) del volumen 1 por la constante de integracin C2, la

ecuacin (15.12) se convierte en

En el reactor OAUGDP, la frecuencia de activacin es tpicamente de 1-10 kHz, mientras

que c es GHz para iones y THz para electrones. As, c >> ,, y la ecuacin (15.13)
puede ser aproximada como

Usando la ecuacin (15.3) para escribir el campo elctrico mximo E0 en funcin de la

tensin aplicada rms en esta geometra de placas paralelas, se obtiene la ecuacin
(15.14) en la forma
Esta relacin predice una densidad de potencia proporcional al cuadrado de la tensin
aplicada.
El campo elctrico mximo E0 se puede escribir en trminos de los parmetros del
plasma y del reactor usando las ecuaciones (15.1), (15.2) y (15.4) con xrms = d / 2, para
obtener

Sustituyendo la ecuacin (15.16) en la ecuacin (15.14) para los rendimientos de

densidad de potencia

Si la densidad de nmero de plasma permanece aproximadamente constante, la

ecuacin (15.17) predice una densidad de potencia proporcional al cuadrado de la
frecuencia de RF, en buen acuerdo con los datos experimentales ilustrados en la figura
12.27 del Volumen 1.
La entrada de potencia relativa a las poblaciones de iones y electrones puede
calcularse a partir de la ecuacin (15.15). Bajo condiciones de Vrms fijo y
espaciamiento de electrodos d, la potencia relativa entregada a las poblaciones de
electrones e iones es

Donde m y M son la masa de electrones y iones, y ce y ci las frecuencias de colisin

de electrones y iones, respectivamente. Utilizando las frecuencias de colisin a 1 atm
para gas de helio,

As, para el helio, la mayor parte del poder se entrega a la poblacin de electrones,
donde es ms eficaz en la produccin de ionizacin y especies activas.

18.6 CONTROL DE FLUJO ELECTROHIDRODINMICO (EHD)

Los plasmas de procesamiento industrial y el gas de trabajo neutro en el que estn

incrustados pueden ser manipulados por campos magnticos o elctricos a travs de la
aplicacin respectiva de las fuerzas del cuerpo magnetohidrodinmico (MHD) o
electrohidrodinmico (EHD).
Las fuerzas MHD son a veces tiles en la manipulacin de arcos, antorchas de plasma u
otros plasmas trmicos con densidades de corriente y conductividad elctrica elevadas
(Clauser y Meyer 1964, Tsinober 1989). El atractivo del control de flujo MHD en
entornos industriales se ve comprometido, sin embargo, por el requisito de un campo
magntico fuerte. Las bobinas de campo magntico pueden plantear problemas de
confiabilidad y tener altos requerimientos de energa elctrica y de agua de
refrigeracin. Las fuerzas de MHD rara vez son tiles en la manipulacin del flujo de
plasma o de gas neutro en los plasmas de procesamiento de descarga lumnica
industrial, porque la conductividad elctrica y la densidad de corriente asociadas con
tales plasmas son demasiado bajas.
El campo elctrico se puede utilizar para manipular los plasmas de descarga de
iluminacin industrial y el gas de trabajo neutro en el que estn incrustados, incluso a 1
atm. La creacin de campos elctricos requiere solamente electrodos de chapa de
metal relativamente robustos, que no plantean los requisitos de potencia o
enfriamiento asociados con las bobinas de campo magntico requeridas para el control
de flujo MHD. Los campos elctricos as generados pueden ser utilizados para
manipular el flujo de los plasmas de descarga de resplandor por las fuerzas del cuerpo
de EHD. EHD es el estudio del comportamiento de los fluidos cargados elctricamente
en campos elctricos, y encuentra aplicacin en rociadores electrostticos de pintura y
precipitadores electrostticos, que se discutirn en el Volumen 3, as como otros
procesos industriales.

Figura 18.24. Reactor de plasma de placas paralelas con un plasma de placas

polarizadas en equilibrio estable.

18.6.1 Flujo EHD inducido por efectos paraelctricos

El primero de los tres mecanismos que discutiremos para la manipulacin

electrohidrodinmica de los plasmas de descarga luminosa y su gas de trabajo neutro
es la fuerza del cuerpo EHD paraelctrica. Esta fuerza surge cuando el campo elctrico
aplicado acta sobre la densidad neta de carga del plasma, para proporcionar una
fuerza corporal capaz de acelerar el gas neutro a velocidades de hasta 10 m / s
aproximadamente (Roth 2001).
18.6.1.1 Bases Conceptuales de la Fuerza Paraelctrica del Cuerpo
Una ayuda conceptual para entender los fenmenos de EHD es utilizar el hecho de que
las lneas de campo elctrico terminan en cargas (cargas libres o conductores
cargados). Estas lneas de campo elctrico se comportan como bandas de goma en
tensin para tirar de cargas de signo opuesto juntos. En los plasmas de descarga
luminosa, el campo elctrico de polarizacin hace que las cargas, el plasma y el gas
de trabajo se muevan hacia regiones con lneas de campo elctrico ms cortas y
campos elctricos ms fuertes. Durante este comportamiento, el plasma se
desplazar paraelctricamente hacia gradientes de campo elctrico cada vez mayores
y arrastrar el gas neutro junto con l como resultado de frecuentes colisiones de
neutro-ion y electrn neutro.

Los procesos fsicos responsables del flujo de gas paraelctrico se pueden visualizar con
la ayuda de la figura 18.24, un plasma de plancha bidimensional confinado entre placas
paralelas. Este plasma de bloque polarizar de la manera indicada, dando como
resultado un campo elctrico de polarizacin en el volumen del plasma, cuyas lneas
de campo elctrico terminan en las cargas en el lmite del plasma. Estas lneas de
campo elctrico actan como bandas de goma en tensin y dibujan los dos lados del
plasma juntos, pero el plasma permanecer en equilibrios mientras el campo
elctrico externo permanezca en su lugar. La presin electrosttica se manifestar
por una fuerza por unidad de rea que tiende a arrastrar los dos electrodos juntos,
como resultado de la fuerza entre las cargas en el lmite del plasma y las cargas sobre
los electrodos. No hay gradientes de campo elctrico en la mayor parte del plasma,
por lo que permanecer en un equilibrio estable. Los campos elctricos de franjas en
los lados actan para tirar del bloque polarizada de vuelta a su posicin de equilibrio,
sin tendencia a moverse hacia la derecha o hacia la izquierda.
 Figura 18.25. Reactor de plasma de placa inclinada con cua de plasma polarizado en
equilibrio inestable debido a fuerzas del cuerpo paraelctricas.
Si la geometra de la figura 18.24 cambia inclinando los dos electrodos como se
muestra en la figura 18.25, un gradiente de campo elctrico existir horizontalmente.
El plasma se acelerar hacia la izquierda, en la direccin del aumento del gradiente
del campo elctrico, por la tendencia de las lneas de campo elctrico del campo
elctrico de polarizacin al contraerse. Esto se puede entender como un desequilibrio
en la presin electrosttica que proporciona una fuerza paraelctrica neta del
cuerpo. Las colisiones Lorentzianas de iones y electrones con el gas neutro
arrastrarn este ltimo a la izquierda en la figura 18.25, junto con las especies
cargadas. Esta fuerza del cuerpo electrosttico hacia la izquierda es independiente de
la direccin del campo elctrico y, por lo tanto, es tan fuerte en campos elctricos de
RF como en campos de DC de la misma magnitud. Adems, esta fuerza es
independiente del signo de la especie de carga que se acelera, y ambas especies se
mueven en la misma direccin.
Las fuerzas EHD en los plasmas de descarga lumnica se estudian mejor con una
partcula individual que con un formalismo fluido continuo, y el formalismo Lorentziano
es con frecuencia un enfoque terico productivo. En el formalismo lorentziano, se
asume que cada colisin de los iones o electrones devuelve al gas de trabajo neutro
todo el momento y la energa que cada carga gan, en promedio, desde su ltima
colisin. Como se ver ms adelante, en los plasmas de descarga lumnica la gran
proporcin de neutros a iones no diluye el momento perdido por los iones, porque el
gran nmero de colisiones por segundo compensa la fraccin de ionizacin pequea.
En el aire atmosfrico, la frecuencia de colisin de iones es de aproximadamente 7
GHz; La de los electrones de unos 5 THz. Estas altas frecuencias de colisin son la
razn por la cual los campos elctricos estn bien acoplados al gas neutro a travs de
las poblaciones de iones / electrones y por eso las velocidades del gas neutro
inducido son comparables a la velocidad de desplazamiento de la movilidad inica.
18.6.1.2 Teora de la aceleracin del flujo paraelctrico
La fuerza del cuerpo electrosttico sobre un plasma con una densidad de carga neta c
est dada por

La densidad de carga neta, c, viene dada por

Obsrvese que la ecuacin (18.24) es la diferencia entre las densidades de carga inica
y electrn. Es un trmino usualmente ignorado en las formulaciones tericas
quasineutrales. Esta densidad de carga neta est relacionada con el campo elctrico en
el plasma a travs de la ecuacin de Poisson,

Si se sustituye la ecuacin (18.25) por la ecuacin (18.23), la fuerza del cuerpo

electrosttico es

Los dos ltimos trminos de la ecuacin (18.26) son iguales para la geometra
unidimensional de inters aqu. La expresin entre parntesis en el ltimo trmino de
la ecuacin (18.26) es la presin electrosttica pE ,

Que es numricamente y dimensionalmente la densidad de energa en J/m3, as como

las unidades de N/m2, o la presin. En el presente contexto, es til considerar a pE
como una presin, debido a su influencia en el flujo de gas neutro. Usando la ecuacin
(18.27), la ecuacin (18.26) puede escribirse como

La fuerza del cuerpo dada por la ecuacin (18.28) se debe a que la presin
electrosttica se transmite a los iones y electrones por aceleracin en el campo
elctrico, y el tomo adquirido por los iones / electrones se transmite a su vez al gas
neutro por colisiones lorentzianas.
La presin gasdinmica ordinaria del gas neutro est dada por
Si las fuerzas de viscosidad, las fuerzas centrfugas, etc. se descuidan, las fuerzas del
cuerpo debidas a los gradientes gasdinmicos y electrostticos estarn
aproximadamente en equilibrio, como se describe por

Como resultado, la suma de las presiones gasdinmicas y electrostticas es

aproximadamente constante,

Es importante tener en cuenta que, con referencia a la figura 18.24, la presin

gasdinmica sobre las placas paralelas es repulsiva (el gas empuja las placas entre s),
mientras que la presin electrosttica es atractiva, arrastrando las placas juntas. Las
convenciones de signos para estas presiones y para las fuerzas asociadas del cuerpo
deben ser tratadas con cautela en gases parcialmente ionizados.
Al sustituir las ecuaciones (18.27) y (18.29) en la ecuacin (18.31), se obtiene una
relacin aproximada entre los parmetros gasdinmicos y el campo elctrico

La ecuacin (18.32) predice que en las regiones de alto campo elctrico ( pE

grande), la presin del gas neutro pg es menor que la del entorno. Esta baja
presin provoca una entrada de gas circundante de mayor presin. Esta accin de
bombeo es un efecto paraelctrico mediante el cual los iones y electrones de plasma, y
el gas neutro al que estn acoplados por colisiones, se aceleran hacia regiones de alto
gradiente de campo elctrico. El funcionamiento global de la ecuacin de continuidad
de gas neutro atraer gas neutro hacia el plasma, en regiones fuera del volumen en el
que se produce la transferencia de momento de Lorentz. Una ventaja potencial del
mecanismo de aceleracin de flujo EHD paraelctrico descrito por la ecuacin (18.32)
es que los campos elctricos requeridos pueden ser configurados con un sistema de
electrodos fijos muy simple, robusto y ligero.
La velocidad del gas neutro debido a los efectos de la aceleracin del flujo de gas
paraelctrico se puede estimar en la siguiente va, si los trayectos libres de los neutros
son mucho ms pequeos que las dimensiones del flujo. La presin electrosttica viene
dada por la ecuacin (18.27) anterior, y esto acelera el gas neutro a una velocidad v0.
La energa cintica de este flujo crea una presin de estancamiento, ps , igual a la
presin electrosttica que impulsa el flujo de gas,

En la ecuacin (18.33) se supone que la presin electrosttica comprime el gas a una

presin de estancamiento (o dinmica) dada por el trmino medio de la ecuacin.
Cuando el gas se acelera, se produce una versin invertida en el tiempo del flujo de gas
estancado. Resolviendo la ecuacin (18.33) para la velocidad de flujo de gas neutro
inducida v 0 , se obtiene

La velocidad de flujo de gas inducida para-elctricamente en una descarga lumnica

depende por tanto del campo elctrico (o de una geometra fija, de la tensin aplicada)
y de la densidad de masa del gas de trabajo neutro.
18.6.1.3 Caudal de gas paraelctrico a 1 atm.
En la figura 18.26 una imagen digital de una prueba de flujo de humo que implica una
OAUGDP ilustra los efectos paraelctricos que acabamos de discutir (Roth et al 1998,
2000, Sherman 1998). En la imagen superior (figura 18.26 (a)), un chorro de humo de
baja velocidad (aproximadamente 1 m / s) fluye horizontalmente 1,5 cm por encima de
un panel plano. El panel tiene situado en l un electrodo nico, asimtrico, no
energizado, como el que se muestra esquemticamente en la figura 18.27 (a). El
electrodo se energiza en la imagen inferior (figura 18.26 (b)). La geometra del
electrodo es asimtrica de tal manera que el flujo de gas neutro inducido para-
elctricamente sobre la superficie del panel fluye hacia la izquierda, con una velocidad
de unos pocos metros por segundo.
El descenso del chorro de humo hacia la superficie se produce porque se genera una
regin de baja presin en el plasma por bombeo paraelctrico del gas neutro desde su
vecindad. En la imagen digital mostrada en la figura 18.26 (b), el resplandor azul del
plasma es abrumado por la fuerte iluminacin necesaria para observar el humo y no es
visible. El propio plasma est confinado a aproximadamente 1-2 mm de la superficie
del panel, y se extiende no ms de aproximadamente 5 mm del electrodo asimtrico
mostrado en la figura 18.27 (a).
La geometra del panel plano OAUGDP utilizada en los experimentos de visualizacin
de flujo mostrados en la figura 18.26 es fija, y por lo tanto el campo elctrico (y la
velocidad de flujo) es directamente proporcional a la tensin aplicada. El campo
elctrico E es de aproximadamente 106 V / m, y la densidad de masa de aire en STP
es de aproximadamente 1,3 kg / m3. Cuando estos valores se sustituyen en la ecuacin
(18.34), la velocidad de flujo de gas neutro predicha es
 Figura 18.26. Demostracin de la fuerza paraelctrica en un plasma de aire OAUGD
debido a un solo electrodo asimtrico como el mostrado en la figura 18.27 (a). Un solo
electrodo de 0,5 mm de ancho est incrustado en la superficie superior del panel con
un electrodo inferior de 3 mm de ancho desplazado hacia la izquierda en la superficie
inferior. El chorro est a 1,5 cm por encima de la superficie y su velocidad de salida se
estima en 1-2 m / s. (A) Plasma desactivado; (B) plasma encendido, Vmax ~ 4,5 kV rms,
0= 3 kHz.
La velocidad de soplado sobre la superficie de un panel recubierto con electrodos
asimtricos similar a los de la figura 18.27 (b) se midi en funcin de la altura sobre la
superficie con un tubo pitot y se representa para tres tensiones de excitacin en la
figura 18.28 (Roth et al. Al 1998). Las velocidades mximas observadas en la figura
18.28 se representan en la figura 18.29 en funcin de la tensin de excitacin. Estos
datos demuestran velocidades inducidas de gas neutro de varios metros por segundo,
consistentes con la ecuacin (18.35). Estos datos tambin demuestran que, por encima
de un voltaje de umbral al cual el plasma se inicia, la velocidad del gas neutro es
linealmente proporcional al voltaje de excitacin, tambin consistente con la
dependencia del campo elctrico predicha por la ecuacin (18.34).
 Figura 18.27. Diagrama esquemtico de las configuraciones de electrodos utilizadas
para generar una capa de plasma OAUGD en un panel plano: (a) un panel con una sola
tira de electrodo asimtrico para inducir el flujo EHD a la izquierda; Y (b) un conjunto
de tiras de electrodos asimtricas para inducir el flujo EHD a la izquierda.

Figura 18.28. Perfiles de velocidad de soplado medidos con un tubo de pitot sobre la
superficie de un panel plano con mltiples electrodos de banda asimtrica como los
mostrados en la figura 18.27 (b) (pero con la asimetra invertida para inducir el flujo a
la derecha). Los tres perfiles se tomaron para tensiones de excitacin de electrodos
rms de 3, 4 y 5 kV.
Figura 18.29. Las velocidades mximas de soplado de la figura 18.28 se representan en
funcin de la tensin de excitacin del electrodo rms en kilovoltios.
18.6.2 Flujo EHD inducido por la deriva de la movilidad DC
El segundo mecanismo de aceleracin de flujo de gas neutro relacionado con EHD es
inducido por colisiones Lorentzianas de electrones o iones a medida que derivan en un
campo elctrico DC. Esto puede implementarse con la geometra ilustrada en la figura
18.30, un panel plano que contiene electrodos de tira, que est cubierto por plasma
OAUGDP. La superficie inferior del panel est cubierta por un plano slido de tierra de
cobre, y la superficie superior contiene electrodos de tira paralelos. Estos electrodos
estn conectados a una fuente de alimentacin de RF que genera el OAUGDP y una
fuente de alimentacin de CC de alto voltaje que, a travs de una cadena de
resistencias de cada de voltaje, mantiene un campo elctrico a lo largo del panel
perpendicular al eje de los electrodos individuales. Este campo elctrico de DC hace
que iones y electrones se desplacen en direcciones opuestas. A medida que se
desplazan, que la transferencia de impulso a los gases neutros como resultado de las
colisiones Lorentzian.
18.6.2.1 Flujo inducido por la deriva de movilidad de electrones
Ahora se derivar el flujo de gas neutro inducido por el momento transferido a l por
colisiones electrnicas. El trmino lorentziano para la prdida de momentum por
electrones individuales en un campo elctrico DC es
 Figura 18.30. Un panel plano de electrodos de tira, cada uno con un voltaje DC
progresivamente ms alto para imponer un campo elctrico de CC a lo largo de la
superficie del panel, e inducir as la deriva de la movilidad de CC de las especies
cargadas del plasma.
La prdida volumtrica del momento de Lorentzian se da multiplicando la ecuacin
(18.36) por la densidad del nmero del electrn,

Donde mvde es el movimiento de la movilidad de los electrones adquirido del campo

elctrico, y

Es la frecuencia de colisin de un electrn individual con el gas de trabajo neutro.

Combinando las ecuaciones (18.37) y (18.38), se obtiene la velocidad total de
transferencia de momento, por unidad de volumen, de los electrones al gas de trabajo
neutro,

En esta ecuacin, Rne es la velocidad de reaccin volumtrica, el nmero total de

colisiones electrn-neutro por segundo y por metro cbico.
En un gas Lorentziano, la ecuacin (18.39) debe ser exactamente igual al momento
recibido por la poblacin neutral como resultado de colisiones electrnicas,
Donde Mo oe es el momento neutro de la deriva adquirido de la poblacin de
electrones. La frecuencia de colisin de un tomo neutro individual con los electrones
est dada por

Combinando las ecuaciones (18,40) y (18,41), se obtiene el momento total recibido por
unidad de volumen y por segundo por el gas neutro de las colisiones lorentzianas con
los electrones,

Donde Mo es la masa neutra, y voe es la velocidad de conveccin neutra inducida por

la corriente de electrones.
Las ecuaciones (18.39) y (18.42) deben ser iguales, de modo que

Del cual se deduce que la velocidad de desviacin de gas neutro inducida debida a la
transferencia de momento de electrones Lorentziano al gas neutro est dada por

La ecuacin (18.44) indica que la velocidad de deriva del gas neutro inducida por
electrones es igual a la velocidad de deriva de movilidad de electrones, modificada por
la relacin de la masa de electrones a la masa de tomos neutros media. La velocidad
de desplazamiento de la movilidad de electrones puede escribirse en trminos del
campo elctrico, la movilidad de los electrones y la frecuencia de colisin entre el
electrn y el neutro como

Si se sustituye la ecuacin (18.44) por la ecuacin (18.44), se obtiene una expresin de

la velocidad del gas neutro inducido por transferencia de momento neutro,

La velocidad de desviacin de gas neutro inducida por Lorentzian debido a colisiones

electrn neutras en una OAUGDP caracterstica en el aire es de aproximadamente 0,5
m / s, y es menor que la inducida por los efectos paraelctricos previamente
analizados. Esta baja velocidad es una consecuencia de la proporcin ms pequea de
electrones / tomos neutros que aparece en la ecuacin (18.44).
18.6.2.2 Caudal inducido por la deriva de movilidad inica
Ahora se determinar la velocidad del flujo de gas neutro inducida por la deriva de
movilidad de la corriente continua de los iones. Por analoga con la ecuacin (18.37)
para electrones, el trmino volumtrico Lorentziano de prdida de cantidad de
movimiento para iones viene dado por

Con vdi la velocidad de deriva de movilidad de iones inducida por el campo elctrico. Si
se ignora el calentamiento, los efectos viscosos y los efectos centrfugos, este impulso
se transfiere de los iones a la poblacin neutra para producir una velocidad de
conveccin del gas neutro inducida por iones voi. El impulso adquirido por el gas
neutro de las colisiones de Lorentz con los iones est dado por

La velocidad de deriva de la movilidad inica es dada por

Equaciones de ecuacin (18.47) y (18.48), y la incorporacin de la ecuacin (18.49), se

obtiene para la velocidad de desviacin de gas neutro inducida por la transferencia de
momento on-neutral Lorentzian,

En este caso, la velocidad de desplazamiento de gas neutro inducido es esencialmente

igual a la velocidad de desplazamiento de movilidad inica, puesto que la masa de
iones y la masa de tomos neutros son iguales si los iones se forman a partir del gas de
trabajo neutro. Para un campo elctrico caracterstico de 10 kV / cm en aire, la
velocidad de flujo de gas inducida calculada a partir de la ecuacin (18.50) puede ser
tan alta como varios cientos de metros por segundo. Sin embargo, el calor y los efectos
viscosos reducirn esto a valores ms bajos. Este mtodo de impartir una velocidad
neta al aire fue sugerido en la literatura de patentes de los aos 60 (Hill 1963). El
mtodo de Hill no es probable que sea prctico porque los campos elctricos
necesarios, del orden de 104 V / cm, requieren voltajes impracticablemente altos a
travs de una superficie extendida.
La teora analtica de las derivas de movilidad de DC implica que la transferencia de
momento de Lorentzian de los electrones al gas neutral es mucho ms pequea que la
de los iones. La teora tambin indica que la velocidad de deriva del gas neutro es
comparable a la velocidad de deriva de iones en un campo elctrico DC aplicado.
Dichas derivaciones pueden ser responsables del 'viento de iones' o 'viento corona'
reportado en relacin con las descargas de coronas de corriente continua (Malik y col.
1983, El-Khabiry y Colver 1997).
8.6.3 Flujo EHD inducido por la excitacin peristltica de electrodos de tira
Para la aceleracin de deriva de movilidad de CC, se requieren altos voltajes a travs de
una superficie extendida para imponer un voltaje CC til entre una serie de electrodos
de tira. Estos altos voltajes se pueden evitar utilizando voltajes en fases en las tiras de
electrodos adyacentes en el acelerador de plasma peristltico (Roth 1997), que se
muestra en la figura 18.31. Este dispositivo est basado en un plasma de superficie
OAUGDP en un panel plano y tiene una serie de tiras de electrodos aisladas
elctricamente similares a las mostradas en la figura 18.30 o la figura 18.27 (b). En este
dispositivo, las tensiones de radiofrecuencia (RF) que energizan los electrodos de
banda y generan la OAUGDP son proporcionadas por una fuente de alimentacin de RF
polifsica. Las tensiones de RF en fase energizan las tiras de electrodos sucesivas en
ngulos de fase progresivamente crecientes, como las luces individuales en una
marquesina de teatro destinada a producir la ilusin de movimiento. Los electrodos
individuales se activan con un ngulo de fase que aumenta (en la figura 18.31) de
izquierda a derecha, dando el efecto de una onda de desplazamiento de izquierda a
derecha. En un panel plano cubierto de plasma, la onda itinerante crear un campo
elctrico a lo largo de la superficie del panel que transporta el plasma y el gas neutro
en la direccin perpendicular a los electrodos de banda.

PARAMETRIC PLASMA EFFECTS ON PLASMA PROCESSING

Este captulo se ocupa de los efectos de las caractersticas del plasma en el

procesamiento de plasma. Las caractersticas relevantes incluyen las trayectorias libres
medias de iones, neutrales, y electrones; Las frecuencias de colisin de estas especies;
El efecto de la presin del gas neutro sobre el acoplamiento de potencia RF al plasma;
El espesor de la vaina de aceleracin de ion y el efecto resultante sobre la
direccionalidad del grabado; La cada de tensin de la vaina; La produccin de especies
activas en el plasma mediante colisiones electrn neutras; Y el efecto de un campo
magntico sobre la composicin relativa de la especie activa.
19.1 EL PAPEL DEL PLASMA
Los plasmas de descarga lumnica utilizados para el procesamiento de plasma realizan
varias funciones esenciales, que incluyen el suministro de la superficie a procesar con
especies activas que son ms energticas y / o ms qumicamente reactivas que las que
pueden obtenerse por medios puramente qumicos. En operaciones de grabado y
decapado comercialmente importantes, el plasma sirve como fuente de iones
energticos. A medida que estos iones se aceleran a travs del potencial de vaina,
adquieren suficiente energa para promover el ataque qumico o el ataque direccional
(Coburn y Winters 1979, 1983, Coburn 1982, Winters et al 1983).

19.1.1 Fuente de iones energticos

Los iones energticos producidos por la aceleracin de la vaina pueden ser
qumicamente inertes, y su nica funcin es pulverizar la superficie; Pueden ser
reactivos qumicamente con la superficie a procesar; O pueden ser iones "catalticos",
que son ellos mismos qumicamente inertes, pero promueven reacciones qumicas
entre un gas de trabajo y el material de la superficie (Gerlach-Meyer et al 1981). Tales
iones "catalticos" no se combinan qumicamente para producir grabado u otros
efectos de procesamiento.
19.1.2 Fuente de Especies Neutrales Activas

El plasma tambin puede proporcionar especies neutrales activas que participan en el

procesamiento de plasma. Las especies neutrales activas pueden incluir especies
qumicamente reactivas tales como oxgeno atmico, cloro atmico o monmeros que
experimentan reacciones qumicas en ausencia de bombardeo inico para producir
efectos de procesamiento tales como grabado isotrpico o deposicin de polmeros.
Las especies neutrales activas tambin pueden incluir especies reactivas inducidas por
iones, que experimentan reacciones qumicas inducidas por iones energticos para
producir tales efectos de procesamiento como un ataque direccional.
19.1.3 Regmenes de presin para el procesamiento con iones energticos

El procesamiento de plasma industrial puede implicar tratamiento superficial,

deposicin, pulverizacin catdica, grabado u otras operaciones, con bombardeo
magnetrn y grabado y deposicin microelectrnica que tienen los mayores impactos
econmicos. El grabado microelectrnico ha sido ampliamente estudiado debido a su
importancia econmica, y ser discutido como un ejemplo de procesamiento de
plasma con iones energticos. La mayora de las operaciones de grabado
microelectrnico implican grabado con iones reactivos (RIE) que utiliza especies
neutrales reactivas o especies reactivas inducidas por iones. En RIE, los iones
acelerados a travs de la vaina por encima de la oblea son responsables de catalizar o
inducir la reaccin de ataque qumico.
Las operaciones de procesamiento de plasma que utilizan iones energticos,
incluyendo RIE, se pueden dividir en los dos regmenes de presin ilustrados en la
figura 19.1. A la derecha de la figura 19.1 (b), se encuentra el rgimen RIE de presin
intermedia, en el que la presin de gas neutro de trabajo est caractersticamente
entre 6.7 y 133 Pa (50 y 1000 mTorr). En este rgimen, las trayectorias libres de media
de iones son ms cortas que el espesor de vaina, S, entre el plasma y la superficie de la
oblea, y los iones se aproximan a la superficie con componentes de velocidad paralela
significativos que resultan de colisiones de dispersin. Estos componentes paralelos
permiten que los iones incidan sobre las paredes laterales de una zanja grabada, para
producir un ataque direccional (no vertical), como se indica en la parte inferior de la
figura 19.1 (b).
El rgimen RIE de baja presin se ilustra en la figura 19.1 (a). En este rgimen, la
presin neutra del gas de trabajo es inferior a 1,3 Pa (10 mTorr) y los iones tienen una
trayectoria libre media suficientemente larga que se aceleran sin colisiones entre el
plasma y la superficie. Estos iones llegan con una velocidad casi vertical, produciendo
una trinchera vertical si ni el gas de ataque qumico ni las especies activas del plasma
reaccionan con las paredes laterales en ausencia de bombardeo de iones. En este
rgimen, el recorrido libre medio neutro en iones es mayor que el espesor de vaina S, y
las nicas componentes horizontales de velocidad inica estn asociadas con la
velocidad trmica inica en el plasma. La temperatura cintica de iones en la mayora
de los plasmas est cerca de la temperatura ambiente (0.025 eV). Para un ion de argn
de 20 eV procedente de un plasma de este tipo, la relacin de velocidad horizontal a
vertical sera de 0,035, y el ngulo de pared lateral del grabado resultante estara a 2
de la vertical.

Figura 19.1. Colisiones de iones en una vaina entre el plasma y una pieza de trabajo.
(A) El rgimen de "baja presin", para el cual el recorrido libre medio neutro de iones
 es mayor que el espesor de vaina S; Y (b) el rgimen de "alta presin", para el cual el
recorrido libre medio neutro en iones es ms corto que el espesor de la vaina, dando
lugar a que iones dispersados alcancen la capa grabada con velocidades paralelas a la
mscara.

DE LA TESIS 2004-Thesis-Roth-Boundary
Layer Flow Acceleration by Paraelectric
and Peristaltic SE OBTIEN LA SIGUIENTE
INFORMACIN.