UNIVERSIDAD DE LAS FUERZAS ARMADAS - ESPE

DEPARTAMENTO DE CIENCIAS DE LA VIDA

Y DE LA AGRICULTURA

MICROSCOPÍA
Nombre: Criollo Víctor
Fecha: 17/12/2018 NRC: 3802

X-Ray Microanalysis in the Variable Pressure

(Environmental) Scanning Electron Microscope
Introducción
El microanálisis de rayos X excitado por electrones realizado en los microscopios
electrónicos de barrido de presión variable y ambiental está sujeto a artefactos
adicionales más allá. La dispersión de gas conduce a contribuciones directas al
espectro del gas ambiental, así como a la generación remota de rayos X por
electrones dispersados fuera del haz enfocado. El analista puede ejercer cierto grado
de control sobre estos artefactos, pero dependiendo de la situación exacta, los
elementos espurios pueden aparecer en la traza (<0.01 fracción de masa), menor
(0.01 fracción de masa a 0.1 fracción de masa), o incluso mayor (> 0.1 fracción de
masa). Las microestructuras a escala son las más gravemente comprometidas. Se
describen los procedimientos para optimizar la situación en base a la preparación de la
muestra y el procesamiento espectral.
Las consecuencias de la dispersión elástica son la reducción de la corriente del haz
dentro de la sonda enfocada y la redistribución de esta corriente para formar una
amplia "falda" alrededor del haz, degradando significativamente la resolución espacial
del microanálisis de rayos X. Estos efectos de dispersión de gases pueden alterar en
gran medida los resultados obtenidos con el microanálisis de rayos X en el VPSEM-
ESEM en comparación con la realización de una medición de rayos X similar en un
SEM convencional en condiciones de alto vacío, dado que la muestra sería compatible
con alta vacío. Este documento considerará los aspectos especiales de la
espectrometría de rayos X y el microanálisis realizados en el VPSEM-ESEM,
especialmente el impacto de la dispersión de gases en la calidad del espectro, los
métodos de preparación de muestras para minimizar los efectos de la dispersión de
gases, prácticos. Aspectos del microanálisis de rayos X cualitativo y cuantitativo, y
perspectivas de mejoras futuras en esta área.

2. Espectrometría de rayos X en el VPSEM-ESEM

La espectrometría de rayos X excitada por electrones realizada con espectrometría
dispersiva de longitud de onda (WDS) y / o espectrometría dispersiva de energía de
semiconductores (Si-EDS) en el SEM es una técnica madura que se emplea
ampliamente en muchas de las ciencias. La excitación del espécimen con un haz de
electrones enfocado en una posición fija puede alcanzar una resolución espacial
lateral de aproximadamente 1 m o menos, dependiendo de la energía del haz y la
composición exacta del espécimen en la ubicación del rayo. WDS y Si-EDS tienen
fortalezas y debilidades críticas (por ejemplo, resolución, cobertura espectral, límites
de detección, velocidad de procesamiento de fotones, etc.) que se apoyan
mutuamente, de modo que los instrumentos combinados de Si-EDS-WDS representan
los más sofisticados Nivel de esta instrumentación en aplicaciones SEM
convencionales.
Análisis cualitativo: los picos de rayos X se asignan a constituyentes elementales
específicos, y la amplia categorización de mayor, menor y traza se aplica a cada
constituyente así identificado. Estos términos se definen (arbitrariamente) como:
Mayor: C> 0.1 fracción de masa (> 10 por ciento en peso) Menor: 0.01 C 0.1 fracción
de masa (1 a 10 porcentaje de peso)
Traza: C <0,01 fracción de masa (<1 por ciento en peso)
Análisis cuantitativo: se asigna un valor numérico a la concentración, junto con una
medida estadística de la precisión como medida de la repetibilidad y de la precisión
esperada.
La dispersión de gas del haz primario es la diferencia más importante entre la
realización de la especimetría de rayos X con el SEM convencional de baja presión (es
decir, alto vacío) y con los instrumentos VPSEM-ESEM de alta presión (bajo vacío). La
espectrometría de rayos X realizada en el VPSEM-ESEM se debe comprometer
inevitablemente debido a la dispersión de gases en comparación con la situación
"ideal" en el SEM convencional de alto vacío. El problema clave a considerar para un
microanálisis práctico en el VPSEM-ESEM es determinar el nivel de concentración del
analito en la muestra (mayor, menor o traza) para el cual se puede confiar en los
resultados.

2.1 Pico (s) de rayos X extraños debido al gas ambiental

La espectrometría de rayos X en el VPSEM-ESEM está sujeta a artefactos adicionales
más allá de los conocidos en el SEM / EDS convencional. Estos están directamente
relacionados con la presencia del gas ambiental. La inevitable dispersión de gas, tanto
elástica como inelástica, de una fracción de los electrones de haz primario tiene un
impacto significativo y frecuentemente grave en el microanálisis de rayos X cualitativo
y cuantitativo. Considerando primero el caso de la dispersión inelástica, tanto los rayos
de luz incidente como los rayos X característicos y continuos (bremsstrahlung) son
producidos durante las interacciones con los átomos del gas ambiental. Además, los
electrones de haz que se dispersan de la muestra también pueden sufrir eventos de
dispersión inelástica con los átomos de gas ambientales, lo que contribuye aún más al
espectro de rayos X medido.

2.2 Dispersión de gas de haz primario: Excitación remota de rayos X

Los electrones dispersados fuera del haz por interacciones elásticas con los átomos
del gas forman una "falda" amplia y no enfocada alrededor de la parte no dispersada y
enfocada del haz primario. Dependiendo de la energía del haz, las especies de gases
ambientales y la presión, y la longitud de la trayectoria del gas, la falda puede tener un
diámetro de milímetro o más.
Si bien una gran fracción, 50% o más, de la corriente del haz puede transferirse desde
el haz enfocado a la falda debido a la dispersión de gas, la densidad de la corriente de
electrones (A / cm2) en cualquier punto de la falda es mucho menor que en La viga
focalizada. Cuando se forma una imagen electrónica convencional al escanear una
combinación de haz / falda de este tipo sobre una matriz de píxeles, es la alta
densidad de corriente del haz enfocado lo que produce respuestas nítidas a través de
detalles finos de la topografía de la muestra y crea una imagen de alta resolución. La
falda, que puede contener incluso la mayoría de los electrones de haz, está tan
extendida y localmente difusa que, durante una exploración, particularmente a gran
aumento, la falda apenas se mueve en relación con las características finas que
forman los detalles interesantes de la imagen. El componente de falda dispersado por
gas está tan extendido que las señales de imágenes electrónicas que produce están
completamente desacopladas del entorno de imágenes local experimentado por el haz
enfocado. Por lo tanto, la falda simplemente agrega un nivel de estado estable (DC) no
específico a la señal medida que no varía significativamente con la posición de
exploración del haz enfocado primario. La topografía local en la escala del haz influye
únicamente en la señal relacionada con el haz.
Cuando consideramos el impacto de la falda de haz en la espectrometría de rayos X
en el VPSEM-ESEM, encontramos una circunstancia muy diferente. Los electrones de
la falda dispersados remotamente interactúan con los átomos de espécimen con los
que se encuentran, produciendo la característica y los rayos x continuos apropiados
para cada ubicación. Si estos rayos X producidos por los electrones de faldón están
dentro del ángulo sólido de aceptación del espectrómetro de rayos X, son
indistinguibles de los rayos X característicos y continuos producidos por la sonda
enfocada dentro de su volumen de interacción. El espectro de rayos X así medido es
en realidad un espectro compuesto con contribuciones del haz y la falda, pero el
analista no tiene una manera inmediata de distinguir qué rayos X son del haz
focalizado y cuáles son del borde.

La secuencia de espectros mostrada en la Fig. 4 revela que, dependiendo del grado

de dispersión de gas, el pico patológico debido a la contribución al espectro
compuesto de la dispersión remota sobre la matriz circundante puede tener la
apariencia de una traza, menor o mayor constituyente, Fig. 4 (a). La dispersión de
gases puede influir profundamente en la interpretación de un espectro y, por lo tanto,
afectar a ambas etapas del microanálisis de rayos X: (1) un análisis cualitativo en el
que los picos de la dispersión de gases se asignan a los constituyentes elementales
que no están realmente presentes en el espécimen muestreado por haz no
dispersado, y (2) análisis cuantitativo, en el que los elementos contribuidos por la
dispersión del gas alterarán el cálculo de corrección de la matriz introduciendo
correcciones innecesarias para la absorción, etc. Observando el espectro compuesto
obtenido de muestras con microestructuras complejas, como una fase discontinua de
escala fina en una fase de matriz, algunos de los primeros investigadores rápidamente
se sintieron consternados con las perspectivas de un microanálisis de rayos X útil en
VPSEM-ESEM y descartaron la técnica de forma prematura [6; E. Lifshin, Universidad
Estatal de Nueva York en Albany; comunicación privada]. Por lo restringido que
estaban de usar las rutas largas de gas en esta primera instrumentación, no es
sorprendente que estos primeros trabajadores hayan llegado a esta conclusión.
 a

Fig. 4. Dispersión remota de electrones de haz. Objetivo: cable de 500 m de diámetro de 40Cu-60Au (seleccionado del
material de referencia estándar NIST (SRM) 482 Aleaciones de cobre y oro) integrado en un disco de aluminio grande
(2,5 cm de diámetro); energía del haz 20 keV; incidencia normal. Presión: 50 Pa (0.4 torr); 200 Pa (1.5 torr); 600 (4,5
torr); 1000 Pa (7.5 torr); 1600 Pa (12 torr); (b) Gráfico de la relación de intensidad de rayos X Al-K / Cu-K frente a la
presión.

Los efectos de dispersión de gases tanto elásticos como inelásticos se pueden

reconocer en el mismo espectro. La figura 5 muestra un espectro de un vidrio NIST (K-
230) medido como un fragmento pequeño (aproximadamente 50 m de dimensiones)
colocado en una gran capa de carbono (2,5 cm de diámetro) a dos presiones
diferentes, 266 Pa y 1330 Pa [5] . La dispersión inelástica se puede reconocer como el
aumento en la intensidad relativa del pico de oxígeno K debido al vapor de agua
utilizado como gas ambiental en el espectro medido a la presión más alta. La
dispersión elástica se manifiesta en el aumento relativo del pico de carbono K en el
espectro medido a la presión más alta. Un segundo efecto, menos obvio, de la
dispersión elástica es el aumento en el fondo continuo y la menor relación entre el pico
y el fondo de los diversos picos espectrales (por ejemplo, ZnL, AlK, SiK, PbM, etc.)
causado cuando se dispersa el gas. remueve los electrones que interactuaron con el
fragmento de vidrio a la presión más baja pero que golpean la plancha de carbono a
una presión más alta, generando rayos X de pico de carbono K y un continuo en todas
las demás energías de fotones.

2.3 Efectos de carga

Una de las principales fortalezas de VPSEM-ESEM es la posibilidad de examinar los

materiales aislantes sin la necesidad de modificar la superficie con un revestimiento
conductor, como se debe hacer para el SEM convencional de alto vacío. En el
VPSEM, la dispersión inelástica del haz y los electrones retrodispersados con átomos
de gas crea electrones libres e iones positivos. Estas especies cargadas se atraen
automáticamente a las áreas cargadas en la superficie de la muestra, actuando así
para descargarlas. En el ESEM, el proceso de ionización de gas se complementa con
electrones secundarios, emitidos desde la superficie de la especie por dispersión
inelástica de haz y electrones retrodispersados, que se aceleran posteriormente por el
potencial aplicado del detector de electrones secundarios gaseosos. Una cascada de
ionización y multiplicación de electrones secundarios crea una densidad mucho mayor
de portadores de carga en el ESEM. Con esta forma de compensación de carga se
pueden observar imágenes estables de aisladores desnudos, incluso con agujeros
profundos

Fig. 5. Espectros de una partícula de NIST Glass K230 (aproximadamente 50 m en dimensión) en un disco de carbono
a presiones de 266 Pa (2 torr) y 1330 Pa (10 torr) que muestran un aumento en la contribución de la falda del carbono
también Como excitación directa del gas ambiental (vapor de agua) por haz y electrones retrodispersados.

Incluso si se puede obtener una imagen estable de un aislante, se debe tener cuidado
de que los efectos de carga puedan influir en el espectro de rayos X. El límite Duane-
Hunt, la energía continua que corresponde a la energía del haz incidente cuando llega
a la superficie de la muestra, es un diagnóstico útil para detectar condiciones de
carga. Los espectros se muestran con un eje de intensidad logarítmica que hace que
la determinación del límite de Duane-Hunt sea directa extrapolando el continuo de alta
energía a su intersección con el eje de energía en intensidad 0. Cuando la carga se
acumula en la superficie, actúa para acelerar el haz de electrones. Si esta carga es
negativa, como suele ser el caso de un haz de electrones que incide sobre una
superficie aislante, la carga negativa actuará para reducir la velocidad de los
electrones entrantes, de modo que la energía de aterrizaje sea menor que la energía
del cañón de electrones. Los fotones son indicativos de la naturaleza dinámica de la
carga, donde puede haber una descarga momentánea de los electrones acumulados,
seguida de una rápida acumulación. Durante el tiempo de la descarga, cuando los
electrones de haz no se desaceleran, se pueden crear unos pocos fotones cerca del
verdadero límite de Duane-Hunt, pero la carga está dominada por la mayor parte del
espectro. Los efectos de cargas pueden tener un impacto catastrófico tanto en el
microanálisis de rayos X cualitativo como en el cuantitativo al modificar severamente
las alturas de los picos relativos y, en algunos casos, suprimir por completo los picos
de alta energía.

3. Estrategias para lidiar con la dispersión de gas

Se han desarrollado varias estrategias para tratar la dispersión de gases y la inevitable
excitación de partes del espécimen a distancia de la interrogada por el haz directo.
Estas estrategias dependen del tipo de muestra que se examinará y el nivel de
información de la composición que se busca.

3.1 Selección de parámetros instrumentales para minimizar la dispersión

de gases
El tamaño de la falda y la extensión de la dispersión remota se pueden reducir:
Aumentando la energía del haz, reduciendo el número atómico promedio del gas
ambiental, por ejemplo, usando oxígeno en lugar de argón; reduciendo la presión del
gas ambiental a el mínimo consistente con la operación estable o con los requisitos
del experimento; aumentando la temperatura y disminuyendo la longitud de la
trayectoria del gas.
El reconocimiento de la importancia de la longitud de la trayectoria del gas en el
control del diámetro del faldón ha llevado a importantes avances en el diseño del
VPSEM-ESEM, especialmente para la operación en el régimen de mayor presión .
Para la clase de instrumentos ESEM, que son capaces de operar en el rango de
presión de 100 Pa a 2500 Pa ( 1 torr a 20 torr) o más, la dispersión de gas es
especialmente significativa, y reduce la longitud de la trayectoria de gas al mínimo
práctico Es necesario preservar la mayor resolución espacial posible.
Para el microanálisis de rayos X, la elección de la energía E del haz está
frecuentemente limitada por las especies elementales que se van a medir. La
generación de rayos X característicos depende en gran medida de la sobretensión,
que es la relación de la energía del haz incidente (E0) a la excitación crítica o energía
de borde (Ec), U = E0 / Ec.
Para microanálisis convencional realizado en sistemas de alto vacío, una regla general
es seleccionar una energía de haz incidente que sea un factor de 2 mayor que la
excitación elemental más energética medida al borde. La elección de una energía de
haz primario alta, 20 keV o más, proporciona una excitación eficiente de la parte
superior del rango de energía del fotón, y es una buena opción para el VPSEM-ESEM
ya que una energía de haz alta también sirve para minimizar la dispersión de gas. Sin
embargo, una consecuencia negativa de una alta energía del haz incidente es la
reducción relativa en la intensidad de la energía de fotones x rayos (3 keV) debido al
aumento de la absorción dentro del espécimen. La absorción se produce porque los
rayos X se generan más profundamente en el espécimen como resultado del mayor
rango de electrones del haz, que aumenta aproximadamente como E0 1.66.

3.3 Interceptando la viga no dispersada Bilde-Sorenson y Appel han

descrito un método.
Para estimar la contribución de la falda en base a comparando dos medidas, la
primera con la primaria viga y la falda golpeando el espécimen y la segunda después
de interceptar el haz primario con un haz. El segundo espectro se toma con el haz se
coloca en la lámina cerca de la muestra desnuda, lo que produce el espectro
compuesto del elemento de lámina más la contribución de la falda en la muestra.

El método de detención del haz implica la inserción del cable fino sobre la muestra
durante la operación, lo que requiere un micromanipulador, y si se está utilizando un
detector de electrones secundarios gaseosos (GSED), el cable conductor puede
interferir con la recolección. Campo de la GSED.

3.4 Método de normalización de Bremsstrahlung

Griffin y Nockolds han descrito un método para el microanálisis cuantitativo de rayos X

en el VPSEM-ESEM que utiliza una normalización interna basada en el uso de una
ventana de continuo de rayos X.

En las mediciones VPSEM-ESEM, la pérdida de intensidad debida a la dispersión de

gas fuera de la norma se manifestaría como una disminución de la intensidad medida
en la ventana de referencia continua en comparación con el valor esperado en una
medición de vacío convencional sin dispersión de gas. Los autores señalaron que esta
corrección dio como resultado mediciones cuantitativas de VPSEM-ESEM con una
precisión similar a la lograda en la práctica convencional para muestras de silicato
mineral.

3.5 Óptica de Enfoque de Rayos X

Los rayos X que se acercan a una superficie por debajo de un cierto ángulo crítico se
reflejan con alta eficiencia. El ángulo crítico depende de la energía y el material del
fotón y generalmente es menor que 0.01 rad. Un capilar proporciona un reflector
rotacionalmente simétrico que puede propagar los rayos X a lo largo de su longitud a
través de múltiples reflexiones de ángulo bajo.
VPSEM-ESEM debido a la falda de dispersión de gas para excluir los rayos X
producidos de forma remota y al mismo tiempo recolectar eficientemente los rayos X
producidos por la sonda enfocada. En la práctica, el mapeo de rayos X podría usarse
para establecer la posición del punto de transmisión máxima en relación con la
posición de la muestra para maximizar la eficiencia. Tal óptica tendría el beneficio
adicional de aumentar el ángulo sólido de recolección del EDS en relación con un
detector ordinario del mismo tamaño colocado a la misma distancia.

4. Microanálisis de Rayos X en VPSEM-ESEM: Influencia de la Configuración de

la muestra

4.1 Análisis Blank

Las muestras más complicadas serán consideradas progresivamente. Detrás de todas
las mediciones se encuentra el concepto crítico del "objetivo analítico", que es el nivel
de fondo irreducible de cada constituyente de interés contribuido por todos los
materiales presentes, excepto por el espécimen en sí. Determinar y minimizar el
objetivo analítico es especialmente importante para lograr un sólido microanálisis de
rayos X en el VPSEM-ESEM

4.1.1 El blanco analítico para el análisis de partículas: SEM convencional

Es el espectro del sustrato expuesto a todas las etapas de preparación de la muestra,
incluidas las transferencias en el entorno del laboratorio, pero sin que la muestra se
aplique al sustrato. El espectro obtenido del blanco contiene, picos de rayos X
derivados del sustrato y de los materiales de adhesión
 4.1.2 El blanco analítico para el análisis de partículas: VPSEM-ESEM
Para el análisis VPSEM-ESEM, el blanco analítico es más complicado y consta de dos
niveles, la preparación y el espacio en blanco operativo. El sustrato debe ser medido
en el VPSEM-ESEM en idénticas condiciones de especies gaseosas, presión, y la
longitud del paso del gas que se usará para las incógnitas. Por lo tanto, los efectos de
dispersión de gas, incluyendo la excitación de rayos X del gas del medio ambiente.
La figura 10 (a) muestra el espectro de Si-EDS de
un blanco de preparación de una plaqueta de
carbono, en el que se observa un pico importante de
carbono con un pequeño pico de oxígeno
procedente del vapor de agua utilizado como gas
ambiental.

La figura 10 (b) muestra el espectro de un

blanco de preparación de cinta de carbono (con
adhesivo en ambas superficies) montado sobre
una plancha de carbono similar medida en las
mismas condiciones. Se observa de nuevo un
pico de carbono importante, pero con un pico
de oxígeno sustancialmente mayor en
comparación con la figura anterior.

El blanco operacional para VPSEM-ESEM considera las contribuciones adicionales

que surgen del entorno real de la muestra preparada, por ejemplo, de las partículas
que rodean a la partícula de interés en una
dispersión depositada sobre un sustrato.
La figura 11 (a) muestra una dispersión de
partículas de NIST SRM 1633 (trazas de
metales en cenizas volantes) depositadas en
una cinta adhesiva de carbono de doble cara.
 La Figura 11 (b) muestra un ejemplo del blanco
analítico operacional para este conjunto de
partículas, medido en el lugar indicado en la
figura anterior.
Cuando esto se hace, las intensidades pico
medidas representan las contribuciones de la
lámina que golpea el sustrato y otras
particiones cercanas.
Se puede esperar que la pieza en blanco
operativa varíe con la posición del haz y con la
disposición exacta de las partículas, por lo que debe medirse en varios lugares para
determinar su variabilidad. La situación puede cambiar en otra área en el mismo
espécimen donde las partículas están más ampliamente dispersas, o donde hay
diferentes especies presentes, por lo que el espacio en blanco operativo debe
actualizarse continuamente para cada región local.

4.2 Partículas aisladas

4.2.1 Partículas dispersas en sustratos que contienen carbono
Las partículas se recogen a menudo en medios filtrantes no conductores como el
papel y los plásticos. Estos filtros pueden ser imposibles de examinar directamente en
el SEM convencional, incluso con recubrimientos pesados, porque la topografía
extrema del filtro conduce a una cobertura de recubrimiento inadecuada y a una carga
posterior. En tales casos, esto requiere la eliminación del sustrato y/o la transferencia
de las partículas.
La configuración óptima de la muestra para lograr un microanálisis de rayos X casi sin
compromisos en LVSEM-ESEM es la de partículas muy dispersas. Para determinar la
validez de los picos de oligoelementos, el analista debe estar preparado para examinar
cuidadosamente el blanco operacional asociado con cada partícula.

4.2.2 Reducción del fondo: uso de sustratos de lámina delgada

A medida que se reduce el tamaño de la partícula, las proporciones relativas del
espectro contribuido por el haz directo que golpea la partícula y por la pendiente que
golpea el sustrato desnudo y las partículas circundantes cambian. Mientras que la
contribución de la pendiente permanece constante, la intensidad de rayos X generada
por el haz directo sobre la partícula disminuye con el tamaño de la partícula,
especialmente para partículas con un grosor de aproximadamente 1 µm (es decir, la
dimensión a lo largo del haz). Una vez elegidos los parámetros operativos de la
energía del haz, las especies de gases ambientales, la presión del gas y la longitud de
la trayectoria del haz, la variable restante para reducir la contribución de la pendiente
al espectro compuesto es modificar el sustrato en sí. Se puede obtener un sustrato de
bajo grosor de masa con una película de carbón independiente (grosor nominal de 20
nm) apoyada en una rejilla de microscopio electrónico (por ejemplo, cobre, níquel o
carbono).
 4.2.3 Alternativas a los sustratos de carbono
Si el carbono es de interés en las partículas, otros
sustratos elementales de alta pureza, como el papel de
aluminio o las obleas de silicio, están fácilmente
disponibles. A menudo, el Al y el Si son interesantes en sí
mismos, por lo que estos materiales pueden no ser
opciones satisfactorias para el sustrato. Como alternativa,
el berilio de alta pureza sería de particular interés como
sustrato, ya que su radiografía característica es de una
energía tan baja (110 eV) que no es detectable por la
mayoría de los sistemas EDS. Desafortunadamente, el
berilio en forma de óxido de berilio es altamente tóxico, y
este hecho restringe en gran medida su uso.

4.3 Fibras
Si la muestra tiene la forma de una fibra individual, nuevamente es posible mejorar la
calidad del espectro de rayos X reduciendo o incluso eliminando completamente la
contribución de la pendiente del sustrato. Al colocar la fibra sobre un agujero ciego de
gran diámetro en un bloque de carbono, los electrones de la pendiente no tienen nada
con lo que interactuar dentro del ángulo sólido de aceptación del EDS y su
contribución se elimine de manera efectiva, excepto el gas ambiental en sí mismo. Un
ejemplo de este enfoque se ve en las imágenes en la Fig. 13 (a), donde una fibra de
vidrio NIST K230 (O = 0.0245 fracción de masa; Al = 0.0265 fracción de masa; Si =
0.0140 fracción de masa; Zn = 0.0402; Ba = 0.0896 fracción de masa; Ta = 0.0409
fracción de masa; Pb = 0.0418 fracción de masa), se suspende sobre un orificio
profundo de 3 mm de diámetro mientras está unido a cada extremo a una almohadilla
de cinta de carbono.

4.4 Espécimen a granel

4.4.1 Homogénea, monofásica
Las muestras a granel que son homogéneas en su composición en regiones grandes y
consisten en una sola fase se pueden analizar en VPSEM-ESEM sin dificultad
significativa. Siempre que las dimensiones del espécimen lateral excedan el diámetro
de la pendiente, según lo determinado con la ecuación. (1) y / o con la simulación de
Monte Carlo, entonces el efecto de la dispersión del gas es simplemente degradar el
tamaño de la sonda, pero en ausencia de una microestructura, esta degradación
espacial no es importante. Dado que la energía perdida durante la dispersión de gas
no es significativa, todos los electrones en la sonda ampliada, incluidos los de la
pendiente, son equivalentes en términos de excitación por rayos X.
El procedimiento de microanálisis de rayos X cuantitativo más riguroso se basa en la
medición de estándares como elementos puros o compuestos estequiométricos en las
mismas condiciones que la muestra desconocida, seguido del cálculo de la corrección
matricial para convertir las relaciones de intensidad de rayos X para cada pico en
relaciones de concentración. En principio, las intensidades estándar podrían medirse
para el haz no dispersado, mientras que el haz dispersado por gas con la misma
corriente total podría usarse para una muestra grande y homogénea.
En la práctica real, es muy difícil en el VPSEM-ESEM establecer esta equivalencia de
medición entre la muestra y los estándares debido a la propagación lateral del haz
dispersado que hace que una parte de los electrones falda golpeen la muestra
desconocida en áreas donde la eficiencia del EDS disminuye; situación que se
complica por el uso la rejilla de soporte para la ventana ultrafina. La eficiencia de la
ventana del detector depende de la posición en la que un rayo X golpea la ventana.
Cuando los rayos X se producen en una gran área espacial como en el caso del
VPSEM-ESEM, entonces la iluminación de la ventana EDS es mucho más compleja y
difícil de controlar. Con el cuidado suficiente en este posicionamiento y el uso de
bremsstrahlung para compensar las variaciones de dosis, Griffin y Nockolds han
demostrado resultados satisfactorios en el análisis cuantitativo de grandes muestras
de minerales con ESEM-EDS [12].
El mapeo de rayos X está sujeto a los artefactos que son peculiares al VPSEM-ESEM.
Lo más serio es la acción de la dispersión de gas del haz primario para degradar la
resolución espacial efectiva a través de la excitación remota de los rayos X. Una
consecuencia particular es la disminución en el contraste entre las fases a medida que
aumenta la longitud de la trayectoria del gas del haz; Este artefacto es especialmente
grave para muestras en masa donde los electrones dispersados a distancia excitan
rayos X característicos de las mismas especies elementales que en el área
cartografiada.

Fig. (a) y (b) muestran los resultados del mapeo de rayos X para los constituyentes
principales de Al y Ni de la aleación de níquel Raney en un rango de presiones. Los
mapas obtenidos a la presión más baja [133 Pa (1 torr) y una trayectoria de gas de 4
mm] mostraron tres fases principales distintas, claramente definidas por la variación en
las intensidades de Al y Ni.

Conclusiones
El microanálisis de rayos X en VPSEM y ESEM puede ser una herramienta útil para
complementar las imágenes SEM, pero el analista debe reconocer las limitaciones
inevitables que resultan de la dispersión de gas en comparación con el nivel de
rendimiento analítico alcanzado en un SEM convencional de alto vacío. El impacto de
la dispersión de gas tanto en el análisis cualitativo como en el cuantitativo
generalmente aumenta a medida que la concentración de un constituyente de interés
se reduce de mayor a menor. Si bien generalmente es posible lograr resultados útiles
para los constituyentes principales, es probable que los constituyentes menores y
traza se vean gravemente comprometidos. Para minimizar los efectos de la dispersión
de gas, la longitud de la trayectoria del haz de gas debe ser lo más corta posible.