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Reator Qumico
Captulo-1 - Introduo HH 135 mmHg
PIC Vapor
gua
CONDENSADOR
TIC gua
1.3 Instrumentao de Processos Qumicos L
LL REATOR
Morna
gua
REFERVEDOR
Vapor
HH
1.5 Atrasos no Processo Condensado
HH
H TIC
H
L
74 C TI LIC 30 C
Slidos
HC 1850 AIC
CH3OH FIC kg/m3
0,18 t/t-ClO2
SMITH, C. A.; CORRIPIO, A. B. Principles and practice of automatic process control.Wiley & Sons, 1985
COUGHNOWR, D. R.; KOPPELL, L. B. Anlise e controle de processos.Rio de Janeiro: Guanabara Dois, 1978.
Stephanopoulos, G., Chemical Process Control, Englewood Cliffs, Prentice Hall, 1984.
Luyben, W.L. & Wenzel, L.A., Chemical Process Analysis, Englewood Cliffs, Prentice-Hall, 1988.
Prett, D.M. & Garcia, C.E., Fundamental Process Control, Boston, Butterworths, 1988.
Marco Antnio Ribeiro. Controle de Processo. 8a edio, Tek Treinamento & Consultoria, Salvador, BA, Verso 2005
Adalberto Luiz de Lima Oliveira (SENAI). FUNDAMENTOS DE CONTROLE DE PROCESSO. SENAI - Servio Nacional de
Aprendizagem Industrial. CTIIAF Centro Tcnico de Instrumentao Industrial Arivaldo Fontes. Vitria ES, 1999.
Ricardo de Arajo Kalid. CONTROLE DE PROCESSOS QUMICOS, ENG 009. Departamento de Engenharia Qumica
DEQ. Escola Politcnica EP. Universidade Federal da Bahia UFBA. Salvador, junho de 2004
REFERVEDOR
LIC
TROCADOR DE CALOR
REATOR
ABSORVEDOR
REATOR
450 C NH3, H2 e N2
REATOR
CONDENSADOR
2CO + 4H2 Fe
COMPRESSOR
N 2 e H2
PIC
Fluxorama
de
Produo
de
Uria
CO(NH2)2
12 NaClO3 + 8 H2SO4 + 3 CH3OH 12 ClO2 + 3 HCOOH + 9 H2O + 4 Na3H(SO4)2
CONDENSADOR
Morna ClO2 + Cl2
CONDENSADOR
Fluxograma gua
Fbrica
(gs)
TORRE
76 C
de 60 % nvel DE
ABSORO
Vapor
REFERVEDOR
Produo REATOR
gua
Morna
de Cond. H2O +
ClO2 + Cl2
Dixido TANQUE 31 C (gs + lquido)
de DE
METANOL
74 C
CH3OH , 96 %
Cloro Slidos
H2O + ClO2 + Cl2
(lquido)
0,18 t/t-ClO2 1850 kg/m3
Sesquisulfato
ClO2 TANQUE
DE
de Sdio
H2O + HCOOH
ClO2 + Cl2
50 % nvel
CLORATO Na3H(SO4)2 (gs + lquido)
DE SDIO NaClO3 TORRE
DE
1,65 t/t-ClO2 ABSORO
FILTRO
Na3H(SO4)2
Na2SO4
FILTRO Slido ClO2
(1% Cl2 + HCOOH) TANQUE DE
Slido Filtrados (cido)
gua 9,5 g/l , 9 C DIXIDO
gua 85 C Morna DE CLORO
45 C Morna
Na2SO4 Na2SO4 + Na3H(SO4)2 + cidos Vapor
Resduos
Fluxograma
de
Produo
de
cido
Sulfrico
H2SO4
Para controlar Medio adequada da varivel de processo
(Temperatura, presso, vazo, concentrao, etc.)
Manter a qualidade de
um produto, significa
manter a preciso e a
exatido desta varivel
que define a qualidade na
meta ou set-point,
continuamente no
processo, ou seja, todo o
tempo.
gua
Vapor Gelada
Absoro de ClO2 e Armazenagem
PIC
atm
Objetivo final obter uma soluo de dixido
170 mmHg EJETOR
de cloro na concentrao de 9,5 g/l a 9,0 C .
H2O + EXAUSTOR
ClO2 + Cl2
(gs)
Set Point Concentrao = 9,5 g/l (CIC)
CONDENSADOR
gua
Morna
gua
Fbrica
27 C
Set Point Temperatura = 9,0 C (TIC)
TORRE
DE
TIC ABSORO
A automao ou controle do processo obter
CIC HH
H
o mximo de preciso e exatido destas
0,5 g/l
H2O + ClO2 + Cl2 LIC L variveis do processo no set-points
(lquido) LL
especificados, durante todo o tempo de
TORRE funcionamento.
DE HH
ABSORO H
LIC TIC CI (g/l)
L
LL
9,5 g/l 9 C
ClO2 TANQUE DE HH SP = 9,5 tempo
H
CIC DIXIDO
DE CLORO LI L
FI
LL
1.2 Objetivos
Magntico
Tubo de Pitot
Medio de vazo de gases e vapores por placa de orifcio e compensao de presso e temperatura
Vlvulas de Controle ou Automtica
ATUADOR
POSICIONADOR
1.4 Malha de Controle
Controle em Manual sem Medio e Automao
Fluido Fluido
Frio Quente
Processo
Vlvula
manual
Set Point
Vapor Temperatura
Fluido Fluido
Frio Quente
Processo
Vlvula Medidor
automtica
Vapor
Atuador Set Point
Temperatura
Processo Qualquer operao ou sequncia de operaes, envolvendo uma mudana de estado, de composio,
de dimenso ou outras propriedades que possam ser definidas relativamente a um padro. Pode ser contnuo ou
em batelada.
Sistemas uma combinao de componentes que atuam conjuntamente e realizam um certo objetivo.
Varivel do Processo (PV) Qualquer quantidade, propriedade ou condio fsica medida a fim de que se possa
efetuar a indicao e/ou controle do processo (neste caso, tambm chamada de varivel controlada).
Set Point (SP) ou Set Valor (SV) um valor desejado estabelecido previamente como referncia de
ponto de controle no qual o valor controlado deve permanecer.
Distrbio (Rudo) um sinal que tende a afetar adversamente o valor da varivel controlada.
Desvio Representa o valor resultante da diferena entre o valor desejado e o valor da varivel controlada.
Ganho Representa o valor resultante do quociente entre a taxa de mudana na sada e a taxa de mudana na
entrada que a causou. Ambas, a entrada e a sada devem ser expressas na mesma unidade.
Controle em Malha Aberta e Malha Fechada
Os sistemas de controle so classificados em dois tipos: sistemas de controle em malha aberta e sistemas de
controle em malha fechada. A distino entre eles determinada pela ao de controle, que componente
responsvel pela ativao do sistema para produzir a sada.
aquele sistema no qual a ao de controle independente da sada, portanto a sada no tem efeito na ao
de controle. Neste caso, conforme mostrado na figura abaixo, a sada no medida e nem comparada com a
entrada.
Um exemplo prtico deste tipo de sistema , a mquina de lavar roupa. Aps ter sido programada, as
operaes de molhar, lavar e enxaguar so feitas baseadas nos tempos pr-determinados. Assim, aps concluir
cada etapa ela no verifica se esta foi efetuada de forma correta ( por exemplo, aps ela enxaguar, ela no
verifica se a roupa est totalmente limpa).
b) Sistema de Controle em Malha Fechada
aquele no qual a ao de controle depende, de algum modo, da sada. Portanto, a sada possui um efeito
direto na ao de controle. Neste caso, conforme pode ser visto atravs da figura abaixo, a sada sempre
medida e comparada com a entrada a fim de reduzir o erro e manter a sada do sistema em um valor
desejado.
Um exemplo prtico deste tipo de controle, bo controle de temperatura da gua de um chuveiro. Neste
caso, o homem o elemento responsvel pela medio da temperatura e baseado nesta informao,
determinar uma relao entre a gua fria e a gua quente com o objetivo de manter a temperatura da gua
no valor por ele tido como desejado para o banho (set point).
erro = SP - PV
Set Point MV PV
SP
DIAGRAMA DE BLOCOS EM MALHA FECHADA
Um sistema de controle pode consistir de vrios componentes, o que o torna bastante difcil de ser analisado.
Para facilitar o seu entendimento e a fim de mostrar as funes desempenhadas por seus componentes, a
engenharia de controle utiliza sempre um diagrama denominado Diagrama de Blocos.
Diagrama de blocos de um sistema uma representao das funes desempenhadas por cada componente e
do fluxo de sinais.
Assim, conforme pode ser visto na figura abaixo , os componentes principais de um sistema so representados
por blocos e so integrados por meio de linhas que indicam os sentidos de fluxos de sinais entre os blocos.
Estes diagramas so, ento utilizados para representar as relaes de dependncia entre as variveis que
interessam cadeia de controle.
Nota-se na figura o comportamento da
malha quando sujeita as perturbaes:
TT TIC
TCV
1
Os controladores normalmente so:
1 1 De tecnologia analgica ou digital.
De funo contnua ou descontnua.
De algoritmo geralmente PID ou outro.
(b)
a.) Controle automtico de temperatura num tanque de aquecimento
SP TIC SP PV TT
1 1
I/P
Fluido frio Fluido quente
PROCESSO
Te Ts
TCV MV
1
Sensor
vapo Medidor
vapor Vlvula TT
MV Automtica I/P 1
Vapor TCV Transdutor
1
-
Controlador erro
Ts Varivel controladora
Te, Qe, Tv, Qs Variveis Perturbadoras
Distrbios
Fluido Vapor Fluido
Frio Tv Quente
Te Qs
Qe
Fluido
Set Point erro I/P Vlvula
Mv Quente
Controlador Automtica PROCESSO
+ de vapor Ts
TIC
- 1
TCV
1
4 20 mA Sensor
Transdutor
Medidor
Transmissor
TT
1
Vemos outras alternativas de estratgias de controle para este processo :
Ts Qv
Te Qv
Ts Qs
Te Qs
Te e Ts Qv
Te e Ts Qs
Podemos ainda instalar um trocador de calor a montante do tanque de aquecimento para diminuir ou eliminar a oscilao
na temperatura T1 ou utilizar um tanque com um volume maior de modo a diminuir a oscilao na temperatura de sada T.
Adiantando conceitos :
Uma vez estabelecida a estratgia de controle necessrio determinar qual a lei ou algoritmo de controle para o
controlador. Uma possibilidade utilizar o controlador proporcional, no qual a mudana no fluxo de calor proporcional
diferena entre a temperatura desejada (TSP(t)) e a temperatura medida (T(t)):
Q(t) Qs = Kc .[ Tsp (t) - T(t) ] , onde Kc denominado ganho do controlador, sendo este parmetro ajustvel e
define a intensidade da correo a ser realizada sobre o processo, atravs de MV . Veremos no captulo 3.
b.) Controle automtico de vazo e de nvel num tanque
FCV
2
Qs
FIC PV FT
2 2
Estes controles so chamados de
realimentao ou de feedback. SP
Notem que apesar de trabalharem em
conjunto so totalmente independentes.
Representao em diagrama de blocos o sistema de controle de vazo e nvel do tanque :
CONTROLE DE VAZO
Distrbios
Qs Varivel controladora Fluido Nvel
tanque
Qe, Lt Variveis Perturbadoras entrada
Lt
Qe
Fluido
Set Point erro I/P Vlvula
MV Sada
Controlador Automtica PROCESSO
+ de vapor Qs
FIC
- FCV
2 2
PV
4 20 mA Sensor
Transdutor
Medidor
Transmissor
FT
2
CONTROLE DE NVEL
Distrbios
Lt Varivel controladora Fluido Fluido
Qe, Qs Variveis Perturbadoras entrada sada
Qe Qs
Nvel
Set Point erro I/P Vlvula
MV Tanque
Controlador Automtica PROCESSO
+ de vapor Lt
- LIC
LCV
1
1
PV
4 20 mA Sensor
Transdutor
Medidor
Transmissor
LT
1
c.) Controle automtico de presso num filtro pressurizado TIC
4
PCV
3
Qe
Filtro
Ps
PIC PV PT
Descarga
manual 3 3
FCV
2 SP
Qs
FIC PV FT
2 2
SP
Vazo, Nvel, Temperatura e Presso por Realimentao (Feedback)
PCV
3
Qe
Ps
Filtro
PIC PV PT
Descarga
manual 3 3
FCV
2 SP
Qs
condensado Ts
vapor MV
FIC PV FT
TT 2 2
PV
4
TIC PV SP
SP 4
Representao em diagrama de blocos o sistema de controle de presso do filtro :
CONTROLE DE PRESSO
Distrbios
Ps Varivel controladora Fluido Presso
entrada
Qs, Pe Variveis Perturbadoras entrada
Pe
Qe
Presso
Set Point erro I/P Vlvula
MV Sada
Controlador Automtica PROCESSO
+ de vapor Ps
- PIC
PCV
3
PV 3
4 20 mA Sensor
Transdutor
Medidor
Transmissor
PT
3
Para definir um sistema de controle necessrio:
(3) Estabelecer quais as variveis de processo que devem ser mantidas o mais prximo possvel dos valores
desejados (set point), denomina-se de variveis controladas;
(4) Estabelecer quais as variveis de processo que devem ser monitoradas (variveis medidas) a fim de
conhecer ou inferir os valores das variveis controladas ou das variveis de processo que podem interferir no
mesmo (perturbaes).
(5) Estabelecer quais os fluxos de massa e energia que devero ser modificados (variveis manipuladas) para
manterem as variveis controladas nos seus set point.
Capacitncia
A capacitncia de um processo um fator muito importante no controle automtico. uma medida das
caractersticas prprias do processo para manter ou transferir uma quantidade de energia ou de material com
relao a uma quantidade unitria de alguma varivel de referncia.
Resistncia
A resistncia uma oposio total ou parcial transferncia de energia ou de material entre as capacitncias. Na
figura abaixo, est sendo mostrado o caso de um processo contendo uma resistncia e uma capacitncia.
Observao :
O efeito combinado de suprir uma capacitncia atravs de uma resistncia produz um tempo de retardo na
transferncia entre capacitncias. Tal tempo de retardo devido resistncia-capacitncia (RC) frequentemente
chamado de atraso de transferncia.
Anlise de Atrasos no Processo :
PCV
3
Qe
Ps
Filtro
PIC PV PT
Descarga
manual 3 3
FCV
2 SP
Qs
FIC PV FT
2 2
SP
Supondo-se uma reduo (ou um degrau negativo) no set point de vazo Qs (FIC-2), tem como consequncia :
Fechamento da vlvula automtica FCV-2 at a vazo Qs atingir o novo SP estabelecido e entrar em controle.
Aps um determinado tempo (morto devido atraso na resposta, capacitncia do tanque e resistncia da FCV-2),o nvel
do tanque tende a aumentar e com isso a vlvula LCV-1 inicia o fechamento at que o nvel do tanque abaixe e atinja
novamente o SP estabelecido em LIC-1
Com o fechamento da FCV-2 , a presso Ps na sada do filtro tende a reduzir, o que faz com a vlvula PCV-2 fechee at
que a presso Ps (PIC-3) suba e atinja novamente o SP estabelecido anteriormente.
Todas estas etapas ocorrem nos tempos morto, de capacitncia e de resistncia, provocando o que chamamos regime
transiente, que o tempo necessrio para que o sistema atinja novamente o regime permanente ou de controle
1.6 Estratgias de Controle
Distrbios
TT
Fluido Fluido Fluido
3
entrada entrada sada
Sensor Fi1 Fi2
Transdutor Ti1 TCV
Medidor
Transmissor 2/3
feedforward
Controlador
TIC
3
Temperatura
I/P Vlvula
MV Sada
Automtica PROCESSO
de vapor T
Controlador
Feedback
TT
2
Nem todo processo requer a aplicao do controle preditivo antecipatrio. Inclusive, h processos
onde a implementao do controle antecipatrio impossvel ou impraticvel.
Como a implantao de um controle antecipatrio requer o uso de vrios ninstrumentos adicionais, a
sua aplicao deve se justificar economicamente.
Embora o sistema de controle antecipatrio seja menos usado que o sistema convencional a
realimentao negativa, sua aplicao se torna cada vez mais freqente. So reas de aplicao:
coluna de destilao e trocadores de calor,
neutralizao de pH,
controle de caldeira,
controle de mistura automtica de vrios componentes (blending).
b.) Controle por Cascata
Para se evitar altos ganhos em baixas vazes por causa das placas de orifcio, usam-se extratores de raiz
quadrada. Para diminuir o efeito do controlador de composio no nvel do lquido, a vazo B deve ser a menor das
duas vazes.
d.) Controle Override ou Seletivo (ou Auto Seletor)
Em condies normais, uma malha comanda a vlvula; em condies anormais, a outra malha assume
automaticamente o controle, mantendo o sistema dentro da faixa de segurana. O controle normal
cortado apenas durante o perodo necessrio para se restabelecer a segurana do sistema. Quando a
condio anormal desaparece, a malha normal assume novamente o controle.
e.) Controle de Combusto por Limites Cruzados
f.) Controle Split-Range ou Range Dividido
O controle de faixa dividida ou de splitrange consiste de um nico controlador manipulando dois ou mais
elementos finais de controle. Neste controle, mandatrio o uso do posicionador da vlvula. Os posicionadores
so calibrados e ajustados e as aes das vlvulas so escolhidas para que os elementos finais de controle sejam
manipulados convenientemente.
Por exemplo, uma vlvula pode operar de 0 a 50% do sinal e a outra de 50 a 100% do sinal de sada do
controlador.
Exemplo : Temperatura com dois
combustveis: