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Acadmica: Louise Maria Janz Taborda Prof: Dr. Ivo Neitzel Disciplina: Controle de Processos
O nvel (h) deste tanque deve ser mantido constante (o mais prximo possvel do valor do Set Point SP = 3 m).
Para atingir este objetivo, o nvel do tanque medido pelo medidortransmissor (LT-101) e enviado ao controlador (LC-101).
O controlador, a partir de um algoritmo de controle calcula a ao que deve ser adotada e atua sobre a vlvula (VLC101).
A vazo, ao sair da vlvula, demora algum tempo para chegar ao tanque em funo do comprimento da tubulao existente. Este atraso denominado de tempo morto (tm).
ANLISE PRELIMINAR
Justificativa para a existncia do sistema de controle: Necessidade de controlar o nvel do tanque de modo a mant-lo constante. Varivel manipulada:Vazo de entrada. Varivel controlada: Nvel do tanque.
ANLISE PRELIMINAR
Critrios analisados: Sistema de controle adotado: PI. Analisar os valores de Kc e Ki de modo a manter o ISE mnimo. Analisar o tm atuando no processo.
DIAGRAMA DE BLOCOS
DIAGRAMA DE BLOCOS
1 Medidor: recebe a varivel controlada e tem como sada o valor medido da varivel controlada;
2 Erro: recebe o SP e o valor medido da varivel controlada e tem como sada o erro;
DIAGRAMA DE BLOCOS
Controlador (algoritmo de controle) PI:recebe o erro e tem como sada intensidade da ao corretiva;
Vlvula (elemento final): recebe a ao corretiva e tem como sada a varivel manipulada (controle da vazo de entrada);
DIAGRAMA DE BLOCOS
A varivel manipulada provoca uma perturbao no tanque com o objetivo de manter o controle do nvel (varivel controlada); Processo (Tanque): recebe a varivel manipulada e tem como sada a varivel controlada;
SIMULAO
Balano de Massa:
d(V)= Fe e - Fs s dt d(V)= Fe - Fs dt
d(A.H) = Fe Fs dt
= e= s
V=A.H
SIMULAO
erro =
t
= ISE = erro t
SIMULAO
Kv=0,5
SIMULAO: COM Kc e Ki = 0
Tempo morto
O tempo morto pode surgir atravs de 2 situaes: Mal funcionamento da vlvula; Comprimento ou queda de presso nas tubulaes; Comando do simulador para introduzir o tempo morto: V2= DELAY (m,15,0)
OBRIGADO!
SISTEMA 1:SIMPLES
SISTEMA 3:FEEDFORWARD
EVAPORADORES A considerao mais importante no controle da qualidade do concentrado de um evaporador o de forar a taxa de vazo de vapor para combinar com o fluxo de solvente na entrada da alimentao. Sistema 1: Simples feedback 2 laos interagindo entre si -Na sada do evaporador 2 tem um sistema de controle Feedback com o objetivo de medir o nvel do evaporador 2 no qual composto por:
- a vlvula de controle (elemento final) que recebe a ao de controle e tem como sada a varivel manipulada causando uma perturbao; - o processo P3 o bloco correspondente ao nvel do tanque desejado e recebe a varivel manipulada (vazo de sada de lquido) e tem como sada a varivel controlada (nvel de lquido no evaporador 2).
E tambm h um outro sistema de controle composto de: - medidor de concentrao localizado na sada da vlvula do sistema feedback ( a perturbao provocada pela vlvula afeta este segundo lao de controle); - controlador (AC) que faz anlise do controle de slidos e recebe:
E manda a ao de controle para outro controlador indicador de concentrao (AIC). O controlador AIC trabalha da mesma forma que os controladores citados anteriormente, que por sua vez, manda a ao de controle vlvula de alimentao do evaporador 1 (elemento final) da quantidade de vapor necessria, pois caso ocorra uma variao na alimentao do solvente, ocorre variao na concentrao e no nvel do evaporador 1.Assim preciso fazer a correo na vazo de vapor para mante-la constante.
- o processo P2, o bloco correspondente ao processo de controle da concentrao de slidos e recebe a varivel manipulada (vazo de entrada de vapor) e tem como sada a varivel controlada (concentrao de slidos na sada do evaporador 2) causando uma perturbao. LIMITAES: 1- A medida da concentrao de AC at chegar a AIC pode levar algum tempo e aps a correo feita at atingir a concentrao desejada na sada do evaporador 2 leva mais algum tempo ocasionando atraso e perdas no processo.
2- Na entrada de vapor do evaporador 1 pode haver quedas de presses nas tubulaes que afetam o desempenho da vlvula. SISTEMA 2 MELHOR CONTROLE DE VAPOR
No segundo sistema de controle implantado um sistema mestre & escravo para corrigir a limitao 2. Este sistema segue o mesmo princpio do anterior embora agora o controlador (AIC) envia a ao de controle calculada para o controlador de vazo de vapor (FC) e tambm recebe informaes do medidor de vazo de vapor e envia a resposta vlvula (elemento final).
o processo P1 o bloco correspondente ao controle da vazo de vapor na entrada do evaporador 1 que tem como varivel manipulada a vazo de vapor e varivel controlada a quantidade de vapor no evaporador 1;
- o processo P2 o bloco correspondente ao processo de controle da concentrao de slidos assim como no sistema 1; embora neste recebe a varivel manipulada (quantidade de vapor no evaporador 1) e tem como sada a varivel controlada (concentrao de slidos na sada do evaporador 2). Devido a no correo da limitao 1 o sistema mestre & escravo sofreu um aperfeioamento passando para o sistema feedforward (sistema 3).
ANLISE PRELIMINAR 1-Justificativa para existncia do sistema de controle: Manter a concentrao de slidos na sada constante de modo a controlar possveis variaes na alimentao. 2-No sistema a varivel manipulada : vazo da alimentao de vapor e a varivel controlada : concentrao de slidos. 3-Possveis perturbaes: queda de presso na vlvula de alimentao de vapor, variao na alimentao de soluo e demora na correo do sistema. 4-Fenmenos envolvidos: transferncia de calor e massa e mecnica dos fluidos.
OBSERVAO: AINDA FICOU PRA TERMINAR O LTIMO SISTEMA DOS EVAPORADORES, POIS PRECISO TIRAR DUVIDAS COM O PROFESSOR.