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Para investigar a causa da perda do implante mandibular, avaliou-se a distribuição das tensões
no osso sob força de mordida quando o miniimplante estava próximo à raiz usando análise de
elementos finitos tridimensionais. Nossa análise envolveu quatro modelos de elementos finitos
com diferentes distâncias entre o implante e a raiz do dente adjacente e três condições de
carregamento. Com o carregamento do dente apenas ou ambos, o dente e o implante, o pico
de estresse dentro do osso ao redor do pescoço do implante, o deslocamento e a tensão ao
redor do osso aumentaram à medida que a distância entre o implante e a raiz diminuía. No
entanto, com carga separada do implante, o estresse não se correlacionou com a distância entre
o implante e a raiz. A aplicação da força de mordida aumenta o estresse dentro dos ossos ao
redor dos mini-implantes perto das raízes dos dentes adjacentes e pode ameaçar a estabilidade
do implante, mas a carga ortodôntica simples tem pouco efeito sobre a distribuição de tensões
na interface mini-implante-osso
INTRODUÇÃO
MATERIAIS E MÉTODOS
Fig. 2 O modelo de malha finita da mandíbula. (a) Mini-implante, (b) membrana periodontal, (c)
dente e (d) estruturas montadas com direções de carregamento ilustradas.
RESULTADOS
Quando o dente foi carregado separadamente (carga A), os valores de estresse e deslocamento
dentro do osso ao redor do pescoço do implante diminuíram significativamente à medida que a
distância entre o implante e a raiz aumentava. Os valores de pico de estresse no osso ao redor
do colo do implante foram 17,55, 16,98, 15,37 e 11,28 MPa nos Modelos 1 a 4, respectivamente
(fig. 3). Os valores de pico de deslocamento foram de 4,21, 4,57, 4,49 e 3,61 µm nos modelos 1
a 4, respectivamente (fig. 4). Notavelmente, a área que mostra obviamente aumento de estresse
e deslocamento foi localizada dentro do osso adjacente próximo à raiz do implante nos Modelos
1 e 2.
Fig. 3 Distribuição de tensão de Von Mises sobre a interface mini-implante-osso de acordo com
o longo eixo do mini-implante com aplicação de Load-A. Modelo 1, mini-implante tocando a raiz;
Modelo 2, mini-implante parcialmente embutido na membrana periodontal; Modelo 3, mini-
implante que toca na membrana periodontal; e o Modelo 4, mini-implante colocado a 1,0 mm
de distância da superfície do ligamento periodontal. O eixo x representa a distância ao longo do
tecido periimplantar desde o colo do implante até à cauda, e a região de 4,5 a 5,0 mm
corresponde a uma parte do implante que se aproxima da raiz do dente.
Fig. 4 Distribuição dos deslocamentos sobre o mini-implante - interface óssea de acordo com o
longo eixo do miniimplante com aplicação de Load-A: Model 1, miniimplante tocando a raiz;
Modelo 2, mini-implante parcialmente embutido na membrana periodontal; Modelo 3, mini-
implante que toca na membrana periodontal; e o Modelo 4, mini-implante colocado a 1,0 mm
de distância da superfície do ligamento periodontal. O eixo x representa a distância ao longo do
tecido peri-implantar do colo do implante até a cauda, e a região de 4,5 a 5,0 mm corresponde
a parte do implante que se aproxima da raiz do dente.
Os valores de pico de estresse no osso adjacente próximo à raiz do implante foram de 9,51, 6,95,
3,96 e 2,70 MPa nos Modelos 1 a 4, respectivamente (fig. 3).
DISCUSSÃO
Fig. 7 Distribuição de tensão de Von Mises no implante de osso ao redor do Modelo 1: a, o dente
foi carregado separadamente com carga A de 300 N. b, o implante foi carregado separadamente
com carga-B-a de 2 N.
Fig. 8 Distribuição de tensão de Von Mises no osso adjacente próximo à raiz do implante nos
Modelos 1: a, Load-A (o dente foi carregado separadamente com 300 N). b, Load-C-a (o dente
foi carregado com Load-A de 300 N e o implante foi carregado com Load-a).
RECONHECIMENTO
Este estudo foi apoiado pelo Fundo do Projeto de Apoio à Ciência e Tecnologia de 2012 da
Província de Hebei.
CONFLITO DE INTERESSES