UNIVERSIDAD DE LAS FUERZAS ARMADAS - ESPE

DEPARTAMENTO DE CIENCIAS DE LA VIDA Y LA AGRICULTURA

INGENIERÍA EN BIOTECNOLOGÍA
MICROSCOPIA

NOMBRES: Benalcázar Cristian FECHA DE ENTREGA: 2018 – 12 –17

X-Ray Microanalysis in the Variable Pressure (Environmental) Scanning Electron

Microscope
Las consecuencias de la dispersión elástica son la reducción de la corriente del haz dentro
de la sonda enfocada y la redistribución de esta corriente para formar una amplia "falda"
alrededor del haz, degradando significativamente la resolución espacial del microanálisis
de rayos X. Estos efectos de dispersión de gases pueden alterar en gran medida los
resultados obtenidos con el microanálisis de rayos X en el VPSEM-ESEM en
comparación con la realización de una medición de rayos X similar en un SEM
convencional en condiciones de alto vacío, dado que la muestra sería compatible con alta
vacío. Este documento considerará los aspectos especiales de la espectrometría de rayos
X y el microanálisis realizados en el VPSEM-ESEM, especialmente el impacto de la
dispersión de gases en la calidad del espectro, los métodos de preparación de muestras
para minimizar los efectos de la dispersión de gases, prácticos. aspectos del microanálisis
de rayos X cualitativo y cuantitativo, y perspectivas de mejoras futuras en esta área.

El microanálisis de rayos X excitado por electrones realizado en los microscopios

electrónicos de barrido de presión variable y ambiental está sujeto a artefactos adicionales
más allá. La dispersión de gas conduce a contribuciones directas al espectro del gas
ambiental, así como a la generación remota de rayos X por electrones dispersados fuera
del haz enfocado. El analista puede ejercer cierto grado de control sobre estos artefactos,
pero dependiendo de la situación exacta, los elementos espurios pueden aparecer en la
traza (<0.01 fracción de masa), menor (0.01 fracción de masa a 0.1 fracción de masa), o
incluso mayor (> 0.1 fracción de masa). Las microestructuras a escala son las más
gravemente comprometidas. Se describen los procedimientos para optimizar la situación
en base a la preparación de la muestra y el procesamiento espectral.

2. Espectrometría de rayos X en el VPSEM-ESEM

La espectrometría de rayos X excitada por electrones realizada con espectrometría
dispersiva de longitud de onda (WDS) y / o espectrometría dispersiva de energía de
semiconductores (Si-EDS) en el SEM es una técnica madura que se emplea ampliamente
en muchas de las ciencias. La excitación del espécimen con un haz de electrones enfocado
en una posición fija puede alcanzar una resolución espacial lateral de aproximadamente
1 m o menos, dependiendo de la energía del haz y la composición exacta del espécimen
en la ubicación del rayo. WDS y Si-EDS tienen fortalezas y debilidades críticas (por
ejemplo, resolución, cobertura espectral, límites de detección, velocidad de
procesamiento de fotones, etc.) que se apoyan mutuamente, de modo que los instrumentos
combinados de Si-EDS-WDS representan los más sofisticados Nivel de esta
instrumentación en aplicaciones SEM convencionales.

Análisis cualitativo: los picos de rayos X se asignan a constituyentes elementales

específicos, y la amplia categorización de mayor, menor y traza se aplica a cada
constituyente así identificado. Estos términos se definen (arbitrariamente) como:

Mayor: C> 0.1 fracción de masa (> 10 por ciento en peso) Menor: 0.01 C 0.1 fracción de
masa (1 a 10 porcentaje de peso)

Traza: C <0,01 fracción de masa (<1 por ciento en peso)

Análisis cuantitativo: se asigna un valor numérico a la concentración, junto con una

medida estadística de la precisión como medida de la repetibilidad y de la precisión
esperada.

La dispersión de gas del haz primario es la diferencia más importante entre la realización
de la especimetría de rayos X con el SEM convencional de baja presión (es decir, alto
vacío) y con los instrumentos VPSEM-ESEM de alta presión (bajo vacío). La
espectrometría de rayos X realizada en el VPSEM-ESEM se debe comprometer
inevitablemente debido a la dispersión de gases en comparación con la situación "ideal"
en el SEM convencional de alto vacío. El problema clave a considerar para un
microanálisis práctico en el VPSEM-ESEM es determinar el nivel de concentración del
analito en la muestra (mayor, menor o traza) para el cual se puede confiar en los
resultados.

Pico (s) de rayos X extraños debido al gas ambiental

La espectrometría de rayos X en el VPSEM-ESEM está sujeta a artefactos adicionales
más allá de los conocidos en el SEM / EDS convencional. Estos están directamente
relacionados con la presencia del gas ambiental. La inevitable dispersión de gas, tanto
elástica como inelástica, de una fracción de los electrones de haz primario tiene un
impacto significativo y frecuentemente grave en el microanálisis de rayos X cualitativo y
cuantitativo. Considerando primero el caso de la dispersión inelástica, tanto los rayos de
luz incidente como los rayos X característicos y continuos (bremsstrahlung) son
producidos durante las interacciones con los átomos del gas ambiental. Además, los
electrones de haz que se dispersan de la muestra también pueden sufrir eventos de
dispersión inelástica con los átomos de gas ambientales, lo que contribuye aún más al
espectro de rayos X medido.

Dispersión de gas de haz primario: Excitación remota de rayos X

Los electrones dispersados fuera del haz por interacciones elásticas con los átomos del
gas forman una "falda" amplia y no enfocada alrededor de la parte no dispersada y
enfocada del haz primario. Dependiendo de la energía del haz, las especies de gases
ambientales y la presión, y la longitud de la trayectoria del gas, la falda puede tener un
diámetro de milímetro o más.

Si bien una gran fracción, 50% o más, de la corriente del haz puede transferirse desde el
haz enfocado a la falda debido a la dispersión de gas, la densidad de la corriente de
electrones (A / cm2) en cualquier punto de la falda es mucho menor que en La viga
focalizada. Cuando se forma una imagen electrónica convencional al escanear una
combinación de haz / falda de este tipo sobre una matriz de píxeles, es la alta densidad de
corriente del haz enfocado lo que produce respuestas nítidas a través de detalles finos de
la topografía de la muestra y crea una imagen de alta resolución. La falda, que puede
contener incluso la mayoría de los electrones de haz, está tan extendida y localmente
difusa que, durante una exploración, particularmente a gran aumento, la falda apenas se
mueve en relación con las características finas que forman los detalles interesantes de la
imagen. El componente de falda dispersado por gas está tan extendido que las señales de
imágenes electrónicas que produce están completamente desacopladas del entorno de
imágenes local experimentado por el haz enfocado. Por lo tanto, la falda simplemente
agrega un nivel de estado estable (DC) no específico a la señal medida que no varía
significativamente con la posición de exploración del haz enfocado primario. La
topografía local en la escala del haz influye únicamente en la señal relacionada con el
haz.

Cuando consideramos el impacto de la falda de haz en la espectrometría de rayos X en el

VPSEM-ESEM, encontramos una circunstancia muy diferente. Los electrones de la falda
dispersados remotamente interactúan con los átomos de espécimen con los que se
encuentran, produciendo la característica y los rayos x continuos apropiados para cada
ubicación. Si estos rayos X producidos por los electrones de faldón están dentro del
ángulo sólido de aceptación del espectrómetro de rayos X, son indistinguibles de los rayos
X característicos y continuos producidos por la sonda enfocada dentro de su volumen de
interacción. El espectro de rayos X así medido es en realidad un espectro compuesto con
contribuciones del haz y la falda, pero el analista no tiene una manera inmediata de
distinguir qué rayos X son del haz focalizado y cuáles son del borde. Este efecto se ilustra
en la Fig. 4, que muestra los espectros de Si-EDS registrados en un cable de 500 m de
diámetro de 40Cu-60Au (fracción de masa nominal, seleccionada del material de
referencia estándar del NIST (SRM) 482 Aleaciones de cobre y oro) incrustada en un
gran disco de aluminio (2,5 cm de diámetro) [5]. Para una trayectoria de gas de haz fijo
de 2 mm, la contribución de la falda sobre el soporte de aluminio aumenta a medida que
aumenta la presión del vapor de agua, como se muestra en la secuencia de la imagen
superpuesta Fig. 4 (a): 53 Pa (0.4 torr ); 4 (b) 200 Pa (1.5 torr); y 4 (c) 1600 Pa (12 torr).
Al trazar la contribución del pico de AlK al espectro como la relación AlK / CuK se
obtiene el gráfico en función de la presión que se muestra en la Fig. 4 (b). Se observa una
respuesta casi lineal para AlK / CuK vs presión. Este comportamiento casi lineal es una
consecuencia de la geometría circular simétrica del objetivo compuesto de disco de
alambre. De la ec. (1), el radio de la falda r p 1/2. El área de la falda, que es proporcional
a r 2, es por lo tanto proporcional a p. Por lo tanto, se observará el comportamiento lineal
frente a la presión en el componente de la falda siempre que los electrones dispersados
por gas golpeen material común, que es la situación para el objetivo de simetría circular.
El comportamiento lineal frente a la presión se pierde finalmente a altas presiones debido
a que la dispersión del gas elimina tanta corriente del haz que golpea el alambre de la
aleación que las intensidades de los picos de los componentes de la aleación comienzan
a disminuir significativamente.
La secuencia de espectros mostrada en la Fig. 4 revela que, dependiendo del grado de
dispersión de gas, el pico patológico debido a la contribución al espectro compuesto de
la dispersión remota sobre la matriz circundante puede tener la apariencia de una traza,
menor o mayor constituyente, Fig. 4 (a). La dispersión de gases puede influir
profundamente en la interpretación de un espectro y, por lo tanto, afectar a ambas etapas
del microanálisis de rayos X: (1) un análisis cualitativo en el que los picos de la dispersión
de gases se asignan a los constituyentes elementales que no están realmente presentes en
el espécimen muestreado por haz no dispersado, y (2) análisis cuantitativo, en el que los
elementos contribuidos por la dispersión del gas alterarán el cálculo de corrección de la
matriz introduciendo correcciones innecesarias para la absorción, etc. Observando el
espectro compuesto obtenido de muestras con microestructuras complejas, como una fase
discontinua de escala fina en una fase de matriz, algunos de los primeros investigadores
rápidamente se sintieron consternados con las perspectivas de un microanálisis de rayos
X útil en VPSEM-ESEM y descartaron la técnica de forma prematura [6; E. Lifshin,
Universidad Estatal de Nueva York en Albany; comunicación privada]. Por lo restringido
que estaban de usar las rutas largas de gas en esta primera instrumentación, no es
sorprendente que estos primeros trabajadores hayan llegado a esta conclusión.

b
Fig. 4. Dispersión remota de electrones de haz. Objetivo: cable de 500 m de diámetro de 40Cu-60Au
(seleccionado del material de referencia estándar NIST (SRM) 482 Aleaciones de cobre y oro) integrado
en un disco de aluminio grande (2,5 cm de diámetro); energía del haz 20 keV; incidencia normal. Presión:
50 Pa (0.4 torr); 200 Pa (1.5 torr); 600 (4,5 torr); 1000 Pa (7.5 torr); 1600 Pa (12 torr); (b) Gráfico de la
relación de intensidad de rayos X Al-K / Cu-K frente a la presión.
Los efectos de dispersión de gases tanto elásticos como inelásticos se pueden reconocer
en el mismo espectro. La figura 5 muestra un espectro de un vidrio NIST (K-230) medido
como un fragmento pequeño (aproximadamente 50 m de dimensiones) colocado en una
gran capa de carbono (2,5 cm de diámetro) a dos presiones diferentes, 266 Pa y 1330 Pa
[5] . La dispersión inelástica se puede reconocer como el aumento en la intensidad relativa
del pico de oxígeno K debido al vapor de agua utilizado como gas ambiental en el espectro
medido a la presión más alta. La dispersión elástica se manifiesta en el aumento relativo
del pico de carbono K en el espectro medido a la presión más alta. Un segundo efecto,
menos obvio, de la dispersión elástica es el aumento en el fondo continuo y la menor
relación entre el pico y el fondo de los diversos picos espectrales (por ejemplo, ZnL, AlK,
SiK, PbM, etc.) causado cuando se dispersa el gas. remueve los electrones que
interactuaron con el fragmento de vidrio a la presión más baja pero que golpean la plancha
de carbono a una presión más alta, generando rayos X de pico de carbono K y un continuo
en todas las demás energías de fotones.
Efectos de carga
Una de las principales fortalezas de VPSEM-ESEM es la posibilidad de examinar los
materiales aislantes sin la necesidad de modificar la superficie con un revestimiento
conductor, como se debe hacer para el SEM convencional de alto vacío. En el VPSEM,
la dispersión inelástica del haz y los electrones retrodispersados con átomos de gas crea
electrones libres e iones positivos. Estas especies cargadas se atraen automáticamente a
las áreas cargadas en la superficie de la muestra, actuando así para descargarlas. En el
ESEM, el proceso de ionización de gas se complementa con electrones secundarios,
emitidos desde la superficie de la especie por dispersión inelástica de haz y electrones
retrodispersados, que se aceleran posteriormente por el potencial aplicado del detector de
electrones secundarios gaseosos. Una cascada de ionización y multiplicación de
electrones secundarios crea una densidad mucho mayor de portadores de carga en el
ESEM. Con esta forma de compensación de carga se pueden observar imágenes estables
de aisladores desnudos, incluso con agujeros profundos
Fig. 5. Espectros de una partícula de NIST Glass K230 (aproximadamente 50 m en dimensión) en un disco
de carbono a presiones de 266 Pa (2 torr) y 1330 Pa (10 torr) que muestran un aumento en la contribución
de la falda del carbono también Como excitación directa del gas ambiental (vapor de agua) por haz y
electrones retrodispersados.

Incluso si se puede obtener una imagen estable de un aislante, se debe tener cuidado de
que los efectos de carga puedan influir en el espectro de rayos X. El límite Duane-Hunt,
la energía continua que corresponde a la energía del haz incidente cuando llega a la
superficie de la muestra, es un diagnóstico útil para detectar condiciones de carga. Los
espectros se muestran con un eje de intensidad logarítmica que hace que la determinación
del límite de Duane-Hunt sea directa extrapolando el continuo de alta energía a su
intersección con el eje de energía en intensidad 0. Cuando la carga se acumula en la
superficie, actúa para acelerar el haz de electrones. Si esta carga es negativa, como suele
ser el caso de un haz de electrones que incide sobre una superficie aislante, la carga
negativa actuará para reducir la velocidad de los electrones entrantes, de modo que la
energía de aterrizaje sea menor que la energía del cañón de electrones. Los fotones son
indicativos de la naturaleza dinámica de la carga, donde puede haber una descarga
momentánea de los electrones acumulados, seguida de una rápida acumulación. Durante
el tiempo de la descarga, cuando los electrones de haz no se desaceleran, se pueden crear
unos pocos fotones cerca del verdadero límite de Duane-Hunt, pero la carga está
dominada por la mayor parte del espectro. Los efectos de cargas pueden tener un impacto
catastrófico tanto en el microanálisis de rayos X cualitativo como en el cuantitativo al
modificar severamente las alturas de los picos relativos y, en algunos casos, suprimir por
completo los picos de alta energía.

Estrategias para lidiar con la dispersión de gas

Se han desarrollado varias estrategias para tratar la dispersión de gases y la inevitable
excitación de partes del espécimen a distancia de la interrogada por el haz directo. Estas
estrategias dependen del tipo de muestra que se examinará y el nivel de información de
la composición que se busca.

Selección de parámetros instrumentales para minimizar la dispersión de gases

El tamaño de la falda y la extensión de la dispersión remota se pueden reducir:

Aumentando la energía del haz, reduciendo el número atómico promedio del gas
ambiental, por ejemplo, usando oxígeno en lugar de argón; reduciendo la presión del gas
ambiental a el mínimo consistente con la operación estable o con los requisitos del
experimento; aumentando la temperatura y disminuyendo la longitud de la trayectoria del
gas.

El reconocimiento de la importancia de la longitud de la trayectoria del gas en el control

del diámetro del faldón ha llevado a importantes avances en el diseño del VPSEM-ESEM,
especialmente para la operación en el régimen de mayor presión . Para la clase de
instrumentos ESEM, que son capaces de operar en el rango de presión de 100 Pa a 2500
Pa ( 1 torr a 20 torr) o más, la dispersión de gas es especialmente significativa, y reduce
la longitud de la trayectoria de gas al mínimo práctico Es necesario preservar la mayor
resolución espacial posible.

Para el microanálisis de rayos X, la elección de la energía E del haz está frecuentemente

limitada por las especies elementales que se van a medir. La generación de rayos X
característicos depende en gran medida de la sobretensión, que es la relación de la energía
del haz incidente (E0) a la excitación crítica o energía de borde (Ec), U = E0 / Ec.

Para microanálisis convencional realizado en sistemas de alto vacío, una regla general es
seleccionar una energía de haz incidente que sea un factor de 2 mayor que la excitación
elemental más energética medida al borde. La elección de una energía de haz primario
alta, 20 keV o más, proporciona una excitación eficiente de la parte superior del rango de
energía del fotón, y es una buena opción para el VPSEM-ESEM ya que una energía de
haz alta también sirve para minimizar la dispersión de gas. Sin embargo, una
consecuencia negativa de una alta energía del haz incidente es la reducción relativa en la
intensidad de la energía de fotones x rayos (3 keV) debido al aumento de la absorción
dentro del espécimen. La absorción se produce porque los rayos X se generan más
profundamente en el espécimen como resultado del mayor rango de electrones del haz,
que aumenta aproximadamente como E0 1.66.

Doehne y Bilde-Sorenson y Appel han sugerido un método para estimar la contribución

de la falda al espectro a través de mediciones a diferentes presiones. Predecir el espectro
que se obtendría. sin dispersión de gases. Como se describe en detalle Por Doehne, este
método requiere grabar dos espectros. con todas las demás condiciones idénticas a
excepción de la presión. Si “A” es el espectro registrado a mayor presión. y "B" el
espectro más bajo, luego el de "dispersión cero" "C" se estima por:

C = B - [(A - B) * d]

donde "d" es un factor de escala empírico. Implícito en esto Método es el supuesto de que
los cambios en la contribución falda con presión se deben principalmente a la intensidad
de la falda en lugar de la extensión de la falda, es decir, el entorno compositivo excitado
por los electrones de la falda, no cambia significativamente a medida que la extensión de
la falda del haz aumenta con el aumento de la dispersión de gas debido al aumento de la
presión. Si se aporta un pico en su totalidad. por la falda (es decir, el espectro "verdadero"
solamente surge del haz enfocado), entonces habrá un cambio distintivo en la intensidad
de los picos de la falda como en la presión. Doehne (1997) ha demostrado La capacidad
de eliminar picos de falda de menor intensidad por este método. Tenga en cuenta que
debido a los métodos de diferencia que se utilizan, es muy importante para obtener un
alto recuento de espectros por lo que la varianza en los espectros no lo hace Dominan los
picos de interés de baja intensidad en el espectro procesado.

La Figura 8 (a) muestra una situación de análisis mucho más desafiante, una
microestructura de aleación de níquel Raney con finas características de escala que tienen
dimensiones de aproximadamente 10 µm a 20 µm, incluyendo tres fases distintas con
diferentes composiciones de Al-Ni, etiquetadas como “D” (oscura, aluminio alta), “I”
(intermedio) y “B” (brillante, alto níquel). Estas tres fases se pueden distinguir fácilmente
en los espectros de Si-EDS tomados a presión base, Fig. 8 (b).
Cuando la presión aumenta a 665 Pa, Fig. 8 (c), las fases I y B ya no se pueden distinguir
fácilmente con el pico de rayos X de NiK, mientras que la situación para el pico lK es
casi tan difícil.
La tabla 2 muestra los resultados del procedimiento de corrección de variación de presión
para una serie de espectros medidos en la fase Z media más alta en Raney niquel (fase
brillante). Los datos en bruto de intensidad muestran las desviaciones observadas de la
“no dispersión”, situación en función de la presión. A medida que aumenta la presión, la
composición de la fase aparente se desvía significativamente. del valor "ideal"
encontrado a baja presión. Los resultados de las correcciones calculadas con varias
opciones de la presión también se presentan en la Tabla 2. Una "dispersión cero"
calculado de un espectro con los espectros medidos. a 200 Pa y 400 Pa tiene un pequeño
error para AlK, pero un mayor error para NiK que cualquiera de los espectros en bruto

Interceptando la viga no dispersada Bilde-Sorenson y Appel han descrito un método.

Para estimar la contribución de la falda en base a comparando dos medidas, la primera
con la primaria viga y la falda golpeando el espécimen y la segunda después de interceptar
el haz primario con un haz. El segundo espectro se toma con el haz se coloca en la lámina
cerca de la muestra desnuda, lo que produce el espectro compuesto del elemento de
lámina más la contribución de la falda en la muestra.

El método de detención del haz implica la inserción del cable fino sobre la muestra
durante la operación, lo que requiere un micromanipulador, y si se está utilizando un
detector de electrones secundarios gaseosos (GSED), el cable conductor puede interferir
con la recolección. Campo de la GSED.

Método de normalización de Bremsstrahlung

Griffin y Nockolds han descrito un método para el microanálisis cuantitativo de rayos X
en el VPSEM-ESEM que utiliza una normalización interna basada en el uso de una
ventana de continuo de rayos X.

En las mediciones VPSEM-ESEM, la pérdida de intensidad debida a la dispersión de gas

fuera de la norma se manifestaría como una disminución de la intensidad medida en la
ventana de referencia continua en comparación con el valor esperado en una medición de
vacío convencional sin dispersión de gas. Los autores señalaron que esta corrección dio
como resultado mediciones cuantitativas de VPSEM-ESEM con una precisión similar a
la lograda en la práctica convencional para muestras de silicato mineral.

Óptica de Enfoque de Rayos X

Los rayos X que se acercan a una superficie por debajo de un cierto ángulo crítico se
reflejan con alta eficiencia. El ángulo crítico depende de la energía y el material del fotón
y generalmente es menor que 0.01 rad. Un capilar proporciona un reflector
rotacionalmente simétrico que puede propagar los rayos X a lo largo de su longitud a
través de múltiples reflexiones de ángulo bajo.

VPSEM-ESEM debido a la falda de dispersión de gas para excluir los rayos X producidos
de forma remota y al mismo tiempo recolectar eficientemente los rayos X producidos por
la sonda enfocada. En la práctica, el mapeo de rayos X podría usarse para establecer la
posición del punto de transmisión máxima en relación con la posición de la muestra para
maximizar la eficiencia. Tal óptica tendría el beneficio adicional de aumentar el ángulo
sólido de recolección del EDS en relación con un detector ordinario del mismo tamaño
colocado a la misma distancia.
 Microanálisis de Rayos X en VPSEM-ESEM: Influencia de la Configuración
de la muestra

Análisis Blank

Las muestras más complicadas serán consideradas progresivamente. Detrás de todas las
mediciones se encuentra el concepto crítico del "objetivo analítico", que es el nivel de
fondo irreducible de cada constituyente de interés contribuido por todos los materiales
presentes, excepto por el espécimen en sí. Determinar y minimizar el objetivo analítico
es especialmente importante para lograr un sólido microanálisis de rayos X en el VPSEM-
ESEM

El blanco analítico para el análisis de partículas: SEM convencional

Es el espectro del sustrato expuesto a todas las etapas de preparación de la muestra,

incluidas las transferencias en el entorno del laboratorio, pero sin que la muestra se
aplique al sustrato. El espectro obtenido del blanco contiene, picos de rayos X derivados
del sustrato y de los materiales de adhesión

El blanco analítico para el análisis de partículas: VPSEM-ESEM

Para el análisis VPSEM-ESEM, el blanco analítico es más complicado y consta de dos

niveles, la preparación y el espacio en blanco operativo. El sustrato debe ser medido en
el VPSEM-ESEM en idénticas condiciones de especies gaseosas, presión, y la longitud
del paso del gas que se usará para las incógnitas. Por lo tanto, los efectos de dispersión
de gas, incluyendo la excitación de rayos X del gas del medio ambiente.

La figura 10 (a) muestra el espectro de Si-EDS de

un blanco de preparación de una plaqueta de
carbono, en el que se observa un pico importante
de carbono con un pequeño pico de oxígeno
procedente del vapor de agua utilizado como gas
ambiental.
 La figura 10 (b) muestra el espectro de un blanco
de preparación de cinta de carbono (con adhesivo
en ambas superficies) montado sobre una plancha
de carbono similar medida en las mismas
condiciones. Se observa de nuevo un pico de
carbono importante, pero con un pico de oxígeno
sustancialmente mayor en comparación con la
figura anterior.

El blanco operacional para VPSEM-ESEM considera las contribuciones adicionales que

surgen del entorno real de la muestra preparada, por ejemplo, de las partículas que rodean
a la partícula de interés en una dispersión depositada sobre un sustrato.

La figura 11 (a) muestra una dispersión de

partículas de NIST SRM 1633 (trazas de metales
en cenizas volantes) depositadas en una cinta
adhesiva de carbono de doble cara.

La Figura 11 (b) muestra un ejemplo del blanco

analítico operacional para este conjunto de
partículas, medido en el lugar indicado en la
figura anterior.

Cuando esto se hace, las intensidades pico

medidas representan las contribuciones de la
lámina que golpea el sustrato y otras particiones
cercanas.

Se puede esperar que la pieza en blanco operativa varíe con la posición del haz y con la
disposición exacta de las partículas, por lo que debe medirse en varios lugares para
determinar su variabilidad. La situación puede cambiar en otra área en el mismo
espécimen donde las partículas están más ampliamente dispersas, o donde hay diferentes
especies presentes, por lo que el espacio en blanco operativo debe actualizarse
continuamente para cada región local.

Partículas aisladas

Partículas dispersas en sustratos que contienen carbono

Las partículas se recogen a menudo en medios filtrantes no conductores como el papel y

los plásticos. Estos filtros pueden ser imposibles de examinar directamente en el SEM
convencional, incluso con recubrimientos pesados, porque la topografía extrema del filtro
conduce a una cobertura de recubrimiento inadecuada y a una carga posterior. En tales
casos, esto requiere la eliminación del sustrato y/o la transferencia de las partículas.

La configuración óptima de la muestra para lograr un microanálisis de rayos X casi sin

compromisos en LVSEM-ESEM es la de partículas muy dispersas. Para determinar la
validez de los picos de oligoelementos, el analista debe estar preparado para examinar
cuidadosamente el blanco operacional asociado con cada partícula.

Reducción del fondo: uso de sustratos de lámina delgada

A medida que se reduce el tamaño de la partícula, las proporciones relativas del espectro
contribuido por el haz directo que golpea la partícula y por la pendiente que golpea el
sustrato desnudo y las partículas circundantes cambian. Mientras que la contribución de
la pendiente permanece constante, la intensidad de rayos X generada por el haz directo
sobre la partícula disminuye con el tamaño de la partícula, especialmente para partículas
con un grosor de aproximadamente 1 µm (es decir, la dimensión a lo largo del haz). Una
vez elegidos los parámetros operativos de la energía del haz, las especies de gases
ambientales, la presión del gas y la longitud de la trayectoria del haz, la variable restante
para reducir la contribución de la pendiente al espectro compuesto es modificar el sustrato
en sí. Se puede obtener un sustrato de bajo grosor de masa con una película de carbón
independiente (grosor nominal de 20 nm) apoyada en una rejilla de microscopio
electrónico (por ejemplo, cobre, níquel o carbono).

Alternativas a los sustratos de carbono

Si el carbono es de interés en las partículas, otros sustratos
elementales de alta pureza, como el papel de aluminio o las
obleas de silicio, están fácilmente disponibles. A menudo,
el Al y el Si son interesantes en sí mismos, por lo que estos
materiales pueden no ser opciones satisfactorias para el
sustrato. Como alternativa, el berilio de alta pureza sería de
particular interés como sustrato, ya que su radiografía
característica es de una energía tan baja (110 eV) que no es
detectable por la mayoría de los sistemas EDS. Desafortunadamente, el berilio en forma
de óxido de berilio es altamente tóxico, y este hecho restringe en gran medida su uso.

Fibras

Si la muestra tiene la forma de una fibra individual, nuevamente es posible mejorar la

calidad del espectro de rayos X reduciendo o incluso eliminando completamente la
contribución de la pendiente del sustrato. Al colocar la fibra sobre un agujero ciego de
gran diámetro en un bloque de carbono, los electrones de la pendiente no tienen nada con
lo que interactuar dentro del ángulo sólido de aceptación del EDS y su contribución se
elimine de manera efectiva, excepto el gas ambiental en sí mismo. Un ejemplo de este
enfoque se ve en las imágenes en la Fig. 13 (a), donde una fibra de vidrio NIST K230 (O
= 0.0245 fracción de masa; Al = 0.0265 fracción de masa; Si = 0.0140 fracción de masa;
Zn = 0.0402; Ba = 0.0896 fracción de masa; Ta = 0.0409 fracción de masa; Pb = 0.0418
fracción de masa), se suspende sobre un orificio profundo de 3 mm de diámetro mientras
está unido a cada extremo a una almohadilla de cinta de carbono.

Espécimen a granel

Homogénea, monofásica

Las muestras a granel que son homogéneas en su composición en regiones grandes y

consisten en una sola fase se pueden analizar en VPSEM-ESEM sin dificultad
significativa. Siempre que las dimensiones del espécimen lateral excedan el diámetro de
la pendiente, según lo determinado con la ecuación. (1) y / o con la simulación de Monte
Carlo, entonces el efecto de la dispersión del gas es simplemente degradar el tamaño de
la sonda, pero en ausencia de una microestructura, esta degradación espacial no es
importante. Dado que la energía perdida durante la dispersión de gas no es significativa,
todos los electrones en la sonda ampliada, incluidos los de la pendiente, son equivalentes
en términos de excitación por rayos X.

El procedimiento de microanálisis de rayos X cuantitativo más riguroso se basa en la

medición de estándares como elementos puros o compuestos estequiométricos en las
mismas condiciones que la muestra desconocida, seguido del cálculo de la corrección
matricial para convertir las relaciones de intensidad de rayos X para cada pico en
relaciones de concentración. En principio, las intensidades estándar podrían medirse para
el haz no dispersado, mientras que el haz dispersado por gas con la misma corriente total
podría usarse para una muestra grande y homogénea.

En la práctica real, es muy difícil en el VPSEM-ESEM establecer esta equivalencia de

medición entre la muestra y los estándares debido a la propagación lateral del haz
dispersado que hace que una parte de los electrones falda golpeen la muestra desconocida
en áreas donde la eficiencia del EDS disminuye; situación que se complica por el uso la
rejilla de soporte para la ventana ultrafina. La eficiencia de la ventana del detector
depende de la posición en la que un rayo X golpea la ventana. Cuando los rayos X se
producen en una gran área espacial como en el caso del VPSEM-ESEM, entonces la
iluminación de la ventana EDS es mucho más compleja y difícil de controlar. Con el
cuidado suficiente en este posicionamiento y el uso de bremsstrahlung para compensar
las variaciones de dosis, Griffin y Nockolds han demostrado resultados satisfactorios en
el análisis cuantitativo de grandes muestras de minerales con ESEM-EDS [12].

La Figura 16 (a) muestra un ejemplo de un bloque homogéneo de vidrio incrustado en

epoxi cargado con plata en un agujero perforado en un bloque de titanio. La Figura 16 (b)
muestra el espectro EDS obtenido con una presión inferior a 50 Pa (0,4 torr), en el que
los únicos picos significativos son los de los constituyentes conocidos de la copa. Cuando
este espectro se procesó a través del procedimiento de análisis sin estándar incrustado en
el paquete de software de análisis comercial que apoyó el espectrómetro particular, EDS
utilizado, se obtuvieron los resultados dados en la siguiente tabla:
Conclusiones

El microanálisis de rayos X en VPSEM y ESEM puede ser una herramienta útil para
complementar las imágenes SEM, pero el analista debe reconocer las limitaciones
inevitables que resultan de la dispersión de gas en comparación con el nivel de
rendimiento analítico alcanzado en un SEM convencional de alto vacío. El impacto de la
dispersión de gas tanto en el análisis cualitativo como en el cuantitativo generalmente
aumenta a medida que la concentración de un constituyente de interés se reduce de mayor
a menor. Si bien generalmente es posible lograr resultados útiles para los constituyentes
principales, es probable que los constituyentes menores y traza se vean gravemente
comprometidos. Para minimizar los efectos de la dispersión de gas, la longitud de la
trayectoria del haz de gas debe ser lo más corta posible.